一种提高纳米印章抗粘性能的方法技术

技术编号:9688093 阅读:224 留言:0更新日期:2014-02-20 01:15
本发明专利技术公开了一种提高纳米印章抗粘性能的方法,包括如下步骤:(1)将纳米印章放入清洗溶液中清洁,然后吹干,转移到干燥环境中;(2)用异丙醇冲洗纳米印章5~10分钟;(3)将纳米印章放入无水异辛烷中5~10分钟;(4)在步骤(3)得到的纳米印章旋涂上抗粘层;(5)清洗纳米印章,然后用氮气吹干。本发明专利技术提供的提高纳米印章抗粘性能的方法操作步骤简单,能大大降低模板的自由能,缩短脱模时间,延长纳米印章的使用寿命。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种提高纳米印章抗粘性能的方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)将纳米印章放入清洗溶液中清洁,然后吹干,转移到干燥环境中,;(2)用异丙醇冲洗纳米印章5~10分钟;(3)将纳米印章放入无水异辛烷中5~10分钟;(4)在步骤(3)得到的纳米印章旋涂上抗粘层;(5)清洗纳米印章,然后用氮气吹干。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:王晶
申请(专利权)人:无锡英普林纳米科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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