基底处理工具制造技术

技术编号:9548308 阅读:96 留言:0更新日期:2014-01-09 06:23
一种基底处理设备包括框架、连接到框架上的第一SCARA臂,其包括构造成沿第一径向轴线延伸和收缩的末端执行器;连接到框架上的第二SCARA臂,其包括构造成沿第二径向轴线延伸和收缩的末端执行器,SCARA臂具有公共肩部旋转轴线;以及联接到SCARA臂上的驱动区段构造成使各个SCARA臂沿相应的径向轴线独立地延伸,且使各个SCARA臂围绕公共肩部旋转轴线旋转,其中第一径向轴线相对于第二径向轴线成角,且相应的臂的末端执行器与相应的径向轴线对准,其中各个末端执行器构造成用以保持至少一个基底,且末端执行器位于公共传递平面上。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】一种基底处理设备包括框架、连接到框架上的第一SCARA臂,其包括构造成沿第一径向轴线延伸和收缩的末端执行器;连接到框架上的第二SCARA臂,其包括构造成沿第二径向轴线延伸和收缩的末端执行器,SCARA臂具有公共肩部旋转轴线;以及联接到SCARA臂上的驱动区段构造成使各个SCARA臂沿相应的径向轴线独立地延伸,且使各个SCARA臂围绕公共肩部旋转轴线旋转,其中第一径向轴线相对于第二径向轴线成角,且相应的臂的末端执行器与相应的径向轴线对准,其中各个末端执行器构造成用以保持至少一个基底,且末端执行器位于公共传递平面上。【专利说明】基底处理工具相关申请的交叉引用 本申请为2011年3月11日提交的美国临时专利申请第61/451,912号的非临时申请,且涉及2011年11月10提交的名称为〃 DUAL ARM ROBOT〃美国专利申请第13/293,717号,两个申请的公开内容都通过引用以其整体并入本文中。
公开的实施例的方面大体上涉及基底处理工具,并且更具体地涉及基底输送设备。
技术介绍
大体上,在基底处理系统中,具有多个臂的传递机器人的臂的旋转与彼此相联,所以一个臂旋转时,其它臂也旋转。传递机器人的末端执行器大体上位于不同平面中,以便往返于保持地点的基底的快速调换(例如,一个末端执行器沿径向穿过另一个末端执行器上方/下方,以便当一个基底从保持站除去时,另一个基底大致同时地置于保持站处)大体上使用传递机器人或保持站的Z轴能力而发生。将有利的是使基底传递机器人的臂的旋转分离,以便各个臂能够独立操作。【专利附图】【附图说明】所公开的实施例的前述方面及其它特征在结合附图的以下描述中阐述,在附图中: 图1示出了根据公开的实施例的一个方面的基底处理设备的透视图; 图2为根据公开的实施例的一个方面的基底输送设备; 图2A示出了根据公开的实施例的一个方面的基底输送设备; 图2B-2J示出了根据公开的实施例的一个方面的基底输送设备; 图2K和图2L示出了示出根据公开的实施例的方面的末端执行器的旋转的示图; 图2M-20示出了根据公开的实施例的一个方面的末端执行器的旋转; 图2P和图2Q示出了根据公开的实施例的方面的末端执行器; 图3、图3A和图3B示意性地示出了根据公开的实施例的方面的驱动区段和基底输送设备的臂; 图3C-3H示出了根据公开的实施例的方面的基底输送设备的驱动区段;图4A-4G示出了根据公开的实施例的一个方面的图2中的基底输送设备的示例性操作; 图4H示出了根据公开的实施例的一个方面的输送室的侧视图; 图41-40示出了根据公开的实施例的一个方面的输送设备的示例性操作; 图5A和图5B示出了根据公开的实施例的一个方面的基底输送设备; 图5C、图和图5E示出了根据公开的实施例的一个方面的基底输送设备; 图5F和图5G示出了图5C-5E的输送设备的示例性操作; 图6示出了根据公开的实施例的方面的基底输送设备的驱动区段; 图7为根据公开的实施例的一个方面的延伸到处理模块中的示例性传递臂的简图; 图8-10为根据公开的实施例的一个方面的传递室的简图; 图11示出了根据公开的实施例的一个方面的传感器系统; 图12示出了根据公开的实施例的一个方面的基底输送设备; 图13为根据公开的实施例的一个方面的基底处理系统的简图; 图14为根据公开的实施例的一个方面的图13中的基底输送设备的简图; 图14A和图14B为根据公开的实施例的一个方面的图13中的基底输送设备的简图; 图14C和图14D为根据公开的实施例的方面的基底输送设备驱动系统的简图; 图15A和图15B示出了根据公开的实施例的一个方面的图13中的基底输送设备的臂延伸和收缩路径; 图16A-16G为根据公开的实施例的方面的基底输送设备的部分的简图; 图17A-图17C为根据公开的实施例的方面的基底输送设备的部分的简图; 图18为根据公开的实施例的一个方面的基底处理系统的简图;以及 图19A-19E为根据公开的实施例的一个方面的基底输送设备的简图。【具体实施方式】图1示出了结合公开的实施例的特征的基底处理设备100的透视图,且示出了基底215。尽管将参照附图来描述所公开的实施例,但应当理解的是,公开的实施例可具有许多备选形式。此外,可使用任何适合的尺寸、形状或类型的元件或材料。为了本文所述的公开实施例的方面的目的,例如,基底215可为半导体晶片,如,200mm、300mm、450mm或任何其它期望直径的基底、适于由基底处理设备100处理的任何其它类型的基底、坯件基底,或具有类似于基底的特征如一定大小或特定质量的制品。基底处理设备100为典型的基底处理工具,其示为具有普通的成批处理工具构造。在备选实施例中,基底设备可为任何期望的类型,如分类机、堆料机、计量工具等。在该实施例中,设备100可大体上具有常压区段105,例如,形成微环境,以及邻接的气氛隔离或密封(例如,与外部气氛密封)区段(例如,气氛密封区段)110,例如,该区段可装备成用作真空室。在备选实施例中,气氛密封区段110可保持惰性气体(例如,N2)或任何其它隔离气氛。在公开的实施例的一个方面中,常压区段105通常具有一个或多个基底保持盒115,以及常压机器人120。常压机器人120可为任何适合的机器人。仅出于举例的目的,常压机器人可大致类似于下文所述的传递机器人130,150。常压机器人120可适于将基底输送至常压区段105内的任何地点。例如,常压机器人120可在基底保持盒115、负载锁135与负载锁140之间输送基底。常压机器人120还可输送基底215往返于位于常压区段105内的对准器162。气氛密封的区段110可具有一个或多个处理模块PM1_PM6(本文中大体上称为处理模块125),以及真空机器人130。处理模块125可为任何类型,如,材料沉积、蚀刻、烘烤、抛光、离子注入清洁等。如可认识到的那样,各个处理模块125相对于期望的坐标系(如机器人坐标系)的位置可与控制器170套准。在公开的实施例的一个方面中,一个或多个处理模块还可在基底处理设备100内的基底上执行处理操作,其不同于由其它处理模块执行的其它处理操作。与各个处理模块125相关联的操作还可与控制器170套准。在备选实施例中,处理模块可执行相同的处理操作。气氛密封区段110还可具有称为负载锁135,140的一个或多个中间室。图1中所示的实施例具有两个负载锁,但在其它方面中,气氛密封区段110可具有任何适合数目的负载锁。负载锁135和140用作对接装置,以允许基底在常压区段105与气氛密封区段110之间传递,而不会破坏气氛密封区段110内密封的任何真空或其它气氛的完整性。根据公开的实施例的一个方面,处理模块和/或负载锁可布置在公共的基底输送平面(例如,用于基底往返于模块的输送路径可为共面的)。基底处理设备100大体上包括控制器170,控制器170控制基底处理设备100的操作。控制器170具有处理器173和存储器178。存储器178可包括用于实现本文所述的基底处理设备100及其构件的操作的计算机可读代码。例如,存储器178还可包括处理参数,如,处理模块和设备的区段105本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:U吉尔克里斯特RT卡夫尼J克里什纳萨米M德鲁JT穆拉
申请(专利权)人:布鲁克斯自动化公司
类型:
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1