抗扭转并联双驱运动解耦伺服平台制造技术

本发明专利技术公开了一种抗扭转并联双驱运动解耦伺服平台，包括：基座；下层和上层直线电机组；解耦组件；支撑组件，连接组件和伺服运动平台。根据本发明专利技术实施例的抗扭转并联双驱运动解耦平台，采用抗扭转并联双驱式结构，通过平台正下方两层交错排布的导轨实现平台解耦，各分列于平台外侧的平行支撑导轨抑制了平台的扭转，第一和第二水平方向的运动组件可以互换，便于加工及维护，并且在工作时更容易保证运动平台在运动时的水平度，采用双驱的设计使得驱动力经过运动质量中心有利于实现高速高精度控制。从驱动力电信号的输入到运动平台的运动的执行结果在每个运动方向上更加一致，有利于控制平面运动的轨迹轮廓精度。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种抗扭转并联双驱运动解耦伺服平台，其特征在于，包括：基座；上层直线电机组，所述上层直线电机组安装在所述基座上，所述上层直线电机组包括上层电机动子组和上层电机定子组，且所述上层电机定子组可驱动所述上层电机动子组沿第一水平方向移动；下层直线电机组，所述下层直线电机组安装在所述基座上，所述下层直线电机组包括下层电机动子组和下层电机定子组，且所述下层电机定子组可驱动所述下层电机动子组沿第二水平方向移动，其中所述第一水平方向和所述第二水平方向相互垂直；解耦组件，所述解耦组件分为上层和下层，所述解耦组件的上层包括沿第二水平方向延伸的上层滑块和与所述上层滑块相适配的上层解耦滑轨，所述上层解耦滑轨设在所述上层滑块和所述上层电机动子组之间，所述解耦组件的下层包括沿第一水平方向延伸的下层滑块和与所述下层滑块相适配的下层解耦滑轨，所述下层解耦滑轨设在所述下层滑块和所述下层电机动子组之间；支撑组件，所述支撑组件用于提供第一水平方向和第二水平方向的支撑与导向；连接组件：所述连接组件设在所述上层直线电机组和下层直线电机组与所述解耦组件之间；和运动平台，所述运动平台安装在所述解耦组件上。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张震，王鹏，刘衍，闫鹏，
申请(专利权)人：清华大学，
类型：发明
国别省市：