【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种精密对位平台,其特征在于包括:一底座,包括一着置面以及一构件装设面;一活动平台,设于底座的构件装设面上方一间隔高度位置处,该活动平台包括一加工台面以及一底面;至少两组导动装置,呈不同作动轴向分布型态组设连接于底座的构件装设面与活动平台的底面之间,导动装置藉以驱使控制活动平台产生平移调整运动;一可控制式磁吸接口,设于底座的构件装设面与活动平台的底面之间,包括:一导磁面域,设于底座预定区域;一磁吸座,组设定位于活动平台底面,该磁吸座通过控制导磁面域产生一磁吸作用力。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:庄运清,陈伟伦,
申请(专利权)人:高明铁企业股份有限公司,
类型:实用新型
国别省市:
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