加成-断裂剂制造技术

本发明专利技术公开了下式的加成-断裂剂：，其中，R1、R2和R3各自独立地为Z-Q-、(杂)烷基基团或(杂)芳基基团，前提条件是R1、R2和R3中的至少一个是Zm-Q-，Q是化合价为m+1的连接基团；Z是烯键式不饱和的可聚合基团，m是1到6；每个X1独立地为-O-或-NR4-，其中R4为H或C1-C4烷基，并且n为0或1。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：G·D·乔利，L·R·克里普斯基，A·R·福尔诺夫，S·尤尔特，B·N·加达姆，A·S·阿布尔雅曼，M·A·克罗普，
申请(专利权)人：三M创新有限公司，
类型：
国别省市：