绝缘结构体及其制造方法技术

技术编号:9116957 阅读:161 留言:0更新日期:2013-09-05 06:15
本发明专利技术形成一种同一层内具有存储单元部和周围电路部的绝缘结构体,其良好地维持存储单元部的微细图案的包埋性,同时防止周围电路部的绝缘体产生裂纹。本发明专利技术提供一种绝缘结构体,其为具备基板和该基板上形成的电路图案部的绝缘结构体,该电路图案部在同一层内具有微细区域和宽幅区域,所述微细区域具有宽度为30nm以下的微细图案,所述宽幅区域具有宽度超过100nm的宽幅图案,该微细图案的内部和该宽幅图案的内部形成有同一种绝缘组合物。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:土井一郎高田省三三岛丽子斋藤秀夫
申请(专利权)人:旭化成电子材料株式会社
类型:
国别省市:

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