本发明专利技术涉及一种高散热性能的激发光源用上腔室，包括矩形壳体，在所述矩形壳体的中部具有横截面为圆形的安装腔体，在所述安装腔体相对的两侧均开设有第一散热凹槽，在所述矩形壳体的一端设有凸起块，在所述凸起块的顶部设有光源照射孔，且所述光源照射孔与安装腔体相连通，在所述矩形壳体的另一端的两侧均开设有第二散热凹槽，在所述第二散热凹槽之间设有贯穿矩形壳体的散热通道。本发明专利技术结构简单，设计合理，在保证安装尺寸的基础上，最大限度的减少了上腔室使用的材料，增加了与空气接触的面积，并通过可安装散热铜管的散热通道，以提高其整体的散热性能，有效保证了激发光源在高功率的状态下工作的稳定性。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及激发光源
，尤其是一种高散热性能的激发光源用上腔室。
技术介绍
在公知的
，激发光源的上腔室决定了激发光源频率的稳定性，也确定了设备测试数据的准确性，恒温系统是保证设备精密度必不可缺的重要组成元件，当设备在高速运作时，设备内部将急剧产生大量的热量，如不及时散热，会导致激发光源的不稳定，从而导致分析数据失真，根据设备内部产生的热量，合理化设计出恒温系统腔室的尺寸，并通过精密设备加工出所需产品，从而保证了即使在高负荷的运转下热量也能迅速的散发，上腔室的散热性能的好坏直接影响到整个激发光源系统工作的稳定性。
技术实现思路
本专利技术要 解决的技术问题是:提供一种高散热性能的激发光源用上腔室。本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是:一种高散热性能的激发光源用上腔室，包括矩形壳体，在所述矩形壳体的中部具有横截面为圆形的安装腔体，在所述安装腔体相对的两侧均开设有第一散热凹槽，在所述矩形壳体的一端设有凸起块，在所述凸起块的顶部设有光源照射孔，且所述光源照射孔与安装腔体相连通，在所述矩形壳体的另一端的两侧均开设有第二散热凹槽，在所述第二散热凹槽之间设有贯穿矩形壳体的散热通道。进一步的，为了提高散热性能，本专利技术在所述矩形壳体上设有第二散热凹槽的一端开设有向安装腔体凸起的第三散热槽。进一步的，作为一种具体的连接形式，本专利技术且所述光源照射孔通过纵截面呈圆弧形的弯折管道与安装腔体相连通。进一步的，为了提高散热性能，本专利技术在所述散热通道设有散热铜管。进一步的， 为了提高散热性能，本专利技术在所述第二散热凹槽内卡设有散热片。本专利技术的有益效果是:本专利技术结构简单，设计合理，在保证安装尺寸的基础上，最大限度的减少了上腔室使用的材料，增加了与空气接触的面积，并通过可安装散热铜管的散热通道，以提高其整体的散热性能，有效保证了激发光源在高功率的状态下工作的稳定性。附图说明下面结合附图和实施例对本专利技术进一步说明。图1是本专利技术的结构示意 图2是本专利技术的底面的结构示意 图中:1.矩形壳体，11.第三散热槽，2.安装腔体，21.第一散热凹槽，3.第二散热凹槽，4.凸起块，41.光源照射孔，5.散热通道。具体实施例方式现在结合附图对本专利技术作进一步详细的说明。这些附图均为简化的示意图，仅以示意方式说明本专利技术的基本结构，因此其仅显示与本专利技术有关的构成。如图1和图2所示的本专利技术一种高散热性能的激发光源用上腔室的优选实施例，包括矩形壳体1，在所述矩形壳体I的中部具有横截面为圆形的安装腔体2，在所述安装腔体2相对的两侧均开设有第一散热凹槽21，在所述矩形壳体I的一端设有凸起块4，在所述凸起块4的顶部设有光源照射孔41，且所述光源照射孔41与安装腔体2相连通，在所述矩形壳体I的另一端的两侧均开设有第二散热凹槽3，在所述第二散热凹槽3之间设有贯穿矩形壳体I的散热通道5，在所述矩形壳体I上设有第二散热凹槽3的一端开设有向安装腔体2凸起的第三散热槽11，且所述光源照射孔41通过纵截面呈圆弧形的弯折管道与安装腔体2相连通，在所述散热通道5设有散热铜管，在所述第二散热凹槽3内卡设有散热片。以上述依据本专利技术的理想实施例为启示，通过上述的说明内容，相关工作人员完全可以在不偏离本项专利技术技术思想的范围内，进行多样的变更以及修改。本项专利技术的技术性范围并不局限于说明书上的 内容，必须要根据权利要求范围来确定其技术性范围。权利要求1.一种高散热性能的激发光源用上腔室，包括矩形壳体，其特征在于:在所述矩形壳体的中部具有横截面为圆形的安装腔体，在所述安装腔体相对的两侧均开设有第一散热凹槽，在所述矩形壳体的一端设有凸起块，在所述凸起块的顶部设有光源照射孔，且所述光源照射孔与安装腔体相连通，在所述矩形壳体的另一端的两侧均开设有第二散热凹槽，在所述第二散热凹槽之间设有贯穿矩形壳体的散热通道。2.如权利要求1所述的一种高散热性能的激发光源用上腔室，其特征在于:在所述矩形壳体上设有第二散热凹槽的一端开设有向安装腔体凸起的第三散热槽。3.如权利要求1所述的一种高散热性能的激发光源用上腔室，其特征在于:且所述光源照射孔通过纵截面呈圆弧形的弯折管道与安装腔体相连通。4.如权利要求1所述的一种高散热性能的激发光源用上腔室，其特征在于:在所述散热通道设有散热铜管。5.如权利要求1所述的一种高散热性能的激发光源用上腔室，其特征在于:在所述第二散热凹槽内卡设有散热片。 ·全文摘要本专利技术涉及一种高散热性能的激发光源用上腔室，包括矩形壳体，在所述矩形壳体的中部具有横截面为圆形的安装腔体，在所述安装腔体相对的两侧均开设有第一散热凹槽，在所述矩形壳体的一端设有凸起块，在所述凸起块的顶部设有光源照射孔，且所述光源照射孔与安装腔体相连通，在所述矩形壳体的另一端的两侧均开设有第二散热凹槽，在所述第二散热凹槽之间设有贯穿矩形壳体的散热通道。本专利技术结构简单，设计合理，在保证安装尺寸的基础上，最大限度的减少了上腔室使用的材料，增加了与空气接触的面积，并通过可安装散热铜管的散热通道，以提高其整体的散热性能，有效保证了激发光源在高功率的状态下工作的稳定性。文档编号H01S3/04GK103236632SQ20131017601公开日2013年8月7日 申请日期2013年5月13日 优先权日2013年5月13日专利技术者朱德平 申请人:苏州工业园区艺达精密机械有限公司本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种高散热性能的激发光源用上腔室，包括矩形壳体，其特征在于：在所述矩形壳体的中部具有横截面为圆形的安装腔体，在所述安装腔体相对的两侧均开设有第一散热凹槽，在所述矩形壳体的一端设有凸起块，在所述凸起块的顶部设有光源照射孔，且所述光源照射孔与安装腔体相连通，在所述矩形壳体的另一端的两侧均开设有第二散热凹槽，在所述第二散热凹槽之间设有贯穿矩形壳体的散热通道。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：朱德平，
申请(专利权)人：苏州工业园区艺达精密机械有限公司，
类型：发明
国别省市：
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