光学视野调整方法技术

一种光学视野调整方法，包括：光电耦合器、透镜及发射光源；本发明专利技术系应用于光学检测设备中，透镜位于光电耦合器之前方，发射光源投射于反射组件后反射至待测物上，而后入射至透镜及光电耦合器，该透镜及光电耦合器与法线形成第一夹角，反射组件反射至待测物之反射线与法线形成第三夹角，反射组件与法线平行延伸线形成第二夹角。本发明专利技术利用反射组件所夹之第三夹角进行水平与垂直方向之位置与角度移动调整，改善传统技术中直接针对体积庞大且移动不易之发射光源机台位置调整之缺失，仅透过微调轻薄微型之反射组件即可对发射光源完成视野明暗度调整。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种，其用反射镜片组件所夹之第三夹角进行水平方向横移达成调整发射光源明暗视野亮度之目的。
技术介绍
明视野观察原理系将光线均匀照射在待测物上，捕捉透射物品或反射回来的光线之观测方式，然后从物品的光线透射率或反射率的对应数值计算出所观测图像之对比值，属于最基本的观测方法。暗视野观察原理系光线经由暗视野聚光镜不直接照射在待测物上，而是仅将光线斜射于待测物上，利用聚光镜内部反射所产生的绕射光照射在待测物表面，因此只捕捉物品表面之散射光线，经此产生背景暗、主体发光之效果。实际应用时，通常检测设备针对印刷电路板、各种尺寸液晶面板、半导体晶圆、晶粒或芯片、照射镜片或透明玻璃等相关具镜面材质之样品当观测物显示图像背景变暗，则其细微的伤痕或凹凸缺陷处所反射出来的散射光线就能被检测仪器清楚看见，此时即称为暗视野观测，由于某些特定情况下，电路板、液晶面板、晶圆、镜片或玻璃等相关具镜面材质之样品皆存在非常微细且肉眼无法察觉之缺陷及凹凸不平整，利用普通明视野观测并无法及时察觉，此时必须透过高灵敏度精密检测装置应用暗视野观测方式将待测物微细缺陷指出。如图1所示，是传统发射光源调整之光学状态仿真示意图。首先固定发射光源I与线性扫描取像系统之工作距离，然后将取像系统角度调整固定，即摄影机2与镜头3以及待测物4入射光线路径与第一法线5所夹之左侧夹角0 11，然后透过搬移发射光源I构件位置移动程序，完成光源系统对准固定至右侧夹角0 12，透过操作人员实际需求，调整至明视野(光线反射)或暗视野(光线漫射)状态，也可以是明暗视野状态，就是介于明暗视野交界之中间区域。经由上述说明得知传统光源系统明暗视野状态调整必须直接利用搬移发射光源I构件位置完成校准程序，当待测物体积及重量愈庞大时，则发射光源I构件体积及重量也会相对更加庞大，如此将造成操作更加不方便且校准精度也会受影响
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种反射镜片设计，将反射组件与法线延伸线所夹之第三夹角进行水平与垂直方向之位置与角度移动调整，改善传统技术中直接针对体积庞大且移动不易之发射光源机台位置调整之缺失，仅透过微调轻薄微型之反射组件即可对发射光源完成视野明暗度调整。为实现上述的目的，本专利技术提出了一种，包括:光电耦合器、透镜及发射光源；本专利技术系应用于光学检测设备中，透镜位于光电耦合器之前方，发射光源投射于反射组件后反射至待测物上，而后入射至透镜及光电耦合器，该透镜及光电耦合器与法线形成第一夹角，反射组件反射至待测物之反射线与法线形成第三夹角，反射组件与法线平行延伸线形成第二夹角。本专利技术利用反射组件所夹之第三夹角进行水平与垂直方向之位置与角度移动调整，改善传统技术中直接针对体积庞大且移动不易之发射光源机台位置调整之缺失，仅透过微调轻薄微型之反射组件即可对发射光源完成视野明暗度调整。透过反射镜片之设计，将反射组件设置于发射光源投射路径上，由于反射组件反射至待测物之反射路径与法线会形成一第三夹角，而反射组件与法线平行延伸线也会形成一第二夹角，当待测物需要进行明暗视野调整时，先以下列数学方程式计算出第三夹角需位移之角度，然后直接透过反射组件水平与垂直方向之位置与角度移动调整，将反射组件微调至数学方程式计算出之第三夹角移动数值与调整角度，经此完成发射光源视野明暗度调整。(90 度-2* θ 2) = 0 3另外，由于反射组件选用反射镜片材质组成，其反射效率较佳且光源能量损耗低，即使计算出之调整角度数值极为渺小，同样能藉由轻薄微型之反射组件轻易达成水平与垂直方向之位置与角度调整目的。附图说明图1是习知技术之光学状态仿真示意图。图2是本专利技术第一实施例之光学状态仿真示意图。图3是本专利技术第二实施例针对反射组件水平方向位置横移之光学状态仿真示意图。图4是本专利技术第三实施例针对反射组件垂直方向角度微调之光学状态仿真示意图。附图标号说明:I发射光源2摄影机3镜头4待测物5第一法线0 11左侧夹角0 12右侧夹角 21光电耦合器22透镜23发射光源24反射组件25待测物26第二法线0 1第一夹角0 2第二夹角0 3第三夹角具体实施例方式如图2所示，本专利技术主要应用于光学检测设备中，包括:光电耦合器21、透镜22及发射光源23 ;透镜22位于光电稱合器21之前方,发射光源23投射于反射组件24后反射至待测物25上，而后入射至透镜22及光电耦合器21，该待测物25至透镜22及光电耦合器21之光束路径与第二法线26形成一第一夹角0 1，反射组件24反射至待测物25之反射线与第二法线26会形成一第三夹角0 3，其中待测物25水平表面皆与第二法线26互相垂直，反射组件24与第二法线26平行延伸线则形成一第二夹角9 2。上述中，透过反射组件24之镜片设计，当发射光源23欲进行明视野或暗视野之投射状态调整时，经由(90度-两倍第二夹角)=第三夹角之数学方程式，得到反射组件24与第二法线26所夹之第三夹角e 3水平或垂直方向需移动位置距离数值与调整角度，计算完成只需针对反射组件24微调即可将发射光源23视野明暗度加以调整，该第三夹角0 3位移距离及调整角度数学计算方程式如下所列:(90 度-2* 0 2) = 0 3上述中，由于本专利技术之反射组件24选用反射镜片材质组成，其反射效率佳且光源能量损耗低，当待测物25至透镜22及光电耦合器21之光束路径与第二法线26形成之第一夹角0 I调整固定后，此时第一夹角0 I即为取像系统之固定值，因此即使计算出之第三夹角9 3数值极为渺小，同样能藉由轻薄微型之反射组件24轻易达成水平与垂直方向之位置与角度校准目的，完全不需考虑如何针对发射光源构件进行微调，同时校准精度更加准确。如图3所示，针对反射组件水平方向位置横移之光学状态仿真示意图。如同前述第一实施例所述，当发射光源23欲进行明暗视野微调时，经由数学方程式求出第三夹角0 3之角度，然后将反射组件24进行前后水平方向位置距离移动，使发射光源23视野明暗度具有最佳取像系统角度。如图4所示，针对反射组件垂直方向角度微调之光学状态仿真示意图。本实施例与上述第二实施例大致相同，其差异仅在于当第三夹角e 3利用数学方程式求出需微调角度数值后，将反射组件24进行垂直方向高低位置距离移动，经此获得发射光源23最佳视野明暗度。综上所述，通过本专利技术的反射组件24镜片设计，确实能有效针对发射光源23取像系统角度之视野明暗度作最佳化调整，且校准精密度更加准确，完全改善习知技术直接移动发射光源23构件方式之缺失及不便。惟以上所作的说明及图面的显示均仅为利用本专利技术的技术手段所呈现的单一较佳实施例而已，自不能用以限制本专利技术的权利范围，举凡所属
中具有通常知识者援引本专利技术的精神所作的等效修饰或变化设计，皆应为申请专利范围的叙述所涵盖，合先陈明。权利要求1.一种，应用于光学检测设备中，包括:光电耦合器，透镜位于光电耦合器前方，其特征在于:发射光源投射于反射组件后反射至待测物上，而后入射至透镜及光电耦合器，透镜及光电耦合器与法线形成一第一夹角，反射组件反射至待测物之反射线与法线形成一第三夹角，反射组件与法线平行延伸线形成一第二夹角，透过反射组件位置校准程序进行发射光源视野明暗度调整，其调整方式系将反射组件所夹之第三夹角进行水平与垂直方向之位置与角本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学视野调整方法，应用于光学检测设备中，包括：光电耦合器，透镜位于光电耦合器前方，其特征在于：发射光源投射于反射组件后反射至待测物上，而后入射至透镜及光电耦合器，透镜及光电耦合器与法线形成一第一夹角，反射组件反射至待测物之反射线与法线形成一第三夹角，反射组件与法线平行延伸线形成一第二夹角，透过反射组件位置校准程序进行发射光源视野明暗度调整，其调整方式系将反射组件所夹之第三夹角进行水平与垂直方向之位置与角度移动调整。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：高志豪，方志恒，
申请(专利权)人：由田信息技术上海有限公司，
类型：发明
国别省市：