一种原料供给装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种原料供给装置，用于给清洗装置提供原料，其中，该装置包括一条提供化学品的管路和提供去离子水的管路，这两条管路共同连接到一条管路中以便将混合原料提供给清洗装置；该装置中还包括设置在所述两条管路上的数字流量器，用于测量流经对应管路的原料流量。所述的两条管路均分别设有调节钮，用于调节对应管路的原料流量。所述数字流量器连接一个显示屏，显示屏可以设置在原料供给装置外部，用于显示数字流量器测量的原料流量。本实用新型专利技术通过数字计量器可精确测量原料流量且显示在显示屏上。操作员可以精确获知化学品和去离子水的流量，精确调控流量，不仅能彻底清洗晶片表面，还能最大程度减少原料的用量，有效节约生产成本。（*该技术在2017年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及化学机械研磨的晶片清洗，尤其涉及一种原料供给装置。技术背景如图1所示，现有技术中，与清洗装置3相连接的原料供给装置5包括两 条并连的管路， 一条管路是供应化学品的管路，该管路上设置一个调节钮11和 与调节钮ll串联的浮标式流量器13;另一条管路是供应去离子水的管路，该管 路上设置一个调节钮21和与调节钮21串联的浮标式流量器23。这两条管路提 供的化学品和去离子水共同汇入一条管路，并连接到清洗装置3。调节钮11和21分别用于控制管路原料的流量，浮标式流量器13和23分 别用于显示对应管路的原料流量的刻度。然而，由于在实际操作中，该原理供 给装置的位置设置的偏低，而浮标式流量器13和23又是通过浮标来指明刻度， 实际操作中，人员通常由于该刻度不在其视线的水平位置，从而导致刻度读取 很容易出现误差。这种误差会导致化学品和去离子水的比例出现误差，如果化 学品的比例过低，晶片表面清洗的不够干净，降低晶片良率；如果化学品的比 例过高，显然造成了浪费并相应地提高了生产成本。因此，现需要一种改进的原料供给装置。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种改进的原料供给装置，其可以准确获知原 料供给量。为实现上述目的，本技术提供一种原料供给装置，用于给清洗装置提 供原料，其中，该装置包括一条提供化学品的管路和提供去离子水的管路，这 两条管路共同连接到一条管路中以便将混合原料提供给清洗装置；该装置中还 包括设置在所述两条管路上的数字流量器，用于测量流经对应管路的原料流量。所述的两条管路均分别设有调节4丑，用于调节对应管路原料流量。 所述数字流量器连接一个显示屏，显示屏可以设置在原料供给装置外部， 用于显示数字流量器测量的原料流量。与现有技术相比，本技术设置了数字计量器，其可以精确测量原料流 量且将该原料流量转换为数字信号，显示在与其连接的显示屏上。操作员则可 以精确获知化学品和去离子水的流量，可以根据制程的实际要求，精确调控流 量，不仅使供给清洗装置的原料能彻底清洗晶片表面，而且还能最大程度减少 原料的用量，有效节约生产成本。附图说明通过以下对本技术的一实施例结合其附图的描述，可以进一步理解其技术的目的、具体结构特征和优点。其中，附图为 图l是现有技术原料供给装置的结构示意图。 图2是本技术原料供给装置的结构示意图。具体实施方式请参阅图2，本技术提供的一种原料供给装置1包括两个调节钮11和 21，浮标式流量器13和23,数字流量器15和25以及显示屏17和27。调节钮 11，浮标式流量器。及数字流量器l5串联构成一争用于提供化学品的管路。 调节钮21，浮标式流量器23及数字流量器25串联构成一条用于提供去离子水 的管路。这两条管路共同连接到一条管路中，该管路将混合原料提供给清洗装 置3。调节钮11和21用于调节对应管路的原料的流量大小，^字流量器15和25 用于测量对应管路的原料流量，并将该管路的原料流量转换为数字信号，通过 显示屏17和27显示。显示屏17和27可以外接到原料供给装置1的外部。在本技术较佳实施例中，数字流量器15和25是采用容积式流量器， 它是以螺旋的转速，将转子转数的累计转化为原料流量的计量。在其他实施例 中，也可以采用其他数字流量器。在本技术较佳实施例中，为了最大程度简化改进工艺，是直接增设了两个数字流量器15和25，在本技术其他实施例中，也可以将浮标式流量器 13和23直接拆除，而直接改用数字流量器15和25。此外，调节钮11和21可 以集成到浮标式流量器11和13上，或者可以集成到数字流量器15和25。本技术采用的数字计量器15和25可以精确测量原料流量且将测量结 果转换为数字信号，并显示在与其连接的显示屏上。操作员则可以精确获知化 学品和去离子水的流量，可以根据制程的实际要求，精确调控流量，不仅使供 给清洗装置的原料能彻底清洗晶片表面，而且还能最大程度减少原料的用量， 有效节约生产成本。权利要求1、一种原料供给装置，用于给清洗装置提供原料，其特征在于该装置包括一条提供化学品的管路和提供去离子水的管路，这两条管路共同连接到一条管路中以便将混合原料提供给清洗装置；该装置中还包括设置在所述两条管路上的数字流量器，用于测量流经对应管路的原料流量。2、 如权利要求1所述的一种原料供给装置，其特征在于所述的两条管路均分 别设有调节钮，用于调节对应管路的原料流量。3、 如权利要求l所述的一种原料供给装置，其特征在于所述数字流量器连接 一个显示屏，显示屏可以设置在原料供给装置外部，用于显示数字流量器测量 的原料流量。专利摘要本技术提供一种原料供给装置，用于给清洗装置提供原料，其中，该装置包括一条提供化学品的管路和提供去离子水的管路，这两条管路共同连接到一条管路中以便将混合原料提供给清洗装置；该装置中还包括设置在所述两条管路上的数字流量器，用于测量流经对应管路的原料流量。所述的两条管路均分别设有调节钮，用于调节对应管路的原料流量。所述数字流量器连接一个显示屏，显示屏可以设置在原料供给装置外部，用于显示数字流量器测量的原料流量。本技术通过数字计量器可精确测量原料流量且显示在显示屏上。操作员可以精确获知化学品和去离子水的流量，精确调控流量，不仅能彻底清洗晶片表面，还能最大程度减少原料的用量，有效节约生产成本。文档编号B24B55/00GK201049440SQ20072007076公开日2008年4月23日 申请日期2007年6月8日 优先权日2007年6月8日专利技术者陈肖科 申请人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种原料供给装置，用于给清洗装置提供原料，其特征在于：该装置包括一条提供化学品的管路和提供去离子水的管路，这两条管路共同连接到一条管路中以便将混合原料提供给清洗装置；该装置中还包括设置在所述两条管路上的数字流量器，用于测量流经对应管路的原料流量。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：陈肖科，
申请(专利权)人：中芯国际集成电路制造上海有限公司，
类型：实用新型
国别省市：31[中国|上海]