整体式卫浴室制造技术

本实用新型专利技术提供一种整体式卫浴室，在设置于整体式卫浴室的低落的沐浴区域的地面上，不设置排水口及排水沟，构成平坦的地面，并通过将沐浴区域排水的排水口及排水口盖设置在干燥区域侧、且远离整体式卫浴室墙面的位置，从而缩短沐浴区域地面的排水倾斜的长度，不需要向排水口导水的排水沟，从而提高易清洁性、便利性及美观性。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种具有排水结构的整体式卫浴室。
技术介绍
我们知道以往的由配备有沐浴装置的沐浴区、配备有便器的厕所区、以及配备有盥洗台的盥洗区等构成的整体式卫浴室。所述整体式卫浴室的地面，包括沐浴区的淋湿区域和厕所区及盥洗区的干燥区域。在所述整体式卫浴室中，为了在使用沐浴装置时防止水从淋湿区域流向干燥区域，专利文献I公开了如下结构:使沐浴空间比厕所空间低落，沿整体式卫浴室的墙面设置排水沟，并在洗浴区内角落部设有排水口及排水口盖。另外，专利文献2还公开了一种整体式卫浴室:将整体式卫浴室的地面形成略平的平面，在沐浴空间与厕所空间的边界部分设置排水沟及排水沟盖，而且在内壁侧设有排水口及排水口盖，在整体式卫浴室的出入口部分设置排水沟及排水沟盖作为水流尽头。先行技术文献专利文 献专利文献I日本国特许公开平8-254028号公报专利文献2日本国特许公开2000-336955号公报技术要解决的技术课题在专利文献I记载的以往技术中，由于在沐浴区内配置了排水沟及排水口盖，使本就狭窄的沐浴区域的地面面积更小。由于形成了排水沟的凹部，使得地面难以清扫，且不够美观。另外还将排水口配置在沐浴区内的角落部，这样就会由于整体式卫浴室的左右墙面的阻碍，导致排水口内部难以清扫等的问题。在专利文献2记载的以往技术中，由于设置了排水沟盖，因而部件数量增加，提高了制造成本。随着排水沟盖的清扫次数的增加，使得清扫操作更加麻烦。排水口被设置在靠近整体式卫浴室墙面的沐浴空间与厕所空间的边界部分，因而会防碍排水口内部的清扫操作。另外，整体式卫浴室地面被多个排水沟盖分割，因而还存在不够美观的问题。
技术实现思路
鉴于上述以往的问题点，本技术的目的在于，提供一种在沐浴区的地面上不设置排水沟及排水沟盖，让沐浴区的地面在最大限度上为平面结构，从而提高易清扫性、方便性及美观性，同时提高排水口内部的易清扫性，并且可以阻止水从沐浴区域出入口流出的整体式卫浴室。为实现上述目的，采用了以下结构:本技术提供一种在淋湿区域比干燥区域的地面低落的整体式卫浴室中，将淋湿区域的排水口及覆盖其上部的排水口盖设置在干燥区域侧。而且，排水口及排水口盖被配置在远离整体式卫浴室墙面的位置。另外，排水口盖与所述干燥区域的地面处于略平等的面。另外，在所述淋湿区域的地面中，使用者载放足部使用的范围的地面，呈整面将向排水口方向的排水倾斜面设置为一面。另外，朝向淋湿区域的出入口开口地面部分，在开口面阔方向比干燥区域地面向上方突出。另外，排水口盖的高度，被限制为与来自淋湿区域的水流入排水口的开口高度略相同的高度。另外，整体式卫浴室内分隔淋湿区域的隔板由透明的部件构成。技术效果通过本技术，由于排水口及排水口盖被设置在沐浴区域以外，因而可以使用同一部件形成平坦的地面。另外，沐浴区域的地面可以被更充分地利用，因而可以提高沐浴区域的易清扫性及使用者足底的舒适感。另外，排水口及排水口盖设置于远离墙面的位置，从而缩短了沐浴区端部与排水口的距离，同时缩短了排水倾斜的长度。这样，可以使沐浴区地面的排水倾斜面为同一面，因而不必在该地面上设置排水沟及排水沟盖。另外，沐浴区的地面可以被更充分地利用，提高排水口内部的易清扫性、以及使用者使用沐浴区时的足底舒适感。另外，为了不让沐浴区的水流入厕所区及盥洗区的干燥区域，沐浴区的地面部分呈低落状，通过左右的隔板将水阻断(即，通过隔板防止水的流入及流出)。作为沐浴区的出入口部分的水阻断体，将出入口开口的地面高低差异部分设置为从厕所区及盥洗区的地上面凸起的护堤。这样，不使用排水沟及排水沟盖，即可以阻止水从沐浴区的出入口流出。排水口盖的高度不限制从沐浴区向排水口的流路开口高度，这样可以最大限度地发挥从沐浴区的排水性能。而且，由于整体式卫浴室内分隔淋湿区域的隔板由透明的部件构成，这样在使用沐浴区时不会有压迫感。另外，还可以很容易发现沐浴区内的排水存水弯阻塞等的异常。附图说明图1是表示本技术整体式卫浴室的实施方式一的平面图；图2是表示淋湿区域地面与干燥区域地面的沐浴区隔板下的边界部的断面图；图3是表示图1中断面A-A的断面图；图4是表示排水口盖的平面图；图5是表示实施方式二的平面图；图6是表示从图3的淋湿区域地面至排水存水弯的放大图；图7是表示实施方式一的淋湿区域的排水倾斜的排水方向的平面图；图8是表示沐浴区门下端部的放大图。具体实施方式本技术的实施方式，是为了更好地理解专利技术主旨而进行的具体说明，在没有特别指定的情况下，本技术不以此为限。下面基于实施方式对本技术进行说明。图1是表示本技术实施方式一的整体式卫浴室的平面图；图3是表示图1中断面A-A的断面图。如图1及图3所示，整体式卫浴室I由地面17、墙壁al6a、墙壁bl6b、墙壁cl6c、墙壁dl6d、顶棚18、门19等外周部件构成，具有空间。整体式卫浴室I设有洗漱化妆台6区、便器7区、以及具有固定在墙面上的淋浴装置4的沐浴区构成的地面11a。在地面I Ia上，形成有将淋浴装置4流出的水通过沐浴区门2、沐浴区隔板a3a及沐浴区隔板b3b包围的作为沐浴区的湿必区域5，在与所述沐浴区相对的位置，由洗漱化妆台6区构成干燥区域8。另外，在本实施方式中，与沐浴区同时设置的还有便器7区，共同构成整体式卫浴室I。构成沐浴区的沐浴区隔板3a、沐浴区隔板3b、以及沐浴区门2，使用玻璃及树脂等的透明材料。这样，在使用沐浴区时，使用者不会感到压迫感。另外，在沐浴区内可以很容易发现排水存水弯13阻塞等的异常。图2是表示淋湿区域5的地面与干燥区域8的地面的沐浴区隔板(3a及3b)的边界部的断面图。如图2所示，淋湿区域5与干燥区域8的边界部的沐浴区隔板3a及沐浴区隔板3b部的断面结构，在与干燥区域地面Ilb相差一个阶段的位置(较低的位置)，设置有沐浴区隔板载放面11c。在与沐浴区载放面Ilc相差一个阶段的位置(较低的位置)，设置有淋湿区域地面11a。这样，可以阻止水从淋湿区域5流出至干燥区域8。而且，在设置沐浴区隔板3a及沐浴区隔板3b之后，进行硅树脂14填缝。这样可以进一步提闻防水性。如图3所示，排水存水弯13及覆盖它的排水口盖9由沐浴区隔板3b隔开，被设置于干燥区域8侧。这样，就可以使淋湿区域地面Ila略为平坦。另外，排水存水弯13及排水口盖9被配置在干燥区域8侧且远离墙壁16a的位置(沐浴区门侧的位置)。且沐浴区门2被安装为朝向便器7侧。通过使用上述结构形成的空间，使用者可以很容易取下排水口盖9，容易地进行清扫操作。图4是表示排水口盖的平面图。如图4所示，排水口盖9的外缘部设有凹形的手柄部10。这样，使用者能够容易地将手插入排水口，容易地安装及取下排水口盖9。干燥区域地面Ilb上设置的洗漱化妆台6，设有脚部15。这样，在进行清扫等操作时，可以防止因水接触洗漱化妆台6的木质部等而产生的腐蚀等的问题。当然，洗漱化妆台6也可以直接设置于干燥区域地面Ilb上。图5是表示本技术实施方式二的整体式卫浴室的平面图。如图5所示，排水口被沐浴区隔板3a隔离，被配置于干燥区域8侧的位置。通过这样的结构，也可以获得与实施方式一相同的效果。图6是表示从图3的淋湿区域地面至排水存水弯的水流的放大图。如图6的箭头所示，使用沐浴本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种整体式卫浴室，其特征在于：?在淋湿区域低于干燥区域的地面的整体式卫浴室中，所述淋湿区域的排水口与覆盖其上部的排水口盖设置在所述干燥区域。

【技术特征摘要】
1.一种整体式卫浴室，其特征在于: 在淋湿区域低于干燥区域的地面的整体式卫浴室中，所述淋湿区域的排水口与覆盖其上部的排水口盖设置在所述干燥区域。2.根据权利要求1所述的整体式卫浴室，其特征在于: 其中，所述排水口及所述排水口盖被配置于远离墙面的位置。3.根据权利要求1所述的整体式卫浴室，其特征在于: 其中，所述排水口盖与所述干燥区域的地面处于略平等的面。4.根据权利要求2所述的整体式卫浴室，其特征在于: 所述排水口盖与所述干燥区域的地面处于略平等的面。5.根据权利要求1所述的整体式卫浴室，其特征在于: 在所述淋湿区域的地面中，使用者载放足部使用的范围的地面，呈整面将向排水口方向的排水倾斜面设置为一面。6.根据权利要求2所述的整体式卫浴室，其特征在于: 在所述淋湿区域的地面中，使用者载放足部使用的范围的地面，呈整面将向排水口方向的排水倾斜面设置为一面。7.根据权利要求1所述的整体式卫浴室，其特征在于: 朝向所述淋湿区域的出入口开口地面部分，在所述开口面阔方向比所述干燥区域地面向上方关出。8.根据权利要求2所述的整体式卫浴室，其特征在于: 朝向所述淋湿区域的出入口开口地面部分，在所述开口面阔方向比所述干燥区域地面向上方关出。9.根据权利要求3所述的整体式卫浴室，其特征在于: 朝向所述淋湿区域的出入口开口地面部分，在所述开口面阔...

【专利技术属性】
技术研发人员：田宫明，内田贵之，宇佐美刚，
申请(专利权)人：株式会社好适特，
类型：实用新型
国别省市：