电容触摸屏盖板油墨褪除方法技术

技术编号:8521119 阅读:479 留言:0更新日期:2013-04-03 23:12
本发明专利技术公开了一种电容触摸屏盖板油墨褪除方法,将碱性光敏胶剥离溶剂注入超声波清洗设备,然后将待褪墨产品浸末于该碱性光敏胶剥离溶剂中进行超声波清洗。本发明专利技术的电容触摸屏盖板油墨褪除方法能够安全有效且快速彻底地清除待褪墨产品上的油墨,同时确保操作者的安全,防止环境污染。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种电容触摸屏盖板(cover lens)的油墨褪除方法。
技术介绍
电容触摸屏的最外层是盖板(cover lens),起保护层作用,其基材一般是玻璃,通 过油墨印刷的方式在基材上印制LOGO等图案。在目前较多coverlens生产厂家中,产品整 体合格率较低,较大不良比例在油墨印刷工序。因cover lens生产成本很高,产能低,所以 需要对印刷段不良的产品进行维修和返工,以降低生产成本。在返工前必须对cover lens 上的油墨进行褪除,现有的褪除技术都采用甲苯等高危化学品进行浸泡溶解,之后再进行 研磨等辅助工序,以达到再利用的目的。这种传统方法的缺点是甲苯等溶解性溶剂易挥发,易燃,易爆且不易储存。在操作过程中人员需要做特别防护,操作场地也需要特定,整个褪墨过程较长,溶 剂消耗量大,重要的是不利于环保。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是为了克服现有技术中的油墨褪除方法安全性低,容易 对环境造成污染,褪墨过程长,溶剂消耗量大的缺陷,提供一种电容触摸屏盖板油墨褪除方 法。本专利技术是通过下述技术方案来解决上述技术问题的—种,其特点在于,将碱性光敏胶剥离溶剂注入超 声波清洗设备,然后将待褪墨产品浸没于该碱性光敏胶剥离溶剂中进行超声波清洗。其中,该碱性光敏胶剥离溶剂为水溶性分离剂GL-20的水溶液,其中,水与该水溶 性分离剂GL-20的体积比为1: 7 1: 10。较佳地,水与该水溶性分离剂GL-20的体积比为1: 8。其中,在将待褪墨产品放入该超声波清洗设备之前,将该清洗件插设于一插架,然 后将该插架以及待褪墨产品一同放入该超声波清洗设备中。本专利技术中,上述优选条件在符合本领域常识的基础上可任意组合,即得本专利技术各 较佳实施例。本专利技术的积极进步效果在于本专利技术的能够安全有 效且快速彻底地清除待褪墨产品上的油墨,同时确保操作者的安全,防止环境污染。附图说明图1为本专利技术的一较佳实施例中褪墨状态图。具体实施方式下面结合附图给出本专利技术较佳实施例,以详细说明本专利技术的技术方案。如图1所示,本专利技术的是将作为碱性光敏胶剥离溶 剂的水溶性分离剂GL-20的水溶液3注入超声波清洗设备1,然后将待褪墨产品4插设在插 架2放入超声波清洗设备I中并使得待褪墨产品4浸没于该水溶液3内,然后启动超声波 清洗设备I进行超声波清洗。该插架2上设有若干与待褪墨产品的厚度相当的插槽。该方法是利用超声波设备I产生的超声波振荡,将碱性光敏胶剥离溶剂渗入到待 褪墨产品4的油墨和玻璃之间,使油墨从玻璃上迅速剥离褪除。本实施例中采用的水与水溶性分离剂GL-20的体积比为1: 8,且该水溶性分离剂 GL-20为伍悦科技有限公司的市售产品。该水溶性分离剂GL-20的PH值为12. 5,对于黑色胶膜树脂和RGB光敏胶具有很强 的去除能力,具有很低的B0D/C0D值(B0D为生化需氧量;C0D为化学需氧量)。因此,本专利技术相对于现有技术中的褪墨方法对人体无伤害褪墨质量好,无附加工 序,褪墨时间短并且对环境无污染。虽然以上描述了本专利技术的具体实施方式,但是本领域的技术人员应当理解,这些 仅是举例说明,本专利技术的保护范围是由所附权利要求书限定的。本领域的技术人员在不背 离本专利技术的原理和实质的前提下,可以对这些实施方式做出多种变更或修改,但这些变更 和修改均落入本专利技术的保护范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电容触摸屏盖板油墨褪除方法,其特征在于,将碱性光敏胶剥离溶剂注入超声波清洗设备,然后将待褪墨产品浸没于该碱性光敏胶剥离溶剂中进行超声波清洗。

【技术特征摘要】
1.一种电容触摸屏盖板油墨褪除方法,其特征在于,将碱性光敏胶剥离溶剂注入超声波清洗设备,然后将待褪墨产品浸没于该碱性光敏胶剥离溶剂中进行超声波清洗。2.如权利要求1所述的电容触摸屏盖板油墨褪除方法,其特征在于,该碱性光敏胶剥离溶剂为水溶性分离剂GL-20的水溶液,其中,水与该水溶性分离剂GL-20的体积比为1: 7...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘家仁
申请(专利权)人:上海晨兴希姆通电子科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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