【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种在电子装置的外部上制造符号的方法，该方法包括：准备支持层；及在支持层上准备纳米光栅层，该纳米光栅层包括与预设符号相应的第一纳米光栅区和与除预设符号之外的区域相应的第二纳米光栅区，其中，第一纳米光栅区包括按第一栅距布置的三维(3D)纳米结构和按第二栅距布置的三维纳米结构。
【技术特征摘要】
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