本发明专利技术的流量测量装置(1)包括：主流路(5)，流体通过该主流路流动；以及副流路单元(20)，流体在该副流路单元处从主流路(5)分流，并被供应至流量检测元件(12)，之后再回到主流路(5)。副流路单元(20)包括：分流流路(23)，流体通过该分流流路从主流路(5)分流并回到主流路(5)而不被供应至流量检测元件(12)；以及检测通路(27)，流体在该检测通路(27)中从分流流路(23)分流并被供应至流量检测元件(12)。分流流路(23)包括：滑流部(45)，流体在该滑流部中平滑流动于与主流路(5)连接的两端之间；以及第一腔室(41)和第二腔室(42)，邻接至滑流部(45)，并且由被设置成阻滞流体流动的分隔件(43)划分而成。检测通路(27)的两端分别与第一腔室(41)和第二腔室连接(42)。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用于测量流经流路(flow channel)的流体的流率(flow rate)的装置，尤其涉及这样一种流率测量装置及流量测量结构，其用以基于从主流路分出的副流路中流动的流体来获得流经所述流路的流体的总流率。
技术介绍
通常，现有直管型和分流(diverting)型的流量测量装置。如图IlA所示，直管型的流量测量装置具有这样的构造，其中流率检测元件202直接布置于要测量流量的气体或液体所流经的导管201处。分流型的流量测量装置具有如图IlB所示的构造，其中朝向分流流路212的导入口布置于主流管211处，并且流率检测装置213布置于分流流路212处；或者具有如图IlC 所示的构造，其中分流流路216布置于主流管215中，并且流率检测装置217布置于分流流路216处。通常，在直管型的流量测量装置中，是直接测量管道中流动的流体，从而在测量大流率的流体的情况下，去往流率检测元件的测量区域的流速(flowvelocity)需要降低。因此，管道的直径需要扩大，从而限制了装置的小型化。因此，在测量大流率的流体时，使用分流型的流量测量装置。在分流型的流量测量装置中，分流流路从主流路分出，并且通过流率检测元件来测量流经分流流路的流体的流速，由此基于主流路与分流流路之间的分流比以及分流流路处的流速来得到总流率。在专利文件I中，对一种分流型的流量测量装置100描述如下。具体而言，如图12A所示，专利文件I描述的流量测量装置100中，副流路114布置于主流路112上从而在主流路112的外周表面上方延伸。在流量测量装置100中，导入口 115布置于孔口(未示出)上游的主流路112的内壁左右两侧处，并且排出口 116布置于所述孔口下游的主流路112的内壁左右两侧处。而后，从导入口 115向上延伸的导入流路117的上端部以及从排出口 116向上延伸的排出流路118的上端部通过第一副流路119连接以彼此连通。另外，左右两个导入流路117的上端部通过第二副流路120连接以彼此连通，并且左右两个排出流路118的上端部通过第二副流路121连接以彼此连通。进而，第二副流路120、121的中心部通过水平检测流路122连接以彼此连通，并且用于测量气体流速的流率检测元件(未示出)布置于检测通路122中。然后，对流经检测流路122的气体的流速进行测量，并且基于检测流路处测量的流速以及主流路112与检测流路122之间的分流比来得到流经流量测量装置100的气体的总流率。相关技术文件专利文件专利文件I :日本未审查专利公开第2006-308518号(2006年11月9日公布)
技术实现思路
本专利技术要解决的问题然而，在上述专利文件I所描述的构造中，存在以下问题。即，在专利文件I的构造中，已经从导入口 115进入导入流路117的大部分灰尘并不流经第一副流路119、排出流路118、和排出口 116，而是流经第二副流路120和检测流路122。这是因为，如图12B所示，导入流路117和第一副流路119是彼此垂直连接，从而已经从导入口 115进入的灰尘很大可能会因惯性力而直接照直移动(即在导入流路117中沿朝着第二副流路120的方向移动)。须注意，图12B为图12A中区域131的局部放大示意图。于是，由此，灰尘127附着至布置于检测流路122处的流率检测元件125，从而降低流率检测元件125的测量精度(参见图12C)。另外，在专利文件I的构造中，导入流路117和第二副流路120也是彼此垂直连接 从而灰尘有很大可能会累积在导入流路117与第二副流路120之间的连接部处。由此，第二副流路120中流动的气体的量有所改变，从而使主流路112与检测流路122之间的分流比改变，于是，该流量测量装置100不能精确地测量气体的总流率。现在将参照图13A和图13B作出示意性说明。图13A和图13B为示出分流型流量测量装置的示意图，并且图13A示出流经主流路151的气体量用a表示，流经副流路152的气体量用b表示。然后，在副流路152处布置有流率检测元件153。在该分流型的流量测量装置中，如上所述，是通过使用由流率检测元件153所检测的副流路152的流率以及主流路151与副流路152之间的分流比(这里为a:b)来计算总流率的。然而，如图13B所示，当灰尘154累积在副流路152上时，流经副流路152的气体流率从b变为b’，并且流经主流路151的气体流率也从a变为a’。因此，如果基于分流比为a:b的假设而在这样的状态下得到总流率，则由于实际分流比为a’ b’，从而会导致误差。考虑到该问题而构建本专利技术，并且其目的在于实现一种受灰尘影响较小的流量测量装置。解决问题的手段为了解决上述问题，根据本专利技术的一种流量测量结构包括主流路，流体通过该主流路流动；以及副流路，所述流体在该副流路处从所述主流路分流，并被供应至用于测量流率的检测元件，之后再回到所述主流路。其中所述副流路包括第一支流路，所述流体在该第一支流路处从所述主流路分流并回到所述主流路而不被供应至所述检测元件；以及第二支流路，所述流体在该第二支流路处从所述第一支流路分流并被供应至所述检测元件。并且，其中所述第一支流路包括滑流部，在与所述主流路连接的两个端部之间，所述流体在该滑流部中平滑流动；以及第一腔室和第二腔室，邻接所述滑流部，并且由设置成阻滞所述流体流动的分隔件划分而成；并且，所述第二支流路的两个端部分别与所述第一腔室和所述第二腔室连接。根据该构造，已经进入第一支流路的流体平滑地流经滑流部并回到主流路，灰尘因此难以在第一支流路处累积。进而，已经进入第一支流路的一部分流体因为与第一腔室或第二腔室连接的端部的分隔件而流入第二支流路中。另一方面，已经进入第一支流路的灰尘因易于流动而从滑流部通过，灰尘因此难以进入第二支流路。如上所述，基于上述构造，已经进入第一支流路的灰尘不会累积，且倾向于直接流向主流路，并且，灰尘难以进入第二支流路，因此难以附着至布置于第二支流路处用于测量流率的检测元件。因此，由检测元件所检测的结果几乎不会受到灰尘的影响，并且，因此能够实现这样的流量测量结构，其由灰尘导致的误差很小。本专利技术的效果如上所述，根据本专利技术的流量测量结构具有这样的构造，该构造包括主流路，流体通过该主流路流动；以及副流路，所述流体在该副流路处从所述主流路分流，并被供应至用于测量流率的检测元件，之后再回到所述主流路。其中所述副流路包括第一支流路，所述流体在该第一支流路处从所述主流路分流并回到所述主流路而不被供应至所述检测元件；以及第二支流路，所述流体在该第二支流路处从所述第一支流路分流并被供应至所述 检测元件。并且，其中所述第一支流路包括滑流部，在与所述主流路连接的两个端部之间，所述流体在该滑流部中平滑流动；以及第一腔室和第二腔室，邻接所述滑流部，并且由设置成阻滞所述流体流动的分隔件划分而成，并且所述第二支流路的两个端部分别与所述第一腔室和所述第二腔室连接。由此，已经进入第一支流路的灰尘不会累积，且倾向于直接流向主流路，并且，灰尘难以进入第二支流路，由此得到的有益效果是，能够实现这样的流量测量结构，其由灰尘导致的误差很小。附图说明图IA至图IC为用于示出作为本专利技术实施例的流量测量装置的副流路的构造的视图，图IA为示出流量测量装置的剖本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：上田直亚，山本克行，野添悟史，前田修治，津熊雄二，
申请(专利权)人：欧姆龙株式会社，
类型：
国别省市：
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