微透镜阵列制造技术

技术编号:8021707 阅读:169 留言:0更新日期:2012-11-29 03:57
本发明专利技术提供微透镜阵列,包括底部透镜层、设在底部透镜层上的多个排列整齐的抛物面,所述抛物面的顶点距离抛物面的焦点0.280~0.550mm,具有光照明亮、成像均匀等优点。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及激光设备领域,具体涉及能够汇聚及发散光的微透镜阵列
技术介绍
透镜是一种人们非常熟悉的光学元件,它属于被动光学元件,在光学系统中用来会聚、发散光辐射。通常的透镜体积比较大,人眼能看得到,属于折射型光学元件,遵循折射定律,用几何光学的知识就能很好地研究它们的光学性质。相同的透镜按一定的周期排列在一个平面上便构成了透镜阵列,由普通的透镜组成的透镜阵列的光学性质就是单个透镜功能的合成。然而,随着科学技术的进步,当前的仪器设备已朝着光、机、电集成的趋势发展。利用传统方法制造出来的光学元件不仅制造工艺复杂,而且制造出来的光学元件尺寸大、重量大,已不能满足当今科技发展的需要。目前,人们已经能够制作出直径非常小的透 镜与透镜阵列,这种透镜与透镜阵列通常是不能被人眼识别的,只有用显微镜、扫描电镜、原子力显微镜等设备才能观察到,这就是微透镜和微透镜阵列。微光学技术所制造出的微透镜与微透镜阵列以其体积小、重量轻、便于集成化、阵列化等优点,已成为新的科研发展方向。随着光学元件小型化的发展趋势,为减小透镜与透镜阵列的尺寸而开发了许多新技术,现在已经能够制作出直径为毫米、微米甚至纳米量级的微透镜与微透镜阵。而不同的微透镜参数对于微透镜的汇聚和发散光具有重大影响。现有的微透镜大大提高了激光的光照均匀度及明亮度,但是有些场合仍达不到要求。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题在于提供微透镜阵列,具有光照明亮、成像均匀等优点。为解决上述现有的技术问题,本专利技术采用如下方案微透镜阵列,包括底部透镜层、设在底部透镜层上的多个排列整齐的抛物面,所述抛物面的顶点距离抛物面的焦点O.280 O. 550mm。作为优选,所述抛物面的顶点距离抛物面的焦点O. 280mm。作为优选,所述抛物面的顶点距离抛物面的焦点O. 325mm。作为优选,所述抛物面的顶点距离抛物面的焦点O. 550mm。作为优选,所述底部透镜层的长度采用10mm,宽度采用9. 750 10mm,高度采用1.321 I. 822_,从而在达到特定场合需要的同时尽可能大地利用了微透镜的汇聚和发散的作用。作为优选,所述底部透镜层的宽度采用10mm,高度采用1.321mm。作为优选,所述底部透镜层的宽度采用9. 750mm,高度采用I. 700mm。作为优选,所述底部透镜层的宽度采用9. 750mm,高度采用I. 822mm。作为优选,所述抛物面的底面长度采用I I. 429mm,宽度采用O. 750 Imm,从而使成像更加均匀、光照更加明亮。有益效果本专利技术采用上述技术方案提供的微透镜阵列,能够使激光成像更加均匀,光照更加明亮。附图说明图I为本专利技术的俯视图;图2为本专利技术的侧视图。图中,底部透镜层I、抛物面2。 具体实施例方式实施例一如图1-2所示,微透镜阵列,包括底部透镜层I、设在底部透镜层I上的多个排列整齐的抛物面2,所述抛物面2的顶点距离抛物面2的焦点O. 280mm,所述底部透镜层I的长度采用10mm,宽度采用10mm,高度采用I. 321mm,所述抛物面2的底面长度采用I. 429mm,宽度米用1_。实施例二 该实施例的结构与实施例一的结构相同,不同之处在于所述抛物面2的顶点距离抛物面2的焦点O. 325mm,所述底部透镜层I的长度采用10mm,宽度采用9. 750mm,高度采用I. 700mm,所述抛物面2的底面长度采用1mm,宽度采用O. 750mm。实施例三该实施例的结构与实施例一的结构相同,不同之处在于所述抛物面2的顶点距离抛物面2的焦点O. 550mm,所述底部透镜层I的长度采用10mm,宽度采用9. 750mm,高度采用I. 822mm,所述抛物面2的底面长度采用1mm,宽度采用O. 750mm。权利要求1.微透镜阵列,包括底部透镜层(I)、设在底部透镜层(I)上的多个排列整齐的抛物面(2),其特征在于所述抛物面(2)的顶点距离抛物面(2)的焦点0. 280 0. 550mm。2.根据权利要求I所述的微透镜阵列,其特征在于所述抛物面(2)的顶点距离抛物面(2)的焦点 0. 280mm。3.根据权利要求I所述的微透镜阵列,其特征在于所述抛物面(2)的顶点距离抛物面(2)的焦点 0. 325_。4.根据权利要求I所述的微透镜阵列,其特征在于所述抛物面(2)的顶点距离抛物面(2)的焦点 0. 550_。5.根据权利要求I所述的微透镜阵列,其特征在于所述底部透镜层(I)的长度采用10臟,宽度米用9. 750 10臟,高度米用I. 321 I. 822臟。6.根据权利要求5所述的微透镜阵列,其特征在于所述底部透镜层(I)的宽度釆用10mm,高度米用I. 321臟。7.根据权利要求5所述的微透镜阵列,其特征在于所述底部透镜层(I)的宽度釆用9.750mm,高度米用 I. 700mm。8.根据权利要求5所述的微透镜阵列,其特征在于所述底部透镜层(I)的宽度釆用9.750mm,高度米用 I. 822mm。9.根据权利要求I所述的微透镜阵列,其特征在于所述抛物面(2)的底面长度釆用I I. 429臟,宽度米用0. 750 I臟。全文摘要本专利技术提供微透镜阵列,包括底部透镜层、设在底部透镜层上的多个排列整齐的抛物面,所述抛物面的顶点距离抛物面的焦点0.280~0.550mm,具有光照明亮、成像均匀等优点。文档编号G02B3/00GK102798904SQ20121028689公开日2012年11月28日 申请日期2012年8月13日 优先权日2012年8月13日专利技术者徐小红 申请人:嘉兴市光辰光电科技有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
微透镜阵列,包括底部透镜层(1)、设在底部透镜层(1)上的多个排列整齐的抛物面(2),其特征在于:所述抛物面(2)的顶点距离抛物面(2)的焦点0.280~0.550mm。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:徐小红
申请(专利权)人:嘉兴市光辰光电科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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