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具有2,5-取代的噁唑并嘧啶环的羧酸衍生物制造技术

技术编号:7998558 阅读:422 留言:0更新日期:2012-11-22 07:27
本发明专利技术涉及式(I)的噁唑并嘧啶化合物,其中A、R1、R2、R3和X如权利要求中所定义。式(I)化合物适用于例如伤口愈合。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】,5-取代的噁唑并嘧啶环的羧酸衍生物的制作方法
本专利技术涉及包含2,5-取代的噁唑并嘧啶环的羧酸衍生物,并涉及其生理学可接受的盐。
技术介绍
现有技术已经描述了结构上类似的化合物(参见WO 2009/154775),其适用于治疗多发性硬化症。这些化合物的作用模式在于通过激活EDG-I受体(所谓的超激动作用(superagonism))造成EDG-I信号途径脱敏,其因而相当于EDG-I信号途径的功能性拮抗作用。系统性是指(特别是就淋巴细胞而言)EDG-I信号途径被永久性抑制,由此导致这些细胞不能再趋化性地遵循血液和淋巴液之间的SlP梯度。这意味着受感染的淋巴细胞不能再离开二级淋巴组织(归巢增加),并且血浆中自由循环的淋巴细胞的数量极大地减少。血浆中淋巴细胞的这种缺乏(淋巴细胞减少症)导致免疫抑制,这如W02009/154775中所述是EDG-I受体调节剂的作用机理所必需的。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供特别适用于伤口愈合,尤其是适于治疗糖尿病患者的伤口愈合障碍的化合物,此外,期望的是提供适于治疗糖尿病足综合征(diabetic footsyndrome) (DFS)的化合物。此外,还期望的是实现EDG-I受体信号途径的可重现性活化,由此在药理学上允许EDG-I信号途径的持续激活。本专利技术涉及式I的噁唑并嘧啶化合物,权利要求1.呈任意立体异构形式或任何比例的立体异构形式的混合物的式I化合物,或其生理学上可接受的盐,或它们中任意一种生理学上可接受的溶剂化物,2.权利要求I的呈任意立体异构形式或任何比例的立体异构形式的混合物的式I化合物,或其生理学上可接受的盐,或它们中任意一种生理学上可接受的溶剂化物,其中A选自0和S。3.权利要求I至2中一项或多项的呈任意立体异构形式或任何比例的立体异构形式的混合物的式I化合物,或其生理学上可接受的盐,或它们中任意一种生理学上可接受的溶剂化物,其中X选自(C1-C6)-亚烷基、(C2-C6)-亚烯基和(C1-C6)-亚烷基-氧基。4.权利要求I至3中一项或多项的呈任意立体异构形式或任何比例的立体异构形式的混合物的式I化合物,或其生理学上可接受的盐,或它们中任意一种生理学上可接受的溶剂化物,其中R2选自亚苯基和亚吡啶基,其中所述亚苯基和亚吡啶基任选在一个或多个环碳原子上被相同或不同的取代基R22取代。5.权利要求I至4中一项或多项的呈任意立体异构形式或任何比例的立体异构形式的混合物的式I化合物,或其生理学上可接受的盐,或它们中任意一种生理学上可接受的溶剂化物,其中 R3选自(C1-C6)-烷基、(C3-C7)-环烷基-CuH2u-和Het-CvH2v-,其中u和v选自I和2,或者R3为饱和或不饱和3-元至10-元单环或二环残基,其包含O、I或2个相同或不同的选自N、0和S的杂原子,其中环氮原子中的一个或两个任选带有氢原子或(C1-C4)-烷基取代基,并且环硫原子中的一个任选带有一个或两个氧代基团,并且其中所述环残基任选在一个或多个环碳原子上被相同或不同的取代基R31取代; Het为饱和4-元至6-元单环杂环残基,其包含I个选自N、0和S的环杂原子并经由环碳原子进行连接,其中所述杂环残基任选被一个或多个相同或不同的选自氟和(C1-C4)-烷基的取代基取代。6.权利要求I至5中一项或多项的呈任意立体异构形式或任何比例的立体异构形式的混合物的式I化合物,或其生理学上可接受的盐,或它们中任意一种生理学上可接受的溶剂化物,其中 A选自O和S ; X选自(C1-C6)-亚烷基、(C2-C6)-亚烯基和(C1-C6)-亚烷基-氧基; R2选自亚苯基和亚吡啶基,其中所述亚苯基和亚吡啶基任选在一个或多个环碳原子上被相同或不同的取代基R22取代; R3选自(C1-C6)-烷基、(C3-C7)-环烷基-CuH2u-和Het-CvH2v-,其中u和v选自I和2,或R3为饱和或不饱和3-元至10-元单环或二环残基,其包含O、I或2个相同或不同的选自N、O和S的环杂原子,其中环氮原子中的一个或两个任选带有氢原子或(C1-C4)-烷基取代基,并且环硫原子中的一个任选带有一个或两个氧代基团,并且其中所述环残基任选在一个或多个环碳原子上被相同或不同的取代基R31取代; Het为饱和4-元至6-元单环杂环残基,其包含I个选自N、0和S的环杂原子并经由环碳原子进行连接,其中所述杂环残基任选被一个或多个相同或不同的选自氟和(C1-C4)-烷基的取代基取代。7.权利要求I至6中一项或多项的呈任意立体异构形式或任何比例的立体异构形式的混合物的式I化合物,或其生理学上可接受的盐,或它们中任意一种生理学上可接受的溶剂化物,其中A为O。8.权利要求I至7中一项或多项的呈任意立体异构形式或任何比例的立体异构形式的混合物的式I化合物,或其生理学上可接受的盐,或它们中任意一种生理学上可接受的溶剂化物,其中A为O ; X选自(C1-C6)-亚烷基和(C1-C6)-亚烷基-氧基; R1选自氢和(C1-C6)-烷基; R2为亚苯基,其任选在ー个或多个环碳原子上被相同或不同的取代基R22取代; R3选自(C1-C6)-烷基、(C3-C7)-环烷基-CuH2u-和Het-CvH2v-,其中u和v选自I和2,或R3为饱和或不饱和3-元至7-元单环或ニ环残基,其包含O、I或2个相同或不同的选自N、0和S的杂原子,其中环氮原子中的一个或两个任选带有氢原子或(C1-C4)-烷基取代基,并且环硫原子中的ー个任选带有ー个或两个氧代基团,并且其中所述环残基任选在ー个或多个环碳原子上被相同或不同的取代基R31取代; R22选自齒素、轻基、(C1-C4)-烧基-和(C1-C4)-烧基氧基; R31选自齒素、(C1-C4)-烧基、(C3-C7)-环烧基、轻基和(C1-C4)-烧基氧基; Het为饱和4-元至6-元单环杂环残基,其包含I个选自O和S的环杂原子并经由环碳原子进行连接,其中所述杂环残基任选被ー个或多个相同或不同的选自氟和(C1-C4)-烷基的取代基取代; 其中所有环烷基彼此独立并独立于任意其它取代基,且任选被一个或多个相同或不同的选自氟和(C1-C4)-烷基的取代基取代; 其中所有烷基、亚烷基、CuH2u和CvH2v彼此独立并独立于任意其它取代基,且任选被ー个或多个氟取代基取代。9.权利要求I至8中一项或多项的呈任意立体异构形式或任何比例的立体异构形式的混合物的式I化合物,或其生理学上可接受的盐,或它们中任意ー种生理学上可接受的溶剂化物,其中 A为O ; X选自(C1-C6)-亚烷基和(C1-C6)-亚烷基-氧基; R1选自氢和(C1-C4)-烷基; R2为亚苯基,其任选在ー个或多个环碳原子上被相同或不同的取代基R22取代; R3为饱和或不饱和3-元至7-元单环残基,其包含O或I个选自N、0和S的杂原子,其中环氮原子任选带有氢原子或(C1-C4)-烷基取代基,并且环硫原子任选带有ー个或两个氧代基团,并且其中所述环残基任选在ー个或多个环碳原子上被相同或不同的取代基R31取代; R22选自齒素、轻基、(C1-C4)-烧基-和(C1-C4)-烧基氧基; R31选自齒素、(C1-C本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:D卡德赖特M谢弗S哈克特尔A迪特里希T许布希尔K希斯
申请(专利权)人:赛诺菲
类型:发明
国别省市:

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