感光性树脂组合物、感光性干膜及图案形成方法技术

本发明专利技术涉及一种感光性树脂组合物、感光性干膜以及使用该感光性树脂组合物的图案形成方法，所述感光性树脂组合物包含：具有来源于含有酚性羟基和羧基的乙烯基系单体(b)的构成单元的乙烯基系共聚物(I)、醌二叠氮化合物(II)和式(5)所示的化合物(III)。根据本发明专利技术，可以提供可以形成不易发生破裂，未曝光部的膜减少小，灵敏度、分辨率良好的抗蚀剂膜的感光性树脂组合物，感光性干膜以及使用该感光性树脂组合物的图案形成方法。（式中，Y为碳原子数1～6的直链或支链的烃基；l和m分别为1～3的整数；n为1或2；p和q分别为0或1）。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及感光性树脂组合物、感光性干膜以及使用它们的图案形成方法。本申请基于在2009年12月28日于日本申请的特愿2009 — 297145号主张优先权，将其内容引用至本申请中。
技术介绍
作为形成电子电路等的工艺，一般使用采用感光性树脂组合物的工艺。使用了感光性树脂组合物的电路形成工艺中，通过经过以下工序来形成电子电路，所述工序包括在基材表面上形成由感光性树脂组合物形成的抗蚀剂膜的工序；隔着 掩模对抗蚀剂膜照射光而形成潜像的工序；将形成有潜像的抗蚀剂膜用显影液进行显影处理而形成抗蚀剂图案的工序；以及将没有抗蚀剂的部分进行化学蚀刻、镀敷的工序。此外，在将裸芯片直接安装在柔性基板上的覆晶薄膜(COF)、通过积层方法得到的多层印刷布线板中，研究了电子电路的微细化。这些C0F、通过积层方法得到的多层印刷布线板中的电路形成工艺中，在与通常的印刷布线板中的显影工序对应的工序中，使用I质量％碳酸钠水溶液作为显影液。作为以往的感光性树脂组合物，已知下述物质。(I)包含酚醛清漆树脂、醌二叠氮化合物以及由环己烷类与酚类形成的化合物的感光性树脂组合物(专利文献I)。(2)包含具有来源于具有酚性羟基的单体的构成单元和来源于含有羧基的乙烯基系单体的构成单元的乙烯基系聚合物、以及醌二叠氮化合物的感光性树脂组合物(专利文献2)。(3)包含具有来源于含有羧基的乙烯基系单体的构成单元的乙烯基系共聚物、醌二叠氮化合物和多元酚化合物的感光性树脂组合物(专利文献3)。然而，由于(I)的感光性树脂组合物中包含的酚醛清漆树脂为脆的树脂，因此在将包含酚醛清漆树脂的感光性树脂组合物制成抗蚀剂膜使用的情况下，有抗蚀剂膜易于开裂这样的问题。特别是，在将该感光性树脂组合物进行干膜化的情况下，由于该干膜被卷绕，因此上述问题变得显著。此外，由于(2)的感光性树脂组合物在碳酸钠水溶液中的溶解性差，因此在C0F、通过积层方法得到的多层印刷布线板中的电路形成工艺中使用的情况下，析像度易于变得不充分。此外，在(3)的感光性树脂组合物中，乙烯基系共聚物不具有酚性羟基，因此没有酚性羟基与醌二叠氮基的相互作用。因此，未曝光部的抗蚀剂膜易于溶解，易于发生膜减少。根据以上的背景，C0F、通过积层方法得到的多层印刷布线板中的电路形成工艺中，需要可以形成不易发生破裂，未曝光部的膜减少小，灵敏度、分辨率良好的抗蚀剂膜的感光性树脂组合物。现有技术文献专利文献专利文献I :日本特开平5 - 224407号公报专利文献2 日本特开2003 - 287905号公报专利文献3 :日本特开2003 - 156843号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题本专利技术是提供在C0F、通过积层方法得到的多层印刷布线板中的电路形成工艺中， 可以形成不易发生破裂，未曝光部的膜减少小，灵敏度、分辨率良好的抗蚀剂膜的感光性树脂组合物，感光性干膜以及使用它们的图案形成方法。用于解决课题的方法本专利技术的第一方式是一种感光性树脂组合物，其包含将包含具有酚性羟基的单体(a)和含有羧基的乙烯基系单体(b)的单体混合物进行聚合而得的乙烯基系共聚物(I)；醌二叠氮化合物(II);以及下述式(5)所示的化合物(III)，(HO 廿+-Y-如-H-OH 1Jrm (5)-Jp L Jq (COOH)nY为碳原子数I 6的直链或支链的烃基；1和m各自独立地为I 3的整数；n为I或2 ;p和q各自独立地为0或I。本专利技术的第二方式是第一方式所述的感光性树脂组合物，上述化合物(III)为选自由下述式(5 - I)和(5 - 2)所示的化合物所组成的组中的至少一种化合物， H0分- COOH......................... CHg /==m / \ I / (5.2) 12 /S. I § wrio I￡, COOHO本专利技术的第三方式是第一方式所述的感光性树脂组合物，上述化合物(II)的含有比例相对于乙烯基系共聚物(I) 100质量份为5 70质量份，上述化合物(III)的含有比例相对于乙烯基系共聚物(I) 100质量份为0. 5 10质量份。本专利技术的第四方式是第一方式所述的感光性树脂组合物，上述醌二叠氮化合物(II)为具有I 3个芳香族环的芳香族多羟基化合物与选自由1，2 —萘醌二叠氮基一 5 -磺酸和1，2 一萘醌二叠氮基一 4 一磺酸所组成的组中的至少一种化合物所成的酯。本专利技术的第五方式是第四方式所述的感光性树脂组合物，上述醌二叠氮化合物(II)为下述式(4 - I)所示的化合物、下述式(4 - 2)所示的化合物或下述式(4 - 3)所示的化合物与选自由1，2 一萘醌二叠氮基一 5 —磺酸和1，2 一萘醌二叠氮基一 4 一磺酸所组成的组中的至少一种化合物所成的酯。权利要求1.一种感光性树脂组合物，其包含 将包含具有酚性羟基的单体(a)和含有羧基的乙烯基系单体(b)的单体混合物进行聚合而得的乙烯基系共聚物(I)； 醌二叠氮化合物(II);以及 下述式(5)所示的化合物(III)，(HCH++_Y— f--m (5} P L Jq (COOH)n Y为碳原子数I 6的直链或支链的烃基；1和m各自独立地为I 3的整数；n为I或2 ;p和q分别为0或I。2.根据权利要求I所述的感光性树脂组合物，所述化合物(III)为选自由下述式(5—I)和(5 - 2)所示的化合物所组成的组中的至少一种化合物，H°CH°H(5-1) COOH_ 0|-j _/=\ I 3/=\(,2)Vv n o I ii Olio Itm COOHO3.根据权利要求I所述的感光性树脂组合物，所述化合物(II)的含有比例相对于乙烯基系共聚物(I) 100质量份为5 70质量份，所述化合物(III)的含有比例相对于乙烯基系共聚物(I) 100质量份为0. 5 10质量份。4.根据权利要求I所述的感光性树脂组合物，所述醌二叠氮化合物(II)为具有I 3个芳香族环的芳香族多羟基化合物与选自由1，2 一萘醌二叠氮基一 5 —磺酸和1，2 一萘醌二叠氮基一 4 一磺酸所组成的组中的至少一种化合物所成的酯。5.根据权利要求4所述的感光性树脂组合物，所述醌二叠氮化合物(II)为下述式(4 - I)所示的化合物、下述式(4 - 2)所示的化合物或下述式(4 - 3)所示的化合物与选自由1，2 —萘醌二叠氮基一 5 —磺酸和1，2 一萘醌二叠氮基一 4 一磺酸所组成的组中的至少一种化合物所成的酯，6.—种感光性干膜,其在支持膜的表面上形成有由权利要求I 5的任一项所述的感光性树脂组合物形成的抗蚀剂膜。7.一种图案形成方法，其包括以下工序 在基材的表面上形成由权利要求I 5的任一项所述的感光性树脂组合物形成的抗蚀剂膜的工序； 将所述抗蚀剂膜曝光而形成潜像的工序；以及 将形成有潜像的所述抗蚀剂膜用PH 10. 5 12. 5的显影液进行显影处理而形成抗蚀剂图案的工序。全文摘要本专利技术涉及一种感光性树脂组合物、感光性干膜以及使用该感光性树脂组合物的图案形成方法，所述感光性树脂组合物包含具有来源于含有酚性羟基和羧基的乙烯基系单体(b)的构成单元的乙烯基系共聚物(I)、醌二叠氮化合物(II)和式(5)所示的化合物(II本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：上田昭史，中河原秀孝，渡边和夫，渡边茂辉，篮伟仁，林昭文，
申请(专利权)人：株式会社微处理，台湾永光化学工业股份有限公司，三菱丽阳株式会社，
类型：发明
国别省市：