本发明专利技术涉及一种PCB干膜显影槽清洗剂，所述清洗剂由以下重量百分比的溶剂A和溶剂B组成，其中，溶剂A的组成为：磷酸：15~20%，乙酸：4~10%，余量为水；溶剂B的组成，以溶剂A为基础量：乳化剂：3~6%，增溶剂：0.5~1%,表面活性剂:1~3%。本发明专利技术PCB干膜显影槽清洗剂，清洗温度较低、清洗时间短且清洗效果好。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种用于对PCB干膜显影槽进行清洗的清洗剂和清洗方法，以及该清洗剂的制备方法。
技术介绍
目前，PCB作为电子器件器件的基板，其质量直接决定着整个电路的性能。而在PCB的制造过程中，前道的干膜制程尤为重要，在干膜制程中需要对干膜显影槽进行清洗，常规的清洁剂，如中国专利ZL201110080387. 2公布的“一种碱性清槽剂”利用碱性溶液对槽壁上的污垢进行清洗；但是在实际使用中发现，这类碱性清洗剂，不但在清洗时需要进行加温处理，而且清洗时间较长、清洗效果不够好。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服上述不足，提供一种清洗温度较低、清洗时间短且清洗效果好的PCB干膜显影槽清洗剂及其制备方法。本专利技术的目的是这样实现的一种PCB干膜显影槽清洗剂，所述清洗剂由以下重量百分比的溶剂A和溶剂B组成，其中，溶剂A的组成为 磷酸15 20%， 乙酸4 10%， 余量为水； 溶剂B的组成，以溶剂A为基础量 乳化剂:3 6%， 增溶剂:0. 5 1%。表面活性剂广3%。本专利技术PCB干膜显影槽清洗剂，所述乳化剂为OP系列乳化剂中的至少一种，所述增溶剂为乙二醇单丁醚或乙二醇乙醚中的至少一种，所述表面活性剂为水溶性聚醚。本专利技术PCB干膜显影槽清洗剂的制备方法，所述方法包含有以下步骤 步骤一、制备溶剂A，将按上述百分比称量好的磷酸和乙酸依次倒入水中，并搅拌混合均匀； 步骤二、制备溶剂B，按制备好的溶剂A的重量，以及上述百分比称量好乳化剂和增溶齐U，并将乳化剂，增溶剂和表面活性剂混合搅拌； 步骤三、将步骤一和步骤二得到的溶剂A和溶剂B相混合，混合后在常温下搅拌均匀，使其全部溶解，得到外观为无色均匀透明或略带浅黄色的溶液，即完成清洗剂的制备。本专利技术PCB干膜显影槽清洗剂的清洗方法，所述清洗方法的步骤为 步骤一、稀释将清洗剂与水混合，清洗剂按重量计，其百分比为1(T20% ； 步骤二、清洗清洗时，各项参数为 清洗温度25 30°C，清洗时间I. 5 2h ； 步骤三、水洗用纯水清洗0. 5"1H即可。与现有技术相比，本专利技术的有益效果是 一、能够清洗PCB干膜显影槽内之干膜残留物以及钙镁离子结晶物，对槽体以及设备无腐蚀，可代替目前酸碱洗方式； 二、清洗时间较目前酸碱洗方式时间缩短近I倍，缩短时间约3 4H； 三、清洗时温度为25 30°C，较目前酸碱洗清洗温度降低15 20°C，大大降低了电能消耗； 四、该清洗剂无毒，低腐蚀性，安全可靠，不燃不爆，短时间接触对人体不产生腐蚀，不破坏臭氧层，不会引起温室效应；使用、运输、储存非常方便。具体实施例方式本专利技术涉及的一种PCB干膜显影槽清洗剂，所述清洗剂由以下重量百分比的溶剂A和溶剂B组成，其中，溶剂A的组成为 磷酸15 20%， 乙酸4 10%， 余量为水； 溶剂B的组成，以溶剂A为基础量 乳化剂(0P系列乳化剂中的至少一种)3 6%， 增溶剂(乙二醇单丁醚或乙二醇乙醚中的至少一种)0. 5^1%, 表面活性剂(水溶性聚醚)广3%。其中，磷酸和乙酸主要是为去除显影槽壁上钙镁结晶物； 乳化剂选择OP系列主要是为了乳化膨胀干膜残渣残留物中的树酯成分，从而协同磷酸和乙酸去除掉干膜残渣中的钙镁离子结晶物； 选用OP乳化剂的原因在于0P乳化剂具有较强的耐酸性，且为水溶性乳化剂，易溶于水，因而能够顺利的将树酯乳化膨胀；同时，选用水溶性乳化剂可以提高药水的均一性，对清洗效果有增强作用； 增溶剂选择乙二醇单丁醚或乙二醇乙醚中的一种或一种以上，用于去除干膜参渣残中的有机残留物； 选用乙二醇单丁醚或乙二醇乙醚中的原因在于乙二醇单丁醚或乙二醇乙醚均可溶于水，且对干膜残渣中的有机残留物具有一定的溶解性； 表面活性剂选择(水溶性聚醚)主要是为了降低药液表面张力以及清洗作用。选用水溶性聚醚作为表面活性剂的原因由于上面选用了 OP系列乳化剂，该乳化剂在使用时会产生大量的泡沫，从而给清洗带来了不便，因此需要选用具有消泡及抑泡功能的聚醚作为表面活性剂；同时选用水溶性聚醚具有较佳的溶水性，因而还具有一定的清洗能力，从而增强了清洗效果； 本专利技术涉及的一种PCB干膜显影槽清洗剂的制备方法为溶剂A和溶剂B按上述比例称量混合均匀，混合后在常温下搅拌均匀，使其全部溶解，得到外观为无色均匀透明或略带浅黄色的溶液。本专利技术涉及的一种PCB干膜显影槽清洗剂的清洗方法为使用时，将清洗剂与水混合，添加比例为10 20%，清洗温度25 30°C，清洗时间I. 5^2h.然后水洗0. 5^1H即可，洁净符合要求.对槽体无腐蚀，且无毒，其主要技术指标为 外观无色透明液体， 气味微味， 比重:1. 05 I. 15g/ml, 酸度:4. 5±0. 5mol/L, 活性物质含量大于23. 5% ;其中活性物质是指除水外的其它所有成分； 下面结合具体的实施例对本专利技术做具体阐述 实施例一 溶剂A:(制备100KG) 磷酸15KG,(占比为15%) 乙酸4KG，(占比为4%) 水71KG ;(占比为71%) 溶剂B，以溶剂A为基础量 乳化剂选择OP-10 : 3KG，(占溶剂A重量的为3/100=3%) 增溶剂选择乙二醇单丁醚0. 5KG，(占溶剂A重量的为0. 5/100=0. 5%) 表面活性剂选择表水溶性聚醚1KG，(占溶剂A重量的为1/100=1%) 溶剂A和溶剂B分别按上述比例称量均匀混合，溶剂A配置时，将有效成分磷酸、乙酸依次分别放入水中置好的溶剂A以及溶剂B剂按比例准确称量，混合后，常压常温下搅拌均匀，使其全部溶解，得外观为无色均匀透明或略带浅黄色液体清洗剂，即可使用. 使用时，按15%比例(以100KG为例，上述15%是指15KG的清洗剂加上85KG的水)入水中清洗PCB干膜显影槽，清洗时间为I. 5H,然后加水清洗0. 5H即可，洁净符合要求，对槽体无腐蚀； 实施例二 溶剂A组成(制备100KG) 磷酸20KG， 乙酸10KG, 水70KG; 溶剂B剂组成，以溶剂A剂为基础量 乳化剂选择OP-10 :6KG 增溶剂选择乙二醇单丁醚1KG 表面活性剂(水溶性聚醚)3KG。制备方法同实施例一， 使用时，按15%比例添加入水中清洗PCB干膜显影槽，清洗时间为2H，然后加水清洗IH即可，洁净符合要求，对槽体无腐蚀. 采用本专利技术与常规清洗方式，分别对槽体中干膜残留物进行清洗，清洗效果见下表I清洗温度I清洗时间I干膜残留物溶解率本专利技术清洗剂 30 °C 2H_90%_规的清洗剂|50°C |4H150%—常规的清洗剂需要加温以增强对干膜残留物的溶解度，而本专利技术由于采用OP系列乳化剂可高效乳化其干膜残留物，从而使酸性体系较快的与残留于干膜残渣内钙镁离子结晶物进行反应.故而温度可以下降，清洗时间缩短，提高干膜残留物溶解率； 使用本专利技术清洗剂，清洗效果明显优于常规清洗剂的清洗方式，且可高效去除槽体残留物，保证PCB制程正常生产，且可节约一定能耗以及体高产能，具有一定之经济及环保意义。权利要求1.一种PCB干膜显影槽清洗剂，其特征在于所述清洗剂由以下重量百分比的溶剂A和溶剂B组成，其中，溶剂A的组成本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种PCB干膜显影槽清洗剂，其特征在于：所述清洗剂由以下重量百分比的溶剂A和溶剂B组成，其中，溶剂A的组成为：磷酸：15~20%，乙酸：4~10%，余量为水；溶剂B的组成，以溶剂A为基础量：乳化剂：3~6%，增溶剂：0.5~1%,表面活性剂：1~3%。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：钟强，许国祥，刘兴才，王萌，
申请(专利权)人：瀚宇博德科技江阴有限公司，
类型：发明
国别省市：
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