感光性树脂组合物、感光性干膜及图案形成方法技术

本发明专利技术涉及一种感光性树脂组合物，其包含：将包含具有酚性羟基的单体(a)的单体混合物进行聚合而得的乙烯基系聚合物(I)；将包含含有羧基的乙烯基系单体(b)的单体混合物进行聚合而得的、质均分子量为20,000～100,000的乙烯基系聚合物(II)(其中，上述乙烯基系聚合物(I)除外)；醌二叠氮化合物(III)；以及下述式(5)所示的化合物(IV)。［式中，Y为碳原子数1～6的烃基；l和m分别为1～3的整数；n为1或2；p和q分别为0或1］。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】感光性树脂组合物、感光性干膜及图案形成方法
本专利技术涉及感光性树脂组合物、感光性干膜以及使用它们的图案形成方法。本申请基于在2009年12月28日于日本申请的特愿2009－297144号主张优先权，将其内容引用至本申请中。
技术介绍
作为形成电子电路等的工艺，一般使用采用感光性树脂组合物的工艺。使用了感光性树脂组合物的电路形成工艺中，通过经过以下工序来形成电子电路，所述工序包括：在基材表面上形成由感光性树脂组合物形成的抗蚀剂膜的工序；隔着掩模对抗蚀剂膜照射光而形成潜像的工序；将形成有潜像的抗蚀剂膜用显影液进行显影处理而形成抗蚀剂图案的工序；以及将没有抗蚀剂的部分进行化学蚀刻、镀敷的工序。此外，在将裸片直接安装在柔性基板上的覆晶薄膜(COF)、通过积层(buildup)方法得到的多层印刷布线板中，研究了电子电路的微细化。这些COF、通过积层方法得到的多层印刷布线板中的电路形成工艺中，在与通常的印刷布线板中的显影工序对应的工序中，使用1质量%碳酸钠水溶液作为显影液。作为以往的感光性树脂组合物，已知下述物质。(1)包含酚醛清漆树脂、醌二叠氮化合物以及由环己烷类与酚类形成的化合物的感光性树脂组合物(专利文献1)。(2)包含具有来源于具有酚性羟基的单体的构成单元和来源于含有羧基的乙烯基系单体的构成单元的乙烯基系聚合物、以及醌二叠氮化合物的感光性树脂组合物(专利文献2)。(3)包含具有来源于含有羧基的乙烯基系单体的构成单元的乙烯基系共聚物、醌二叠氮化合物和多元酚化合物的感光性树脂组合物(专利文献3)。然而，由于(1)的感光性树脂组合物中包含的酚醛清漆树脂为脆的树脂，因此在将包含酚醛清漆树脂的感光性树脂组合物制成抗蚀剂膜使用的情况下，有抗蚀剂膜易于开裂这样的问题。特别是，在将上述感光性树脂组合物进行干膜化的情况下，由于上述干膜被卷绕，因此上述问题变得显著。此外，由于(2)的感光性树脂组合物在碳酸钠水溶液中的溶解性差，因此在COF、通过积层方法得到的多层印刷布线板中的电路形成工艺中使用的情况下，析像度易于变得不充分。此外，在将包含具有酚性羟基的单体的单体成分进行聚合的情况下，由于所得的乙烯基系聚合物为较低分子量，因此难以高分子量化。因此，抗蚀剂膜的耐镀敷性变得不充分。此外，在(3)的感光性树脂组合物中，乙烯基系聚合物不具有酚性羟基，因此没有酚性羟基与醌二叠氮基的相互作用。因此，未曝光部的抗蚀剂膜易于溶解，易于发生膜减少。根据以上的背景，COF、通过积层方法得到的多层印刷布线板中的电路形成工艺中，需要可以形成不易发生破裂，未曝光部的膜减少小，灵敏度、分辨率良好且耐镀敷性优异的抗蚀剂膜的感光性树脂组合物。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开平5－224407号公报专利文献2：日本特开2003－287905号公报专利文献3：日本特开2003－156843号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题本专利技术的课题是提供在COF、通过积层方法得到的多层印刷布线板中的电路形成工艺中，可以形成不易发生破裂，未曝光部的膜减少小，灵敏度、分辨率良好且耐镀敷性优异的抗蚀剂膜的感光性树脂组合物、感光性干膜以及使用它们的图案形成方法。用于解决课题的方法本专利技术的第1方式涉及一种感光性树脂组合物，其包含：将包含具有酚性羟基的单体(a)的单体混合物进行聚合而得的乙烯基系聚合物(I)；将包含含有羧基的乙烯基系单体(b)的单体混合物进行聚合而得的、质均分子量为20,000～100,000的乙烯基系聚合物(II)(其中，所述乙烯基系聚合物(I)除外)；醌二叠氮化合物(III)；以及下述式(5)所示的化合物(IV)，Y为碳原子数1～6的烃基，l和m分别为1～3的整数，n为1或2，p和q分别为0或1。优选所述化合物(IV)为下述式(5－1)或下述式(5－2)所示的化合物，优选所述乙烯基系聚合物(I)为将进一步包含含有羧基的乙烯基系单体(b)的单体混合物进行聚合而得的聚合物。在所述乙烯基系聚合物(I)为将包含所述单体(a)的单体混合物进行聚合而得的聚合物的情况下，优选所述单体(a)的比例在单体的合计加入量100摩尔%中为5～100摩尔%。在所述乙烯基系聚合物(I)为将包含所述单体(a)和所述单体(b)的单体混合物进行聚合而得的聚合物的情况下，优选所述单体(b)的比例在单体的合计加入量100摩尔%中为5～30摩尔%。优选所述乙烯基系聚合物(II)为将包含所述单体(b)的单体混合物进行聚合而得的聚合物，所述单体(b)的比例在单体的合计加入量100摩尔%中为5～50摩尔%。本专利技术的第2方式涉及一种感光性干膜，其在支持膜的表面上形成有由所述的感光性树脂组合物形成的抗蚀剂膜。本专利技术的第3方式涉及一种图案形成方法，其包括以下工序：在基材的表面上形成由所述的感光性树脂组合物形成的抗蚀剂膜的工序；将所述抗蚀剂膜曝光而形成潜像的工序；以及将形成有潜像的所述抗蚀剂膜用pH10.5～12.5的显影液进行显影处理而形成抗蚀剂图案的工序。专利技术的效果根据本专利技术的感光性树脂组合物，在COF、通过积层方法得到的多层印刷布线板中的电路形成工艺中，可以形成不易发生破裂，未曝光部的膜减少小，灵敏度、分辨率良好且耐镀敷性优异的抗蚀剂膜。根据本专利技术的感光性干膜，在COF、通过积层方法得到的多层印刷布线板中的电路形成工艺中，可以形成不易发生破裂，未曝光部的膜减少小，灵敏度、分辨率良好且耐镀敷性优异的抗蚀剂膜。根据本专利技术的图案形成方法，在COF、通过积层方法得到的多层印刷布线板中的电路形成工艺中，可以形成缺陷少的高精度的微细图案。具体实施方式本说明书中，所谓“(甲基)丙烯酸”，是指丙烯酸或甲基丙烯酸，所谓“(甲基)丙烯酰”，是指丙烯酰或甲基丙烯酰。此外，本说明书中，所谓“单体”，是指具有聚合性的碳－碳双键的化合物。＜感光性树脂组合物＞本专利技术的感光性树脂组合物包含乙烯基系聚合物(I)、乙烯基系聚合物(II)、醌二叠氮化合物(III)和特定的化合物(IV)，根据需要进一步包含其它成分。(乙烯基系聚合物(I))乙烯基系聚合物(I)为将包含具有酚性羟基的单体(a)的单体混合物进行聚合而得的聚合物，为根据需要将进一步包含含有羧基的乙烯基系单体(b)和能够与它们共聚的其它乙烯基系单体(c)的单体混合物进行聚合而得的聚合物。具有酚性羟基的单体(a)(以下，也简记为单体(a))为具有1个以上芳香族环，将上述芳香族环的氢原子的1个以上置换成羟基的单体。作为单体(a)，优选为下述式(1)所示的单体(a1)、下述式(2)所示的单体(a2)或下述式(3)所示的单体(a3)。R1～R5各自独立地为氢原子、羟基、碳原子数1～24的烷基、碳原子数1～24的芳基或碳原子数1～24的芳烷基，R1～R5中的至少1个为羟基。作为除羟基以外的R1～R5，优选为氢原子、碳原子数1～24的烷基，从单体(a)的获得容易性的观点出发，更优选为氢原子。X为氧原子或NH。作为单体(a1)，从获得容易性的观点出发，优选为下述式(1－1)所示的单体(a1－1)或下述式(1－2)所示的单体(a1－2)。此外，作为单体(a2)，从获得容易性的观点出发，优选为下述式(2－1)所示的单体(a2－1)。此外，作为单体(a3)，从获得容易性的观点出发，优选为下述式(本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2009.12.28 JP 2009-2971441.一种感光性树脂组合物，其包含：将单体混合物进行聚合而得的乙烯基系聚合物I，所述单体混合物包含具有酚性羟基的单体a和含有羧基的乙烯基系单体b，所述单体b的比例在单体的合计加入量100摩尔％中为10～30摩尔％；将包含含有羧基的乙烯基系单体b的单体混合物进行聚合而得的、质均分子量为20,000～100,000的乙烯基系聚合物II，其中，所述乙烯基系聚合物I除外；醌二叠氮化合物III；以及化合物IV，所述化合物IV为选自由下述式(5－1)和下述式(5－2)所示的化合物所组成的组中的至少1种化合物，所述化合物IV的含有比例相对于乙烯基系聚合物I和乙烯基系聚合物II的合计100质量份为0.5～10质量份，所述单体a为下述式(1)所示的单体a1、下述式(2)所示的单体a2或下述式(3)所示的单体a3，R1～R5各自独立地为氢原子、羟基、碳原子数1～24的烷基、碳原子数1～24的芳基或碳原子数1～24的芳烷基，R1～R5中的至少1个为羟基，X为氧原子或NH。2.根据权利要求1所...

【专利技术属性】
技术研发人员：上田昭史，中河原秀孝，渡边和夫，渡边茂辉，篮伟仁，林昭文，
申请(专利权)人：株式会社微处理，台湾永光化学工业股份有限公司，三菱丽阳株式会社，
类型：发明
国别省市：