一种二芳基乙炔的合成方法技术

技术编号:7587165 阅读:218 留言:0更新日期:2012-07-20 17:22
在无过渡金属催化剂和无配体存在下,KOH/DMSO促进芳基乙炔和卤代芳烃的Sonogashira交叉偶联反应合成二芳基乙炔。不用昂贵的过渡金属,不用配体,成本低廉,反应条件温和,工艺绿色环保。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于有机合成、有机化工、制药工程等

技术介绍
二芳基乙炔广泛作为液晶材料、导电高分子材料、有机合成和药物合成的中间体, 通常通过过渡金属钯、铜、镍等催化卤代芳烃和末端芳基炔烃的交叉偶联,即Sonogashira 反应来合成(Chem. Rev. 2007, 107, 874-922 ;有机化学,2005,25,8-24)。Pd、Cu和Ni等催化剂是Sonogashira反应最普遍被使用的催化剂。迄今为止,绝大多数的碳一碳和碳一杂交叉偶联反应使用了含Pd和Ni的催化剂。尽管这样的交叉偶联反应有较佳的催化性能,然而,Pd高昂的价格以及Pd和Ni较强的毒性阻碍了这类交叉偶联反应在很多场合中的应用。鉴于以上的种种问题,最近几年来人们对Sonogashira反应做了多方面的探索与研究,以寻求更为廉价、安全、高效的催化剂体系为主要趋势,并取得了一些重要进展m。但是,这些研究绝大多数还是停留在金属催化方面,重点在寻找新配体、合成新催化剂。近年来研究人员开始把注意力转向强碱存在下的有机催化C-C交叉偶联、C-S偶联、C-O偶联和C-N偶联等交叉偶联领域,这类有机催化剂主要是邻位二胺,一般要配合KOiBu和KOH等强碱一起使用才能起到催化效果。但是,还未见用于Sonagashira交叉偶联反应的有机催化体系或者无催化剂的反应体系的报道。KOH与 DMSO混合使用成为一种超强碱,最近,Bolm报道了这类超强碱促进C-N、C-0、C-S交叉偶联反应。受到Bolm对超强碱促进碳一杂原子交叉偶联的启发,在我们长期研究包含C-N偶联在内的有机合成研究基础上,我们把以前只应用在构建C-X (0、S、N)键的方法延伸到构建Csp2-Csp键的Sonogashira反应上。采用KOH-DMSO体系促进卤代芳烃与端炔的交叉偶联反,取得较好的结果,这在Sonogashira反应研究领域中属于首次报道。该方法不仅可以使反应在相对比较温和的条件下进行,由于避免了钯、铜等金属的使用,会大大提高反应的原子经济性,降低污染。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种二苯乙炔类化合物的新合成方法。本专利技术发展了无过渡金属、无配体、氢氧化钾/ 二甲亚砜促进Sonogashira偶联端炔和卤代芳烃偶联合成炔类化合物的新合成方法。反应方程式如下权利要求1.一种无过渡金属催化剂和无配体、氢氧化钾和二甲亚砜促进芳基乙炔和卤代芳烃的 Sonogashira交叉偶联合成二芳基乙炔的合成方法。2.根据权利要求I所述的二芳基乙炔的合成方法,其特征在于无需过渡金属和配体, 在氩气保护下加热芳基乙炔、卤代芳烃、氢氧化钾、二甲亚砜。全文摘要在无过渡金属催化剂和无配体存在下,KOH/DMSO促进芳基乙炔和卤代芳烃的Sonogashira交叉偶联反应合成二芳基乙炔。不用昂贵的过渡金属,不用配体,成本低廉,反应条件温和,工艺绿色环保。文档编号C07B37/00GK102584510SQ20121001741公开日2012年7月18日 申请日期2012年1月19日 优先权日2012年1月19日专利技术者史少辉, 张小平, 曾庆乐 申请人:成都理工大学本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:曾庆乐史少辉张小平
申请(专利权)人:成都理工大学
类型:发明
国别省市:

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