一种不导电金属膜层镀膜玻璃及其制备方法技术

本发明专利技术的目的在于提供一种不导电金属膜层镀膜玻璃及制备方法，该玻璃是用磁控溅射方法从玻璃表面依次向外，在玻璃表面上层叠状镀制颜色调整膜、不导电金属膜、氮化物保护膜；不导电金属膜的方块电阻为5～270兆欧，镀膜玻璃的可见光透射率为20%～42%。制备方法依次为以下步骤：1）.对待镀膜玻璃用电阻大于13兆欧的去离子水清洗，风刀进行干燥；2）.工作气压为0.30～0.25Pa，用Ar和O2反应溅射沉积，其中，体积比Ar/O2=3:1～3:2，在玻璃基片上镀制颜色调整层二氧化锡；3）.工作气压为0.30～0.35Pa，用Ar作为工作气体，在颜色调整层上镀制硅铝合金不导电膜；4）.工作气压为0.30～0.25Pa，用Ar和N2反应溅射沉积，其中，体积比Ar/N2=0.7:1～3:1，在硅铝合金不导电膜上镀制氮化硅保护膜。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术具体涉及ー种在玻璃上镀制不导电金属膜层的产品及其制备方法。该镀膜玻璃表面拥有金属光泽和几乎不导电(方块电阻5兆欧以上)、不完全屏蔽电磁波的优良性能，并对玻璃有好的装饰作用。本专利技术属于显示器件玻璃、汽车、火车、轮船、建筑、家电用玻璃和照明灯具玻璃

技术介绍
在ー些特殊的场合，玻璃被要求须具备显示金属光泽的外观、半透视的可见光透射率，和不能完全阻止电磁波的透射等性能，例如显示器件玻璃镀制不导电金属膜，显示金属的光泽，不会完全屏蔽电磁波影响显示器件工作；在ー些特殊空间，窗玻璃既要求金属化、又需要保持电磁波的透射。同吋，不导电金属膜层镀膜玻璃，还能达到半透视可见光、反射红外线，达到室内隔热的作用。目前，已有很多方法(溅射、蒸镀、气相沉积、电镀等エ艺) 可以通过在玻璃上镀制金属膜层达到玻璃反射金属光泽、降低可见光透射率的目的。但是， 目前用这些エ艺方法在玻璃上镀制的金属膜层都导电、屏蔽电磁波，影响了ー些需要电磁波透射的工作场所。在塑胶上镀制不导电金属膜(201010129693. 6，一种用于塑胶产品表面的不导电金属膜的制作方法)，需要在塑胶基底上涂UV膜层，再真空蒸镀锡或锡合金膜制备不导电金属膜，最后出真空室在常压下再涂UV固化层做不导电金属膜的保护层；这种方法 エ艺繁琐、不导电金属膜层不牢、膜层的色彩不能调整；并且在塑胶基材上镀制不导电金属膜，由于基材的耐久性低于玻璃，也不适合在建筑、机车等长久接触紫外线的环境下使用。
技术实现思路
技术问题本专利技术的目的在于在玻璃上镀制不导电金属膜层，提供ー种不导电金属膜层的镀膜玻璃及其制备方法。镀膜玻璃性能包括半透明、反射光顔色可以调整、膜面的方块电阻大于5兆欧。技术方案本专利技术的不导电金属膜层镀膜玻璃，是用磁控溅射方法从玻璃表面依次向外，在玻璃表面上层叠状镀制颜色调整膜、不导电金属膜、氮化物保护膜；不导电金属膜的方块电阻为5 270兆欧，镀膜玻璃的可见光透射率为20% 42%。所述的颜色调整膜是用锡靶材氧化反应溅射沉积的ニ氧化锡膜层；不导电金属膜是用硅铝合金靶材溅射沉积孤岛状结构的硅铝膜层；氮化物保护膜是用硅靶材氮化反应溅射沉积的氮化硅保护膜层。颜色调整膜层、硅铝合金膜层和保护膜层的厚度分别为10 90纳米、5 30纳米、10 30纳米。所述的不导电金属膜层镀膜玻璃的制备方法依次为以下步骤1) 对待镀膜玻璃用电阻大于13兆欧的去离子水清洗，风刀进行干燥；2).工作气压为0.30 0. 25Pa，用Ar和O2反应溅射沉积，其中，体积比Ar/02=3:1 3:2，在玻璃基片上镀制颜色调整层ニ氧化锡；3).工作气压为0.30 0. 35Pa，用Ar作为工作气体，在颜色调整层上镀制硅铝合金不导电膜；4).工作气压为0.30 0. 25Pa，用Ar和N2反应溅射沉积，其中，体积比Ar/ N2=O. 7:1 3:1，在硅铝合金不导电膜上镀制氮化硅保护膜。所述颜色调整膜层，改变其厚度，镀膜玻璃的反射光能显示银灰、金黄或蓝色。有益效果本专利技术制备方法简单，且镀膜玻璃表面除了拥有金属光泽和几乎不导电(方块电阻5兆欧以上)、不完全屏蔽电磁波、并对玻璃有好的装饰作用外，还具有膜层牢固、耐久性好、膜层的色彩能调整的优点，可以在长久接触紫外线的环境下使用。本专利技术的溅射镀膜的膜层成分简单、溅射靶材费用低，根据膜层的厚度可以调整顔色、可见光的透射率、膜层方块电阻；生产过程没有三废排放。 本专利技术在显示器玻璃、汽车、火车、轮船、建筑、家电用玻璃和照明玻璃灯具エ业方面具有广泛的应用，前景广阔。具体实施例方式从玻璃表面依次向外，用磁控溅射方法在玻璃上镀制颜色调整膜、不导电金属膜、 氮化物保护膜(玻璃/颜色调整膜/不导电金属膜/氮化物保护膜);这三层膜在溅射室依次完成。其特征是镀膜玻璃的膜系中含有硅铝合金膜层，利用硅铝合金膜在厚度小于30nm 时呈现孤岛状结构的特征，形成不连续导电膜。(镀膜玻璃)宏观上就是不导电金属膜，方块电阻大于5兆欧。所述的颜色调整膜层、硅铝合金膜层和保护膜层，分别用锡靶材氧化反应溅射沉积氧化锡膜、用硅铝合金靶材溅射沉积孤岛状结构硅铝膜、用硅靶材氮化反应溅射沉积氮化硅保护膜。所述的颜色调整膜层、硅铝合金膜层和保护膜层的厚度分别为10 90纳米、5 30纳米、10 30纳米。本专利技术的不导电金属膜层镀膜玻璃及其制备方法包括如下步骤1)首先对待镀膜玻璃基片用电阻大于13兆欧的去离子水清洗，风刀进行干燥；2)然后把洁净玻璃基片放入溅射室；溅射室背底真空小于2.5X10_3Pa ；3)通入工作气体(氩气)和反应气体(氧气)，或工作气体(氩气)，或工作气体(氩气)和反应气体(氮气)，用溅射方法在洁净干燥的玻璃基片上依次镀制颜色调整膜层、硅铝合金膜层和保护膜层。实例I 用溅射方法制备不导电金属膜镀膜玻璃，包括如下步骤I)对待镀膜玻璃基片进行清洗、干燥；基片玻璃对太阳光谱中可见光的透射率为91% ；2)工作气压为0. 30Pa，用Ar和O2反应溅射沉积，其中Ar/02=3:2 (体积比)，在玻璃基片上镀制顔色调整层ニ氧化锡；3)工作气压为0.35Pa，用Ar作为工作气体，在颜色调整层上镀制硅铝合金不导电膜；4)工作气压为0.30Pa，用Ar和N2反应溅射沉积，其中Ar/ N2=O. 7:1 (体积比);在硅铝合金不导电膜上镀制氮化硅保护膜；得到的不导电金属膜镀膜玻璃的性能如下顔色调整层膜厚10nm、硅铝合金膜厚5nm、氮化硅保护膜厚10 ;可见光透过率42%，方块电阻270兆欧；膜层反射色呈淡黄；镀膜玻璃的理化性能符合国家“镀膜玻璃”标准(GB/T18915. I 18915. 2-2002)。实例2 用溅射方法制备不导电金属膜镀膜玻璃，包括如下步骤I)对待镀膜玻璃基片进行清洗、干燥；基片玻璃对太阳光谱中可见光的透射率为91% ； 2)工作气压为0. 30Pa，用Ar和O2反应溅射沉积，其中Ar/02=3:1 (体积比)，在玻璃基片上镀制顔色调整层ニ氧化锡；3)工作气压为0.35Pa，用Ar作为工作气体，在颜色调整层上镀制硅铝合金不导电膜；4)工作气压为0.30Pa,用Ar和N2反应溅射沉积，其中Ar/ N2=I: I (体积比);在硅铝合金不导电膜上镀制氮化硅保护膜；得到的不导电金属膜镀膜玻璃的性能如下顔色调整层膜厚18nm、硅铝合金膜厚 10nm、氮化硅保护膜厚20 ;可见光透过率34%，方块电阻150兆欧；膜层反射色呈现银灰；镀膜玻璃的理化性能符合国家“镀膜玻璃”标准(GB/T18915. I 18915. 2-2002)。实例3 :用溅射方法制备不导电金属膜镀膜玻璃，包括如下步骤I)对待镀膜玻璃基片进行清洗、干燥；基片玻璃对太阳光谱中可见光的透射率为91% ； 2)工作气压为0. 30Pa，用Ar和O2反应溅射沉积，其中Ar/02=3:1 (体积比)，在玻璃基片上镀制顔色调整层ニ氧化锡；3)工作气压为0.30Pa，用Ar作为工作气体，在颜色调整层上镀制硅铝合金不导电膜；4)工作气压为0.30Pa，用Ar和N2反应溅射沉积，其中Ar/N2=2:l (体积比);在硅铝合金不导电膜上镀制氮化硅保护膜；得到的不导电金属膜镀膜玻璃的性能如下顔色调整层膜厚40nm、硅铝合金膜厚 本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：赵青南，董玉红，
申请(专利权)人：江苏秀强玻璃工艺股份有限公司，
类型：发明
国别省市：