【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种光致抗蚀剂组合物，具体地涉及一种含有共溶剂的抗蚀剂组合物，其在真空干燥后具有优异的涂布均勻度及图案轮廓(pattern profile)，并且具有优异的抑制涂布后斑点(不均)的能力，可容易适用在实际工业生产上，而且在大规模生产时， 凭借使用量的降低及大量生产所需时间的缩短等，可以更好地改善作业环境。
技术介绍
如同液晶显示装置电路或半导体集成电路，为了形成精细的电路图案，首先向已形成在基板上的绝缘膜或金属导电膜均勻地涂布光致抗蚀剂组合物。然后，使用规定形状的掩膜，对经过涂布的光致抗蚀剂组合物进行曝光、显影，以形成规定形状的图案。之后，将形成有所述图案的光致抗蚀剂膜作为掩膜，对金属膜或绝缘膜进行蚀刻后，除去残留的光致抗蚀剂膜，以在基板上形成精细电路。所述涂布一般采用旋转涂布方式或狭缝涂布方式。这些涂布方式的优点在于能够形成均勻的光致抗蚀剂膜。涂布均勻度是指涂布在整个基板上的光致抗蚀剂厚度的均勻程度，涂布均勻度越高，则在后续工艺中越容易确保安全性。因此，为了形成更加均勻且无斑点的光致抗蚀剂膜，适用多种溶剂。光致抗蚀剂组合物一般包含高分子树脂、感光性化合物及溶剂，以往已有很多尝试来改善利用光致抗蚀剂组合物形成的光致抗蚀剂膜的涂布均勻度、感光速度、显影对比度、分辨率及人身安全性。具体地，美国专利第3666473号披露了两种苯酚甲醛(phenolformaldehyde)酚醛清漆树脂的混合物及典型的感光性化合物，美国专利第41151 号披露了将有机酸环酐添加至酚醛树脂和二叠氮基萘醌感光剂中，以增加感光速度的方案，美国专利第4550069号披露了一...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
2010.11.19 KR 10-2010-01155171.一种光致抗蚀剂组合物，其包含a)5 30重量％的酚醛清漆树脂；b)2 10重量％的二叠氮类感光性化合物；c)1 70重量％的由下述化学式1表示的共溶剂；以及d)余量的有机溶剂，[化学式1]O ρ在所述化学式1中，R1为氢或具有1 10个直链或侧链碳原子的烷基，R2为具有1 10个直链或侧链碳原子的烷基或烯丙基。2.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其中由所述化学式1表示的共溶剂为选自2-甲基戊二酸二甲酯、己二酸二甲酯、戊二酸二甲酯、丁二酸二甲酯、己二酸二异丁酯、 戊二酸二异丁酯及丁二酸二异丁酯中的至少一种。3.根据权利要求1所述的光致抗蚀...
【专利技术属性】
技术研发人员：金升起，边滋勋，金炳郁，金东敏，李原荣，诸葛银，朴柱京，朱相一，咸先美，李斗渊，朴一圭，郑起和，金京浩，洪宇成，
申请(专利权)人：株式会社东进世美肯，
类型：发明
国别省市：
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