纳米线元件的制作方法技术

本发明专利技术涉及一种纳米线元件的制作方法，其包括：提供包括第一基板及位于第一基板的导电转印图案层的压印模具，导电转印图案层包括第一导电体；向导电转印图案层通交流电；将纳米线液滴至导电转印图案层并以介电泳方式将纳米线液中的纳米线阵列排列在两相邻第一导电体，该纳米线阵列连接第一导电体；提供包括第二基板及位于第二基板的被转印层的被转印体；以纳米压印方式使带有纳米线阵列的导电转印图案层与转印层贴合压印，纳米线阵列被转移至第二基板；在该第二基板形成导电图案层，导电图案层包括第二导电体，纳米线阵列连接两相邻第二导电体；及去除被转印层。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：许嘉麟，
申请(专利权)人：鸿富锦精密工业深圳有限公司，鸿海精密工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：