本发明专利技术的目的在于提供一种水处理装置，能够实现用极短的时间在常温条件下实现对所有的微生物的杀菌、灭菌。为达到这样的目的，本发明专利技术的水处理装置（１），用于在处理配管（９２）内对处理对象水（Ａ１）进行规定的处理并供应处理对象水，具有：紫外线照射装置（２０），其设置在所述处理管道上用于对所述处理对象水（Ａ１）照射紫外线；磁场产生装置（４０），其设置在所述处理配管上的所述紫外线照射装置的下游侧，对流动的所述处理对象水施加磁场；原子团增加部（３０，其设置在所述处理通路上的所述紫外线照射装置与所述磁场产生装置之间，使过氧基（·Ｏ２－）、氢离子（Ｈ３Ｏ＋）、氢氧基（ＨＯ·）、过氧化氢（Ｈ２Ｏ２）、单线态氧（１Ｏ２）、金属－氧络合体（Ｍ－ＯＯ）、臭氧（Ｏ３）这些原子团中的至少一种的数量增加。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种水处理装置，具体点说，涉及一种对各种水而言都能够在极短的时间内完成灭菌处理的水处理装置。
技术介绍
迄今为止，关于水的无害化或杀菌的研究有很多。然而，在现在为止杀菌是利用高温进行的，这种方法或者是不能在不损伤食品的情况下实现杀菌，或者是即使杀菌也不能达到充分杀灭的程度。关于“杀菌”这个术语，对于不同的使用者而言其内涵也有较大的不同，在本说明书中，“灭菌”、“消毒”、“杀菌”这三个术语是区别使用的，具体请见后述内容。因此，在研究其现有技术时，需要注意这些词语之间的区别。“灭菌”是指将存在于对象物上的所有微生物全部灭杀。“消毒”是指有选择的杀灭微生物。而关于“杀菌”，习惯上认为它与消毒具有相同的含义的，但其语义并不明确，是一个不确定的词。应该注意的是，在使用“杀菌”这个词时，并不同于“灭菌”，并不是杀灭所有的微生物。上述用法是以感染病新法(日本法令)以及日本厚生省法令为依据的。另外， 在本专利技术中，作为灭菌对象的微生物而言，主要包括真菌、细菌、病毒以及原生动物。一般地，作为灭菌、消毒的方法，公知有物理方法、化学方法以及二者的组合。作为物理灭菌、消毒方法而言，有一种利用高温与高压的方法。例如，在高压且 100°C以上的条件下保持规定时间的方法。此时，灭菌对象物被置于蒸汽环境中、水中或者热且干燥的环境中。由于置于水中且维持在比常温高的温度下的方法是无害的，因而一直被广泛的使用。但是，需注意的是，根据温度的不同能够被消毒的微生物的种类也不同，有时不能实现彻底灭菌。利用较高的温度的方法有间歇灭菌法，间歇灭菌法是解除细菌的芽孢状态并进行灭菌的方法，通过使温度上升后再下降，使非常耐高温的芽孢发芽，从而能够将其灭杀。作为化学消毒方法而言，具有使用药剂的方法，所使用的药剂根据作为灭菌对象的微生物的种类选择。化学消毒方法一般不能实现灭菌。但是，利用高温、高压进行灭菌的方法并不适合对食品进行除菌(将附着在食品上的微生物灭杀)。这是由于高温与高压会使食品中的细胞结构被破坏从而使食品变质。 此外，考虑到药剂残留的问题，所以化学方法也不适合用于食品的灭菌。因而，需要有一种不利用高温、高压而是在常温(不到40°C )下安全且彻底的灭菌方法。作为不利用高温、高压的物理杀菌方法而言，现有技术中利用紫外线而进行杀菌。 但是，利用紫外线进行杀菌，如果紫外线不直接照射到微生物的话就没有效果，这种方法本身是一种非常不彻底的杀菌方法。另外，目前有很多针对使水活性化的装置的研究。作为水的活性化，常常采用的是在水中施加电场或磁场从而使水活性化的方法。例如，在专利文献1的废液过滤装置以及专利文献2的磁场波动水调整装置中即是在水中施加磁场从而使水活性化。并且，在由磁场而被活性化的水中照射紫外线从而进行杀菌。但是，如上所述，利用紫外线进行的杀菌其本身是非常不彻底的杀菌方法，远远没有达到灭菌的程度。在专利文献3中公开了一种磁力电离水的供水装置，该供水装置在使从容器中流出的水循环的同时对其进行处理。在该供水装置中，于水的循环路径中，用紫外线照射后施加磁场从而能够实现水的彻底灭菌。不过，在专利文献3中，杀菌是由紫外线照射进行的 (参照0050段)，磁力回路是为了生成磁场电离水而设置的。并且，在专利文献3中虽然使用了“彻底(完全)杀菌”这个词，但其是否达到了该说明书中作为目的而言的灭菌即彻底灭杀产孢菌(sporeformer)等的耐受力(抵抗力)高的微生物的程度，由于其中并无数据说明因而存有疑问。在到目前为止的杀菌技术中，有许多文献记载了照射紫外线能够杀菌的观点，但其中所说的杀菌并不是灭菌。并且，即便是在某些条件下能够实现灭菌，但也没有达到灭杀产孢菌的程度。此外，在专利文献3所记载的装置中，处理过的水是返回容器后才供使用的，因而，所供应的水有可能混入残存在容器中的杂菌。并且，包括上述专利文献之外的技术(高压灭菌器等)在内，现有的各种灭菌装置(较多使用的是高压蒸发灭菌器、干热灭菌器)并没考虑灭菌所需的时间，而这至少需要 1 2小时。现有技术文献专利文献专利文献1 日本专利技术专利公开公报特开2006-289317号专利文献2 日本专利技术专利公开公报特开2001-(^9957号专利文献3 日本专利技术专利公开公报特开2002-138526号
技术实现思路
专利技术所要解决的技术问题因而，基于上述的技术背景而作出了本专利技术，本专利技术的目的在于提供一种水处理装置，能够实现用极短的时间在常温条件(0 40°C )下实现对各种的微生物进行杀菌、灭菌。解决技术问题的技术方案本专利技术的水处理一种水处理装置，用于在处理通路内对处理对象水进行规定的处理并供应处理对象水，其具有紫外线照射装置，其设置在所述处理通路上用于对所述处理对象水照射紫外线；磁场产生装置，其设置在所述处理通路上的所述紫外线照射装置的下游侧，对流动的所述处理对象水施加磁场；原子团增加机构，其设置在所述处理通路上的所述紫外线照射装置与所述磁场产生装置之间，使过氧基(· (V)、氢离子(H3O+)、氢氧基 (H0 ·)、过氧化氢(H2O2)、单线态氧(1O2)、金属-氧络合体(M-00)、臭氧(O3)这些原子团中的至少一种的数量增加。采用这样的水处理装置，使处理对象水通过紫外线照射装置，能够在一定程度上灭杀微生物。此外，处理对象水通过紫外线照射装置时，能够产生使原子团或者使原子团增加的化学物种，例如，过氧基(·02_)、氢离子(H3O+)、氢氧基(Η0·)、过氧化氢(H2O2)、单线态氧(1O2)、金属-氧络合体(M-00)、臭氧(O3)。单单用紫外线照射通常的水的话，这些原子团的数量非常少。在本专利技术中，还设置有原子团增加机构，从而能够使处理通路中的紫外线照射装置与磁场产生装置之间的上述原子团或者使原子团增加的化学物种的至少一种增加。并且，在原子团增加的状态下，处理对象水通过磁场产生装置时能够给处理对象水施加磁场作用，在原子团的氧化作用下提高杀菌能力，将处理对象水中的微生物一概杀死。在原子团与磁场的相互作用下，能够实现强力的灭菌，并且使原子团的氧化能力消失。 本专利技术中所使用的原子团主要是水的构成要素，因而能够使通过了磁场产生装置的原子团无害化。如此，采用本专利技术的水处理装置，不使用药物，而是利用来源于水并最终返回水中的物质进行灭菌，并且能够得到可饮用的无害水。并且，通过了磁场产生装置的水的清洗能力较好，能够适用于食品等的清洗中，并且其渗透能力较高且没有微生物，因而能够适用在种子的浸泡、发芽中，比如，应用在幼芽的栽培中。上述原子团增加机构可以为能够使空气或氧气从外部进入所述处理通路内的小孔或间隙，该小孔或间隙设置于所述处理通路上的所述紫外线照射装置的上游侧或者所述紫外线照射装置与所述磁场产生装置之间。原子团增加机构也可以为能够将空气或者氧气从外部供应到所述处理通路内的气体供应器，且其设置于所述处理通路中的所述紫外线照射装置的上游侧或者所述紫外线照射装置与所述磁场产生装置之间。此外，所述原子团增加机构还可以为设置于所述处理通路中的所述紫外线照射装置的上游侧或者所述紫外线照射装置与所述磁场产生装置之间的过氧化氢产生装置。此外，上述水处理装置还可以具有离子量调整装置，该离子量调整装置设置在所述处理通路中的所述磁场产生装置的上游本文档来自技高网...
【技术保护点】
１．一种水处理装置，由外界向该水处理装置提供处理对象水，水处理装置在处理通路内对处理对象水进行规定的处理，其特征在于，包括：紫外线照射装置，其设置在所述处理通路中用于对所述处理对象水照射紫外线；磁场产生装置，其设置在所述处理通路中的所述紫外线照射装置的下游侧，对流过的所述处理对象水施加磁场；原子团增加机构，其设置在所述处理通路中的所述紫外线照射装置与所述磁场产生装置之间，使过氧基（·Ｏ２－）、氢离子（Ｈ３Ｏ＋）、氢氧基（ＨＯ·）、过氧化氢（Ｈ２Ｏ２）、单线态氧（１Ｏ２）、金属－氧络合体（Ｍ－ＯＯ）、臭氧（Ｏ３）这些原子团中的至少一种的数量增加。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：山田光男，
申请(专利权)人：山田微生物研究所，
类型：发明
国别省市：JP
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