压电振动片的制造方法及压电振动片、压电振动器、振荡器、电子设备及电波钟技术

技术编号:5408457 阅读:277 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术提供准确挑选次品并能提高商品的可靠性的压电振动片的制造方法及压电振动片、以及具备压电振动片的压电振动器、振荡器、电子设备及电波钟。具有如下特征:在抗蚀剂图案的形成工序中,以使光掩模(30)与光刻胶膜密合的状态对光刻胶膜进行接触式曝光,从而形成抗蚀剂图案,在抗蚀剂图案的形成工序的前段中包括光掩模加工工序,在光掩模(30)中的与外形图案相当的外形相当区域(33)发现了缺陷时,除去一部分遮光膜图案(35),变更存在伤痕(K)的外形相当区域(33)的形状。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及压电振动片的制造方法及压电振动片、以及具备压电振动片的压电振 动器、振荡器、电子设备及电波钟。
技术介绍
近年来,在便携电话或便携信息终端设备上,采用利用了水晶等作为时刻源或控 制信号的定时源、参考信号源等的压电振动器。虽然能提供各式各样的这种压电振动器,但 作为其中之一,众所周知具有音叉型的压电振动片的器件。该压电振动片具备平行配置的 一对振动腕部和将这些一对振动腕部的基端侧固定成一体的基部,使振动腕部彼此在互相 接近或分离的方向上以既定的谐振频率进行振动。例如在专利文献1 3中公开了压电振动片的制造方法。在此,对压电振动片的 外形构图做具体说明,则首先在水晶等的圆片(wafer)形成金属膜之后,在金属膜上形成 抗蚀剂膜。接着,利用光刻技术隔着光掩模的遮光膜图案进行曝光,并进行显影,由此对抗 蚀剂膜进行构图,形成沿着压电振动片的外形形状的抗蚀剂图案。然后,以抗蚀剂图案为掩 模对金属膜进行蚀刻,由此形成有选择地除去抗蚀剂图案保护的区域以外的金属膜的金属 膜图案。其后,以金属膜图案为掩模对圆片进行蚀刻,由此有选择地除去金属膜图案保护的 区域以外的圆片,能够形成压电振动片的外形形状。此外,在进行上述的曝光时,有时采用这样的方法在抗蚀剂膜使用负型抗蚀剂, 在使抗蚀剂膜与光掩模密合的状态下进行曝光的接触式曝光。在接触式曝光中,由于抗蚀 剂膜与光掩模密合,能够减少抗蚀剂膜与光掩模之间的光的蔓延。其结果,能够提高曝光 时的析像度,并且能以较高的尺寸精度形成抗蚀剂图案。专利文献1 日本特开2002-261557号公报专利文献2 日本特开2004-120351号公报专利文献3 日本特开2009-88753号公报但是,在通过上述的接触式曝光进行抗蚀剂膜的构图时,由于异物夹入光掩模与 抗蚀剂膜之间,有可能在光掩模中与压电振动片的外形相当的外形相当区域发生裂纹等的 伤痕。在该伤痕部分中,曝光时的光的透射率低于无伤痕的良好部分,所以在与伤痕部分相 当的区域的抗蚀剂膜上也出现伤痕的影响。即,与外形相当区域相同的伤痕也转印到抗蚀 剂图案。因此,在形成金属膜图案时由于蚀刻剂浸入到抗蚀剂图案的伤痕部分而金属膜被 异常蚀刻,存在无法以所希望的形状形成金属膜图案的问题。其结果,在其后的构图圆片的 外形时,由于圆片被异常蚀刻而不能按所希望的外形形成压电振动片,存在比所希望的外 形,破碎或凹陷(所谓水晶失色(々7 > ))的问题。光掩模在曝光之后通过清洗而可以数 次反复使用,但是光掩模如果有一次受伤,就无法在该伤痕部分制造出合格的压电振动片。在此,压电振动片在最终工序中进行谐振频率等的电特性检查,挑选良品和次品, 但是有时根据水晶失色的位置或规模,无法准确地挑选出发生水晶失色的次品的压电振动片。这时,存在这样的问题在次品的压电振动片在市场上流通而作为制品使用时,由于碰 撞或疲劳等而压电振动片以水晶失色的部位为起点易折。
技术实现思路
于是,本专利技术鉴于上述问题构思而成,提供能够准确挑选次品而提高商品的可靠 性的压电振动片的制造方法及压电振动片、以及具备压电振动片的压电振动器、振荡器、电 子设备及电波钟。为了解决上述课题,本专利技术提供以下的方案。本专利技术的压电振动片的制造方法,其特征在于包括掩模材料图案形成工序,对形 成在应该形成外形图案的加工对象物上的掩模材料进行构图而形成掩模材料图案;以及外 形图案形成工序,除去所述掩模材料图案的形成区域以外的区域的所述加工对象物而形成 所述外形图案,在所述掩模材料图案形成工序中,使用在具有透光性的基板上形成有遮光 膜图案的光掩模,以使所述光掩模密合至所述掩模材料的状态对所述掩模材料进行接触式 曝光,由此形成所述掩模材料图案,在所述掩模材料图案形成工序的前段包括光掩模加工 工序,在所述光掩模中的与所述外形图案相当的外形相当区域发现了缺陷时,除去一部分 所述遮光膜图案,变更存在所述缺陷的所述外形相当区域的形状。依据该构成,在光掩模加工工序中,在预先变更存在缺陷的外形相当区域的形状 的状态下进行接触式曝光,由此,借助存在缺陷的外形相当区域构图的掩模材料,形成为具 有与借助良好的外形相当区域构图的良好掩模材料图案不同的形状的不良掩模材料图案。 由此,能够积极地使借助不良掩模材料图案构图的外形图案的形状和借助良好掩模材料图 案构图的外形图案的形状不同。因而,在最终工序的电特性检查等中,在良品和次品上产生 明确的电特性的差。因此,能够准确地挑选出良品和次品,能够只让良品在市场上流通。因 而,能够提供振动特性优越的可靠性高的压电振动片。此外,特征在于所述压电振动片包括平行配置的一对振动腕部和将所述一对振 动腕部的基端侧固定成一体的基部,在所述外形图案形成工序的后段包括外形形成工序, 以所述外形图案为掩模,通过对由压电材料构成的圆片进行构图,形成所述压电振动片的 外形。依据该构成,在外形形成工序中,通过在良品和次品上形状明显不同的外形图案 对圆片进行构图,因此能够在良品和次品上使压电振动片的外形明显不同。其结果,在最终 工序的电特性检查等中,在良品和次品上产生明确的电特性的差,能够准确地挑选出良品 和次品。此外,特征在于所述掩模材料由负型抗蚀剂构成,所述遮光膜图案形成在所述基 板上的所述外形相当区域以外的区域,在所述光掩模加工工序中,以连接与所述一对振动 腕部相当的区域的方式变更所述外形相当区域的形状。依据该构成,在光掩模加工工序中,以连接与振动腕部相当的区域的方式变更外 形相当区域的形状,由此能够形成振动腕部彼此连接的压电振动片。这时,由于振动腕部彼 此连接的压电振动片不振动,能够在电特性检查等中准确地进行良品和次品的挑选。此外,特征在于所述掩模材料由正型抗蚀剂构成,所述遮光膜图案形成在所述基 板上的所述外形形成区域,在所述光掩模加工工序中,以切断所述一对振动腕部中与至少一个所述振动腕部相当的区域的所述遮光膜图案的方式,变更所述外形相当区域的形状。依据该构成,在光掩模加工工序中,以切断与至少一个振动腕部相当的区域的遮 光膜图案的方式变更外形相当区域的形状,由此能形成没有至少一个振动腕部的压电振动 片。这时,压电振动片不振动,所以能够在电特性检查等中准确地进行良品和次品的挑选。此外,特征在于在所述外形图案形成工序的后段包括电特性检查工序,检查所述 压电振动片的电特性是否在既定范围内,在所述光掩模加工工序中,变更所述外形相当区 域的形状,以使从存在所述缺陷的所述外形相当区域形成的所述压电振动片的电特性,在 所述电特性检查工序中脱离所述既定范围。依据该构成,在光掩模加工工序中,变更外形相当区域的形状,以使从存在缺陷的 外形相当区域形成的压电振动片的电特性,在电特性检查工序中脱离既定范围,由此能够 准确地挑选良品和次品。此外,本专利技术的压电振动片的特征在于利用上述本专利技术的压电振动片的制造方 法来制造。依据该结构,由于利用上述本专利技术的压电振动片的制造方法来制造,能够得到振 动特性优越的可靠性高的压电振动片。此外,本专利技术的压电振动器的特征在于上述本专利技术的压电振动片被气密密封到 封装件而成。依据该结构,由于上述本专利技术的压电振动片气密密封到封装件,能够提供振动特 性优越的可靠性高的压电振动器。此外,本专利技术的振荡器本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种压电振动片的制造方法,其特征在于包括:掩模材料图案形成工序,对形成在应该形成外形图案的加工对象物上的掩模材料进行构图而形成掩模材料图案;以及外形图案形成工序,除去所述掩模材料图案的形成区域以外的区域的所述加工对象物而形成所述外形图案,在所述掩模材料图案形成工序中,使用在具有透光性的基板上形成有遮光膜图案的光掩模,以使所述光掩模密合至所述掩模材料的状态对所述掩模材料进行接触式曝光,由此形成所述掩模材料图案,在所述掩模材料图案形成工序的前段包括光掩模加工工序,在所述光掩模中的与所述外形图案相当的外形相当区域发现了缺陷时,除去一部分所述遮光膜图案,变更存在所述缺陷的所述外形相当区域的形状。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:河口昌之
申请(专利权)人:精工电子有限公司
类型:发明
国别省市:JP[]

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