液压转印用基膜、液压转印用基膜的制造方法以及液压转印方法技术

本发明专利技术提供一种具有优异的印刷适用性和优异的转印效率的液压转印用基膜，以及使用所述基膜的液压转印方法。本发明专利技术涉及一种液压转印用基膜，其包括聚乙烯醇基膜，其中在将所述基膜浮于液面上２５秒后的卷曲面积率为３０％以下。所述基膜用于利用连续系统或间歇系统的液压转印方法中。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种液压转印用基膜、所述基膜的制造方法以及使用 所述基膜的液压转印方法，所述基膜是通过浮于液面特别是水面上使 用的，并且可以顺利地把印刷在膜表面上的设计转印至转印基材上。
技术介绍
通常，使用包括聚乙烯醇基树脂作为形成材料的聚乙烯醇基树脂 膜作为水压转印用基膜。聚乙烯醇基树脂膜按如下的方式应用于水压 转印方法中。在聚乙烯醇基树脂膜的表面上印刷所需的设计，将所述 膜浮于水面上，使得印刷有设计的表面朝上，从膜的上方把转印基材 压在膜的印刷有设计的表面上，并且将设计转印至转印基材上。在这种水压转印方法中，据公开通过使用例如下列基膜作为基膜， 有可能实现高清晰度转印所述基膜包括聚乙烯醇基树脂作为主要成分，在通过差示扫描量热法(DSC)测量的吸热曲线中，该基膜在150°C 以上具有两个吸热峰，其峰值温度差在32C以内(见专利文献1);或者 所述基膜包括聚合度为500~3,000且皂化度为80-99.9摩尔％的聚乙烯 醇，水含量为1.5~4.0%，厚度为20 50nm，当于5(TC下在膜的长度方 向上施加8.0 kg/m的张力达1分钟时，宽度收缩率为0.01~1.5%(见专 利文献2)。专利文献l: JP-A 2002-301899 专利文献2: JP-A 2005-6063
技术实现思路
本专利技术要解决的问题然而，包括上面专利文献1和2情形的使用常规聚乙烯醇基树脂 膜的水压转印方法存在着转印适应性方面的问题，使得当将印刷有设 计的基膜浮于水面上时，基膜会伸展或巻曲，结果难以按照图像进行 印刷。此外，巻曲的产生在对设计的转印的生产率方面造成问题。特 别是，近年来，对设计的印刷为多层印刷，并且使用具有优异耐久性 的印刷用油墨。这些导致膜的印刷有设计的表面与其未印刷表面之间 产生吸水性差异。结果，巻曲的产生变得进一步显著，从而导致了大 问题。考虑到上述情况而完成本专利技术。本专利技术的目的是提供一种印刷适 用性及转印效率(生产率)优异的液压转印用基膜、其制造方法以及使用 所述基膜的液压转印方法。解决问题的手段作为为了实现上述目的而进行认真研究的结果，本专利技术人发现基 膜的巻曲面积率是重要的，并且发现使用能够具有比常规基膜更低的 巻曲面积率的基膜实现了优异的转印适用性和另外优异的转印效率。 因而完成了本专利技术。本专利技术是基于这样的发现而完成的，其要点如下。 一种液压转印用基膜，其包括聚乙烯醇基膜，其中从将所述基膜浮于液面上开始25秒后的巻曲面积率为30%以下。 [l]所述的液压转印用基膜，其中从将所述基膜浮于液面上开始 30秒后的椭圆率为30%以下。 [1]或[2]所述的液压转印用基膜，其中所述聚乙烯醇基膜的水 含量在2~6重量％范围内。 [1] [3]中任一项所述的液压转印用基膜，其中所述聚乙烯醇基 膜由包括聚乙烯醇基树脂(A)和交联剂(B)的制膜材料制成。 [1] [4]中任一项所述的液压转印用基膜，其中所述聚乙烯醇基膜由包括聚乙烯醇基树脂(A)和填料(C)的制膜材料制成。 [1] [5]中任一项所述的液压转印用基膜，其中所述聚乙烯醇基膜由包括聚乙烯醇基树脂(A)和增塑剂(D)的制膜材料制成。 [4] [6]中任一项所述的液压转印用基膜，其中所述聚乙烯醇基树脂(A)的4重量％水溶液在20。C下的平均粘度为10~70 mPa's，并且所述聚乙烯醇基树脂(A)的平均皂化度为70~98摩尔％。 [1] [7]中任一项所述的液压转印用基膜，其中所述聚乙烯醇基膜的厚度为20 50prn。 一种液压转印用基膜的制造方法，其中将包含聚乙烯醇基树脂(A)的制膜材料在制膜带或制膜滚筒上流延并干燥而制成膜之后，对所述膜的与所述制膜带或制膜滚筒接触的表面相反的表面进行热处理。 [1] [8]中任一项所述的液压转印用基膜的制造方法，其中将 包含聚乙烯醇基树脂(A)的制膜材料在制膜带或制膜滚筒上流延并干燥 而制成膜之后，对所述膜的与所述制膜带或制膜滚筒接触的表面相反 的表面进行热处理。 一种液压转印方法，其包括在[1]~[8]中任一项所述的液压转印用基膜的表面上印刷给定的 设计；在所述印刷有设计的表面上涂布油墨活化剂；相对于所述液压转印用基膜的流动方向，在宽度方向上设定1.5 倍以下的限制，以所述印刷有设计的表面朝上将所述液压转印用基膜 浮于液面上并移动；以及从基膜的上方把转印基材压至所述液压转印用基膜上，从而使印 刷在基膜表面上的设计转印至转印基材上。 —种液压转印方法，其包括在[1] [8]中任一项所述的液压转印用基膜的表面上印刷给定的设计；在所述印刷有设计的表面上涂布油墨活化剂；对所述液压转印用基膜在纵横各方向上设定1.5倍以下的纵横限 制，以所述印刷有设计的表面朝上使所述液压转印用基膜浮于液面上；以及在静止状态下从所述基膜的上方把转印基材压至所述液压转印用 基膜上，从而使印刷在基膜表面上的设计转印至转印基材上。专利技术的优点本专利技术的液压转印用基膜包括聚乙烯醇基树脂，其中从将所述基膜浮于液面上开始25秒后的巻曲面积率为30%以下。因此，所述基膜 在转印适用性和转印效率方面具有优异的效果。具体实施例方式以下详细描述本专利技术。本专利技术的液压转印用基膜(以下称基膜)是包括聚乙烯醇基膜的 液压转印用基膜，其中从将所述基膜浮于液面上开始25秒后的巻曲面 积率为30%以下。本文中使用的术语包括聚乙烯醇基膜意指包括层压了除聚乙烯 醇基膜以外的其它层(如膜及涂膜)的实施方案。然而，在许多情况下一 般仅使用聚乙烯醇基膜作为基膜。本文中使用的术语聚乙烯醇基意指包括未改性的聚乙烯醇、改 性的聚乙烯醇等。然而，该术语通常是指聚乙烯醇。聚乙烯醇基膜是用制膜材料制造的膜，所述制膜材料包括聚乙烯 醇(以下有时縮写成PVA)基树脂(A)作为主要成分，且优选还包括交联 剂(B)、填料(C)和增塑剂(D)中的至少一种，并且聚乙烯醇基膜通常是 未拉伸的膜。本文中使用的术语作为主要成分表示除了诸如水等溶剂 以外的固体成分中的主要成分，并且意指包括制膜材料只由主要成分 组成的实施方案。主要成分的含量通常为50 100重量％，优选为70 100 重量％，进一步优选为80~100重量％。PVA基树脂可单独使用，必要时可以通过混合具有不同皂化度或不同4重量％水溶液粘度的至少两种PVA基树脂来使用。PVA基树脂可以是未改性的树脂，也可以是改性的树脂。在改性 树脂的情况下，在不削弱本专利技术效果的范围内，例如10摩尔％以下、 优选7摩尔％以下，可以在主链中共聚其它单体。其它单体的例子包括 烯烃如乙烯、丙烯、异丁烯、a-辛烯、a-十二烯和a-十八烯；不饱和酸 如丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、马来酸、马来酸酐和衣康酸或者它 们的盐或者单或二垸基酯等；腈如丙烯腈和甲基丙烯腈；酰胺如丙烯 酰胺和甲基丙烯酰胺；烯烃磺酸如乙烯磺酸、烯丙基磺酸和甲代烯丙 基磺酸或它们的盐；垸基乙烯基醚；聚氧化烯(甲代)烯丙基醚如聚氧乙 烯(甲代)烯丙基醚和聚氧丙烯(甲代)烯丙基醚；聚氧化烯(甲基)丙烯酸 酯如聚氧乙烯(甲基)丙烯酸酯和聚氧丙烯(甲基)丙烯酸酯；聚氧化烯(甲 基)丙烯酰胺如聚氧乙烯(甲基)丙烯酰胺和聚氧丙烯(甲基)丙烯酰胺；聚 氧乙烯[l-(甲基)丙烯酰胺-l,l-二甲基丙基]酯、聚氧乙烯乙烯基醚、聚 氧丙烯本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种液压转印用基膜，其包括聚乙烯醇基膜，其中从将所述基膜浮于液面上开始２５秒后的卷曲面积率为３０％以下。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2007-5-22 134866/20071.一种液压转印用基膜，其包括聚乙烯醇基膜，其中从将所述基膜浮于液面上开始25秒后的卷曲面积率为30％以下。2. 权利要求l所述的液压转印用基膜，其中从将所述基膜浮于液 面上开始30秒后的椭圆率为30%以下。3. 权利要求1或2所述的液压转印用基膜，其中所述聚乙烯醇基 膜的水含量在2~6重量％范围内。4. 权利要求1~3中任一项所述的液压转印用基膜，其中所述聚乙 烯醇基膜由包括聚乙烯醇基树脂(A)和交联剂(B)的制膜材料制成。5. 权利要求1 4中任一项所述的液压转印用基膜，其中所述聚乙 烯醇基膜由包括聚乙烯醇基树脂(A)和填料(C)的制膜材料制成。6. 权利要求1~5中任一项所述的液压转印用基膜，其中所述聚乙 烯醇基膜由包括聚乙烯醇基树脂(A)和增塑剂(D)的制膜材料制成。7. 权利要求4 6中任一项所述的液压转印用基膜，其中所述聚乙 烯醇基树脂(A)的4重量％水溶液在2(TC下的平均粘度为10 70 mPa-s， 并且所述聚乙烯醇基树脂(A)的平均皂化度为70 98摩尔％。8. 权利要求1~7中任一项所述的液压转印用基膜，其中所述聚乙 烯醇基膜的厚度为20 50pm。9. 一种液压转印用基膜的制造方法，其中将包含聚乙...

【专利技术属性】
技术研发人员：大久保正憲，水谷知由，北村秀一，
申请(专利权)人：日本合成化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]