处理未经加工和经加工的谷物和淀粉的方法技术

净化谷物、坚果或种子制品的方法和用于制粉过程中为了净化以及生产改进的磨粉制品而匀湿谷物的方法，其中所述磨粉制品将产生具有例如增加尺寸和延长货架期的烘焙食品。在所述净化和／或匀湿程序中，使所述谷物、坚果或种子制品接触未稀释的或者是用非活化水稀释的含水阳极电解液产物。在未稀释状态，所述含水阳极电解液产物优选具ｐＨ值在从约４．５到约７．５的范围，正氧化还原电位为至少＊５５０ｍＶ。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】 专利
本专利技术涉及在食品、工业淀粉和动物饲料制品行业中处理谷物、坚 果和油料种子的方法。具体而言，本专利技术涉及加工过程中对谷物表面的 处理，以便在谷物制粉和烘焙业实现对加工过程中、部分加工制品和成 品中最优的微生物净化和化学净化。此外，本专利技术包括选择性操控经加 工淀粉衍生物的相对比例的方法。本专利技术还包括用经处理谷物淀粉生产 烘焙制品的方法。
技术介绍
在过去的二十年中，谷物加工一直是国际上增长最快的农业市场之 一。每天，成千上万吨的谷物被送到加工厂，以转换为食品、工业制品 和饲料制品。不仅从经济角度，而且特别是从人类和动物安全的角度来 看，对这些谷物制品的最优净化是决定其成品质量的关键因素。用于本文中的术语"谷物，，的范畴包括(但不局限于)大麦、小麦、 玉米、黑麦、燕麦、玉蜀黍和可用于提取淀粉的任何其它谷类作物的谷 物。谷物的工业处理一旦谷物装运物抵达工业谷物制粉机，首先要对其进行分级，该分 级依据(尤其是)颜色、大小、微生物水平、真菌毒素和化学污染、水 分含量、含油量和蛋白质含量；然后，对谷物进行称重和第一阶段初筛 加工中的清洗以移除粉尘、谷壳和外来物质。随后，对谷物进行第二 阶段的水分调节加工，在此过程中，向谷物中加入调节水以软化谷壳。在这个阶段，谷物颗粒吸收水分，从而提高了水分含量并导致谷物尺 寸增加。然后，这些谷物被转运到谷物匀湿仓并在其中停留，主要是 让胚乳最优动员并使胚芽提取易于进行，所述时间在玉米和玉蜀黍制粉加工中需要从30分钟到几个小时，在小麦制粉加工中最多达约48 小时。在某些情况下，匀好湿的谷物会经受第二次湿化(damping)，可能需 要进一步用机械表面净化器如来自Buhler AG的DCPeeler MHXL-W处 理，它移除軟化谷物的最外层(果皮)和其上污染的表面细菌、真菌毒素 和毒性重金属。此后，软化的谷壳被移除，谷物被粗略地碾碎以破碎从其他组份(如 胚乳和纤維)中释放出来的谷物胚芽(也称为胚)。碾碎的谷物被运送到脱 胚芽器，在此处，胚芽被分离和保留以供进一步处理，例如榨油，而胚 芽榨油后的残渣可用作动物祠料。谷物用干磨法通过一系列轧粉机、'滩 粉机和清粉机进一步处理，以生产成品面粉、粗粉或等磨粉制品。那些从事谷物处理和制粉工业的人都清楚，在谷物表面总是有一定 程度的表面污染物，包括休眠的毒性真菌孢子。 一旦接触到水，这些休 眠孢子就发育成真菌的营养体，它们的生长可能会引起有害真菌毒素的 释放，其中可能包括黄曲霉毒素(Aflatoxin)、脱氧瓜萎镰菌醇毒素 (Deoxynivalenol toxin)、赭曲毒素(Ochratoxin)、 Vomerotoxin、 串珠镰孢 菌素(Fumonisin)和玉米赤霉毒素(Zearelenon)。在第二阶段的水清洗加工中引入调节水是谷物制粉的关键步骤，因 为它提供了唯一 实质性机会去影响磨粉成品的微生物品质水平。然而， 在基本为干磨的加工中，所引入的调节水体积必须使处理后的总谷物水 分含量不超过20%，最优选接近13%或18%，这取决于谷物类型。制订 这项限制是为了管理谷物的下游处理和制粉，并防止水分转入基于淀粉 的成品。除非另有说明，否则本文讨论的所有的谷物水分百分比是指重 量百分比。实际中的困难是每吨待加工谷物允许的调节水的量(如不超过谷物 最大允许水分含量限制的量)实质上不足以实现有效的谷物表面上光 (surface coating)以及因此而达到对谷物表面的微生物、真菌毒素和化学 的最优净化。但是，调节水的该限制量却足以使表面真菌孢子发展为营 养体，从而导致微生物腐败和产生真菌毒素的潜势增强。该问题在小麦的制粉加工中更严重，这是由于与例如玉米或玉蜀黍相比，小麦籽粒尺寸小得多，在谷物匀湿仓中对处理后小麦的水化需要更长的时间周期，因此显著增加了普通微生物在小麦籽粒表面生长、特别是产毒素真菌生长的机会。在解决谷物表面真菌生长和真菌毒素积累的问题的努力中，通常是向调节水中加入化学品尤其是分子氯(如由Aquachlor或同等装置所产生 的)和稳定化的基于氯的溶液，以协助表面消毒。然而，分子氟和稳定化 的基于氯的溶液是有害的并构成危险，即将这些溶液引入调节水可能导 致在谷物成品中产生有害氯或衍生物的残留，这对于人或动物的消费可 能是不利的。作为选择，在初次匀湿后为了去除细菌、表面化学残留物和重金属 污染物而对谷物表面进行的机械去皮，可能不足以有效地对本加工批料 中所有谷物的整个表面进行最优去皮。这种设备虽然声称有显著净化效 果，但不一定能提供在化学和微生物卫生安全方面的充分保证。另 一危险是化学净化剂(特别是分子的和稳定化的基于氯的药剂)有 可能被带入面粉成品。这是烘焙业的重大难题，其中，残留氯可能对在 发酵面团的发酵过程中所需的商业酵母添加剂的存活能力产生不利影 响。在为了避免在谷物表面留下任何不必要的残留物而使用低浓度化学 品(特别是分子的和稳定化的基于氯的溶液)处理调节水时，这样的浓度 水平肯定太低而不能提供足够的杀伤生物能力，并可能促进同种微生物 发展对所施用化学药剂的耐受性。烘焙业在小麦籽粒中，现成的可发酵糖分子(如葡萄糖、果糖、麦芽糖和蔗 糖)是作为利用商业酵母菌林优化厌氧发酵以产生二氧化碳所必需的代 谢基石，二氧化碳又是对烘烤制品的最后大小、形状和一致性是必需的。这些可发酵糖类是由酶(其中包括a-淀粉酶)产生的，这些酶是天然存在 于谷物中并用作协助裂解来自原始淀粉聚集体的离散糖分子。正是这些 现成的、可发酵糖的量对于作为烘焙加工前奏的厌氧发酵的速度和规^莫 至关重要。然而，野生菌林和加工过程中的微生物污染物同商业酵母竟争这些 可发酵糖类，并损害面团混合物中最优受控发酵，从而导致具有高水平 腐败微生物的烘焙制品和伴随的货架期缩短。在克^Jt种失控污染的一种努力中，在烘焙加工中加入基于溴酸盐 的氧化剂(如溴酸钾)和其它氧化剂(包括抗坏血酸、偶氮二酰胺、苯甲酰 过氧、氯和碘酸钩)，以促进水净化、面粉漂白、淀粉动员和成熟。然而， 许多这些化学品可能是致癌物质，因此不能成为适用的或有益的解决办 法。此外，苯甲酰过氧只漂白通常存在于面粉中的类胡萝卜素，而对微 生物污染或麸/糠粒的颜色没有任何显著影响。ECA解决方案众所周知，从稀释的离解盐(dissociative salt)溶液产生电化学活化 (ECA)溶液涉及到使电流通过电解质溶液以产生可分离的阴极电解液和 阳极电解液。从事本行业的人员知道，阴极电解液(存在于阴极室的溶液) 是抗氧化剂，其pH值通常在8和13之间，而氧化还原电位(ORP)通常 在-200mV和-1100mV之间。阳极电解液(存在于阳极室的溶液)是氧化 剂， 一般是pH值在2和8之间而ORP在+300mV与+1200mV之间的酸 性溶液。在电解质水溶液的电化学活化中，溶液中存在各种氧化和还原种类，例如H0C1(次氯酸)、C102(二氧化氯)、CKV(亚氯酸盐)、C1CV(氯酸盐)、cio4-(高氯酸盐)、ocr (次氯酸盐)、ci2(氯化物)、02(氧气)、OH"(羟基)和H2 (氢气)。在溶液中是否存在任何特别的反应种类主要是 受终溶液的衍生盐和pH值影响。举例来说，在pH值为3或以下时， HOCl转本文档来自技高网...

【技术保护点】
减少制品表面污染物的方法，所述制品是谷物制品、坚果制品或种子制品，所述方法包括使所述制品的所述表面与能有效地至少减少所述表面上的细菌数量、真菌数量、酵母数量或上述之组合的量的含水阳极电解液产物接触的步骤，其中，在未稀释状态，所述含水阳极电解液产物的ｐＨ值在从约４．５到约７．５的范围，正氧化还原电位为至少＋５５０ｍＶ。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：RD柯克佩崔克，N斯皮克曼，
申请(专利权)人：巨人贸易公司，
类型：发明
国别省市：PA[巴拿马]