用于检测由不均匀染色引起的偏光片污迹的方法及使用该方法的自动检测系统技术方案

本发明专利技术提供了一种用于检测由不均匀染色引起的偏光板污迹的自动检测系统，该自动检测系统包括：光源；检测单元，其设置在光源的前面，并且该检测单元包括偏光轴相互平行设置的至少两个参比偏光板和设置在参比偏光板之间的目标偏光片或目标偏光板，并且以目标偏光片或目标偏光板的偏光轴垂直于参比偏光板的偏光轴的方式设置；成像单元，其对检测单元进行照相以采集图像数据；和运算操作单元，其分析在成像单元中采集的图像数据以确定目标偏光片或目标偏光板是否为次品。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用于检测由不均匀染色引起的偏光片污迹的自动检测系 统，更具体而言，涉及一种用于检测偏光片污迹的自动检测系统，该自动检 测系统被设计为通过定量偏光片污迹以提供客观的检测标准，并在生产线 上自动检测偏光板的污迹，从而使产品质量保持一致并提高生产效率。
技术介绍
偏光板指的是用于在某一方向上产生偏振光的光学器件。 一般而言，偏 光片是通过溶胀、染色、交联和拉伸聚乙烯醇膜而制备的。现在将更加详细 地描述制备偏光片的工艺。首先，将聚乙烯醇膜浸渍到含有碘或二色性染料 的溶液中并染色。然后，将染色的聚乙烯醇膜浸渍到硼酸水溶液中以使碘分 子或二色性染料分子与聚乙烯醇膜交联，接着拉伸交联的聚乙烯醇膜，使得碘分子或二色性染料分子可以沿着拉伸方向或纵向(machine direction)设置， 因而制备了偏光片。接着，使偏光片干燥，用粘合剂将保护膜(例如三乙酰纤 维素(TAC)膜)粘附到干燥的偏光片的两个面上以制备最终的偏光板。在这种 情况下，可以依次或者同时进行染色、交联和拉伸工艺。然而，当偏光板以其偏光轴相互垂直的方式层叠，放置在背光源上并观 察时，在拉伸方向出现例如条纹的污迹。理论上而言，由于当偏光板相互交 叉层叠时，光不能透过偏光板，该偏光板应该处于完全黑暗的状态。然而， 实际而言，偏光板都不是完美的，交叉透光率(cross transmittance)不完全为0。 然而，由于一些因素(如不均匀染色或颜料设置不均等)，使得光透过了偏光 板并且偏光板上出现污迹，这是因为偏光板的透光率也可能根据在偏光片上 的位置而变化。由于偏光板中的严重的污迹，导致屏幕的亮度不均匀且最终产品为次品。 因此，需要通过确定偏光板中的污迹的程度而挑出次品的分拣作业(sorting operation)。目前是通过检査员用裸眼进行检测偏光板污迹。然而，这种检测方法的问题在于难以制备具有一致产品质量的产品，因为最终产品的次品的 程度是由检査员主观决定的。此外，由于检查员需逐一检测产品，其还具有 生产效率非常低的问题。
技术实现思路
技术问题本专利技术是设计用来解决现有技术的问题，而因此本专利技术的目的是提供标 准化的用于检测偏光片污迹的自动检测系统，其设计用来客观地测定偏光片 污迹的程度，实时监测生产线中的次品偏光片或次品偏光板，并在切割偏光 板之后自动进行偏光板质量的检测，因而提高了偏光板的产品质量和生产效 率。技术方案根据本专利技术的一个方面，其提供了用于检测由不均匀染色引起的偏光片 污迹的自动检测系统，其包括光源；设置在光源前面的检测单元，并且该 检测单元包括偏光轴相互平行设置的至少两个参比偏光板和设置在参比偏光 板之间的目标偏光片或目标偏光板，并且目标偏光片或目标偏光板以偏光轴 垂直于参比偏光板的偏光轴的方式设置；成像单元，其对检测单元进行照相 以采集图像数据；和运算操作单元，其分析在成像单元中采集的图像数据以 确定目标偏光片是否为次品。在这种情况下，成像单元可以包括CCD照相机。此外，在运算操作单元中可以进行图像分析，其包括沿着目标偏光片 或目标偏光板的横向(TD)以恒定距离采集的图像数据中提取亮度数据；将亮 度数据定量为原始数据；从这些原始数据中得到参比曲线；以及计算原始数 据对于参比曲线值的标准偏差。另外，根据本专利技术的一个示例性实施方式的自动检测系统可以进一步包 括显示单元，其显示在运算操作单元中计算的标准偏差或显示该目标偏光片 或偏光板是否为次品的信息。此外，根据本专利技术的另外一个方面，其提供了用于检测偏光板污迹的自 动检测方法。在此，该方法包括用光照射检测单元，该检测单元包括至少 两个参比偏光板和设置在参比偏光板之间的目标偏光片或目标偏光板；传输 图像数据，将通过对检测单元照相得到的图像数据传送至运算操作单元；从传输的沿着目标偏光片或目标偏光板的横向(TD)以恒定距离采集的图像数据 中提取亮度数据，并将亮度数据定量为原始数据；从原始数据中得到参比曲 线值；计算原始数据对于参比曲线值的标准偏差；以及通过将标准偏差与预 先确定的参考值比较从而确定目标偏光片或目标偏光板是否为次品。 有益效果如上所述，根据本专利技术的一个示例性的实施方式的用于检测偏光板污迹 的自动检测方法可以有利于使产品质量保持一致，因为基于定量的污迹程度， 其从图像数据中客观地定量偏光板的污迹并测定最终产品是否为次品。此外，根据本专利技术的一个示例性的实施方式用于检测偏光片污迹的自动 检测系统可以有利于縮短制备时间并提高生产效率，因为在生产线上偏光板 被自动地检测，而不需要检査者逐一地检测偏光板。附图说明图1为图示根据本专利技术的一个示例性实施方式的自动检测系统的图。 具体实施例方式在下文中，将更加详细地描述本专利技术的示例性实施方式。图1显示根据本专利技术的一个示例性实施方式的自动检测系统。如图1所 示，根据本专利技术的一个示例性实施方式的自动检测系统包括光源IO、检测单 元20、成像单元30和运算操作单元40。首先，通过用光照射检测单元20，所述光源IO起到使污迹可见的作用， 并且其被设置在检测单元20的背面。例如，光源IO包括显示器的背光源等。同时，所述检测单元20包括参比偏光板和目标偏光片或目标偏光板。在 这种情况下，设置参比偏光板和目标偏光片(或目标偏光板)以使其相互垂直。 在此，表达"相互垂直"指的是参比偏光板的偏光轴与目标偏光板的偏光轴相 交叉。此外，本专利技术的检测单元20优选包括至少两个参比偏光板。在这种情况 下，使参比偏光板可以以其偏光轴相互平行的方式设置，并且将目标偏光片 或目标偏光板设置在参比偏光片之间。当使用一个参比偏光片时，由于参比 偏光板中存在条纹污迹，目标偏光片或目标偏光板的污迹可能扭曲。此外， 由于使用至少两个相互平行设置的参比偏光板时清晰地观察到目标偏光片或目标偏光板的污迹，所以偏光板具有的优点在于在自动检测系统中可以容易 地测量。因此，偏光轴相互平行的两个参比偏光板可以用于本专利技术中以防止 参比偏光板中的污迹可视化，而仅仅使目标偏光片或目标偏光板的污迹可视 化。图1显示根据本专利技术的一个示例性实施方式的用于检测偏光板污迹的包 括两个参比偏光板的自动检测系统。为了方便描述，将设置在接近光源的参 比偏光板称作第一参比偏光板，以及将设置在远离光源的另一个参比偏光板 称作第二参比偏光板。当将目标偏光片或目标偏光板设置在检测单元20中时，用来自光源10 的光照射检测单元20。理论上而言，在照射的光中，只有沿着参比偏光板的 偏光轴偏振的光透过第一参比偏光板。在这种情况下，如前所述，由于参比 偏光板与目标偏光片(或目标偏光板)的偏光轴相互垂直，透过第一参比偏光 板的透射光，即，沿着参比偏光板的偏光轴偏振的光可能不会透过目标偏光 片(或目标偏光板)。即使光透过目标偏光片(或目标偏光板)，透过目标偏光板 (或目标偏光板)的光可能不会透过第二参比偏光板，因为第二参比偏光板的 偏光轴也与目标偏光片的偏光轴垂直。因此，光不能透射至检测单元上。然而，由不均匀染色或染料的设置不均等可能引起漏光，并且在偏光板 的纵向(MD)可以观察到包括光和阴影条纹的污迹。由于目标偏光片的透射性 的偏差而产生这种污迹，以及当如上所述严重地形成污迹时，屏幕的亮度可 能不均匀，以及图像质量可能本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于检测由不均匀染色引起的偏光片污迹的自动检测系统，该自动检测系统包括：　光源；　检测单元，其设置在光源的前面，并且该检测单元包括偏光轴相互平行设置的至少两个参比偏光板和设置在参比偏光板之间的目标偏光片或目标偏光板，并且以目标偏光片 或目标偏光板的偏光轴垂直于参比偏光板的偏光轴的方式设置；　成像单元，其对检测单元进行照相以采集图像数据；和　运算操作单元，其分析在成像单元中采集的图像数据以确定目标偏光片或目标偏光板是否为次品。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：李柱成，罗钧日，崔龙成，
申请(专利权)人：LG化学株式会社，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]