感光膜的曝光方法及曝光设备技术

本发明专利技术涉及感光膜的曝光方法及曝光设备。一种用于感光膜的曝光设备包括：多个发光二极管，其用于生成光以对感光膜进行曝光；遮光物，其位于所述多个发光二极管之间以防止噪声；载物台，其用于容纳其上具有所述感光膜的基板；以及平行器，其位于所述发光二极管与所述载物台之间，所述平行器用于将来自所述多个发光二极管的光重定向为垂直地入射到所述感光膜上。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及感光膜，更具体地说，涉及感光膜的曝光方法及曝光设备。
技术介绍
近来，已经开发出克服了阴极射线管的缺点(诸如重量大及体积大) 的各种平板显示器。相应地，这些平板显示器的使用在增长。这些平板 显示器包括液晶显示器、场发射显示器、等离子体显示板及电致发光显 不器。这些平板显示器的薄膜是通过多个掩模工艺而形成。这些掩模工艺 中的每一个都包括薄膜淀积(涂覆)工艺、洗涤工艺、光刻工艺、蚀刻 工艺、光刻胶移除工艺及测试/检测工艺。更具体地说，光刻工艺包括 涂布(apply)工艺，其中将感光膜涂布到形成在基板上的薄膜上；曝光 工艺，其中使用掩模对感光膜进行曝光；以及显影工艺，其中对所曝光 的感光膜进行显影。用在曝光工艺中的现有技术曝光设备使用例如由汞放电灯(mercury discharge lamp)所生成的紫外光来对感光膜进行曝光。然而，现有技术 曝光设备中的放电灯只有1000小时的短寿命，这要求在更换放电灯的任 何时候中断工作，从而导致了由于灯更换及产量损失所引起的费用。因 为放电灯需要一段冷却时间来散发掉120(TC工作热量、实际的更换时间 以及正确地定位更换的放电灯的再校准时间，所以工作中断较长。来自现有技术曝光设备的放电灯的光包括对于曝光不必要的光的波 长。因此，现有技术曝光设备需要滤光器来过滤掉不必要波长的光，因 此现有技术曝光设备具有复杂的结构及较大的尺寸。此外，现有技术曝 光设备的放电灯必须保持在打开状态，以防止由于频繁地开灯及关灯所5导致的热应力所引起的破损产生。附加地提供光闸(shutter),以在没有 使用现有技术曝光设备的放电灯时阻挡光发射。因为放电灯保持在打开 状态，所以现有技术曝光设备浪费了电力。而且，现有技术曝光设备的 放电灯包含对环境有害的物质(诸如汞)，因此在使用现有技术曝光设备 的放电灯时产生了额外的处理费用。
技术实现思路
因此，本专利技术的实施方式致力于一种用于感光膜的曝光方法和曝光 设备。本专利技术实施方式的一个目的是提供一种花费较低且工作更高效的曝 光设备。本专利技术实施方式的另一 目的是提供一种成本更低且更高效地对感光 膜进行曝光的曝光方法。本专利技术实施方式的另一目的是提供一种成本更低且更高效地对感光 膜进行构图的方法。本专利技术实施方式的其它特征及优点将在以下的说明书中进行阐述， 将通过以下说明书而部分地变得明了，或者可以通过对本专利技术的实践而 得知。本专利技术实施方式的这些目的和其它优点可以通过在书面说明书、 权利要求书及附图中具体指出的结构来实现和获得。为了实现这些和其它优点，并且根据本专利技术实施方式的目的，如在 此具体实施和广泛描述的， 一种用于感光膜的曝光设备包括多个发光 二极管，其用于生成光以对感光膜进行曝光；遮光物，其位于所述多个 发光二极管之间以防止噪声；载物台(stage),其用于容纳其上具有所述 感光膜的基板；以及平行器(parallelizer)，其位于所述发光二极管与所 述载物台之间，所述平行器用于将来自所述多个发光二极管的光重定向 为垂直地入射到所述感光膜上。在另一方面， 一种用于感光膜的曝光方法包括以下步骤将具有感 光膜的基板设置在载物台上；以及控制发光二极管阵列的每个发光二极 管的光学输出以生成光，由位于发光二极管与载物台之间的平行器重定向这些光，以使其垂直地入射到所述感光膜上。在另一方面， 一种用于感光膜的构图方法包括以下步骤将具有感 光膜的基板设置在载物台上；将掩模设置在所述感光膜与发光二极管阵 列之间；控制发光二极管阵列的每个发光二极管的光学输出以生成光， 由位于所述发光二极管与投影光学系统之间的平行器重定向这些光；以 及将投影光学系统设置在所述掩模与所述感光膜之间，以在考虑到所述 基板的收缩/膨胀程度的情况下对来自所述掩模的光进行修正。应当理解的是，本专利技术实施方式的以上概述及以下的详述都是示例 性和解释性的，并旨在提供对所要求保护的本专利技术的进一步解释。附图说明包括附图以提供对本专利技术的进一步理解，并入附图而构成本申请的一部分，附图示出了本专利技术的(多个)实施方式并与说明书一起用于解释本专利技术的原理。在附图中图1为根据本专利技术第一实施方式的曝光设备的立体图2为图1所示的曝光设备的截面图3A到图3C为图2所示的平行器的实施方式的截面图4为例示了从图2所示的平行器生成平行光的截面图5为例示了图2所示的平行器与遮光膜之间的连接关系的截面图6为例示了图1所示的掩模的截面图7为根据本专利技术第二实施方式的曝光设备的截面图8为例示了图7所示的遮光膜的另一实施方式的截面图9为例示了图7及图8所示的LED的截面图IO为根据本专利技术第三实施方式的曝光设备的截面图11为例示了用于驱动根据本专利技术第一到第三实施方式的曝光设备的LED的光源驱动单元的框图12为例示了用于调整根据本专利技术第一到第三实施方式的曝光设备的LED的光量的光调整单元的第一实施方式的框图13为例示了用于调整根据本专利技术第一到第三实施方式的曝光设备的LED的光量的光调整单元的第二实施方式的框图；以及图14为例示了具有多个薄膜(这些薄膜是使用根据本专利技术一个实施 方式的曝光设备通过光刻工艺而形成)的液晶板的立体图。具体实施例方式现在详细描述本专利技术的优选实施方式，在附图中说明这些实施方式 的示例。在附图中，将尽可能地使用相同的附图标记来指明相同或类似 的部分。图1为根据本专利技术第一实施方式的曝光设备的立体图，而图2为图 1所示的曝光设备的截面图。如图1和图2所示，曝光设备110包括矩阵 阵列形式的发光二极管(LED) 102、遮光膜104、平行器106、掩模108 及与掩模108相对的载物台111。载物台111支撑其上涂布有感光膜(未 图示)的基板IOI。LED 102安装在印刷电路板112上，印刷电路板112由散热材料制 成，该散热材料将由LED102产生的热量散发掉。这些LED102可同时 打开和关闭，或者可单独打开和关闭，以生成用于对感光膜进行曝光的 光。即，LED 102生成在曝光工艺中所用的短波长光，例如波长为100-400 nm的紫外光。如上所述，LED102使用短波长光，因此不需要光闸或用 于过滤掉不必要的长波长的光的滤光器。因此，本专利技术实施方式的曝光 设备具有简单的结构，并且减小了成本并具有更小的总体尺寸。LED 102具有几万小时到几十万小时的寿命，以通过极大地减少工 作中断时段的发生而保持产量。由于LED能够单独打开和关闭，所以能 够将与感光膜的曝光区域相对应的LED 102打幵，而将与感光膜的非曝 光区域相对应的LED关闭，以选择性地对感光膜进行曝光。因为LED 102 能够被打开和关闭，使得可以仅在需要光的时候才打开LED 102，减小 了电力消耗。此外，LED102不使用有害物质(诸如汞)，因此有益于环 保。如图2所示，遮光膜104为在矩阵阵列形式的LED 102之间具有壁 的格子形状。遮光膜104的壁在印刷电路板112上方延伸到高度H。遮光膜104的壁将LED 102的矩阵划分为多个光发射区域114，各个光发 射区域114都具有各自的一个LED 102。遮光膜104的高度H防止了均 匀度相对较低的不期望光120，并且使准直半角(collimation half angle) 最小化。更具体地本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于感光膜的曝光设备，该曝光设备包括：　多个发光二极管，其用于生成光以对感光膜进行曝光；　遮光物，其位于所述多个发光二极管之间以防止噪声；　载物台，其用于容纳其上具有所述感光膜的基板；以及　平行器，其位于所述发光二极 管与所述载物台之间，　其中，所述平行器将来自所述多个发光二极管的光重定向为平行光。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：金钟淡，金钟一，宋秉德，
申请(专利权)人：乐金显示有限公司，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]