改进的喷嘴结构制造技术

本实用新型专利技术提供一种改进的喷嘴结构，包含喷嘴本体，此喷嘴本体包括上部、颈部及贯孔，其中，上部呈漏斗状并向下朝内逐渐内缩，颈部接续在上部并由上部向下延伸，贯孔贯穿上部与颈部。此外，上部并包含顶面，此顶面朝向贯孔凸伸有复数个凸缘，每一凸缘之间并彼此间隔出一个流道，这些流道连通于贯孔。因此，可通过喷嘴本体具有漏斗状的结构设计达到大幅减少微粒堆积的目的，另可通过喷嘴本体具有凸缘及其间隔出的流道的结构设计达到分散气流的目的。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种改进的喷嘴结构，尤其涉及一种可大幅减少微粒堆积以及分 散气流的改进的喷嘴结构。
技术介绍
在半导体制程中，因制程需要而会将晶圆片容置在晶圆盒内，之后利用喷嘴装 置填充例如氮气的气体至晶圆盒内，以避免晶圆盒内所容置的晶圆片受到氧化及微粒 (particle)污染。举例而言，在45纳米制程下，晶粒(die)与晶粒之间的间隔更小，故对在 大幅减少微粒堆积污染的要求也越来越严格。请参照图1，其为公知喷嘴结构的喷嘴本体的立体图，在图式中显示有公知喷嘴结 构的喷嘴本体9，其断面是呈锥状，且贯设有气孔91。请参照图2，其为组装图1所示喷嘴本体的喷嘴装置的剖面图。在图式中显示有用 来组装图1的喷嘴本体9的喷嘴装置8，且此喷嘴装置8做为填充气体(例如氮气)至晶圆 盒(图未示)内之用，气体流向如箭号所示。由图2可知，公知喷嘴结构的喷嘴本体9因呈锥状故在夹角区域92容易堆积微 粒，换言之，公知喷嘴结构的喷嘴本体9会因结构上的限制而不易排除内积的微粒，故利用 喷嘴装置8填充气体至晶圆盒内时，前述所堆积的微粒即容易跟着气流进入晶圆盒内而造 成晶圆片受到污染，实非十分理想。因此，如何创作出一种改进的喷嘴结构，以达到可大幅减少微粒堆积以及分散气 流的目的，将是本技术所欲积极公开之处。专利技术内有鉴于上述公知喷嘴结构的缺憾，技术人有感其未臻于完善，遂竭其心智悉 心研究克服，凭其从事该项产业多年的累积经验，进而研发出一种改进的喷嘴结构，以期达 到可大幅减少微粒堆积以及分散气流的目的。本技术的一目的在于提供一种改进的喷嘴结构，其可通过喷嘴本体具有漏斗 状的结构设计达到大幅减少微粒堆积的目的，另可通过喷嘴本体具有凸缘及其间隔出的流 道的结构设计达到分散气流的目的。为达上述目的或其它目的，本技术改进的喷嘴改良结构包含喷嘴本体，此喷 嘴本体包括上部、颈部及贯孔，其中，上部呈漏斗状并向下朝内逐渐内缩，颈部接续在上部 并由上部向下延伸，贯孔贯穿上部与颈部。此外，上部并包含顶面，此顶面朝向贯孔凸伸有 复数个凸缘，每一个凸缘之间并彼此间隔出一个流道，这些流道连通于贯孔。因此，可通过喷嘴本体具有漏斗状的结构设计达到大幅减少微粒堆积的目的，另 可通过喷嘴本体具有凸缘及其间隔出的流道的结构设计达到分散气流的目的。上述的复数个凸缘的数量可为八个并彼此间隔出八个流道，或者复数个凸缘的数 量可为三个并彼此间隔出三个流道。当然，凸缘及其间隔出的流道的数量并不以前述为限， 也可为其它数量，例如四个、五个等。附图说明图1为公知喷嘴结构的喷嘴本体的立体图。图2为组装图1所示喷嘴本体的喷嘴装置的剖面图。图3为本技术第一较佳具体实施例的立体图。图4为本技术第一较佳具体实施例的侧视图。图5为本技术第一较佳具体实施例的上视图。图6是为图5中沿AA，线段的剖面图。图7是为本技术第一较佳具体实施例的组装示意图之一。图8是为本技术第一较佳具体实施例的组装示意图之二。图9是为本技术第一较佳具体实施例的组装示意图之三。图10是为本技术第二较佳具体实施例的上视图。主要组件符号说明1喷嘴本体11 上部111 顶面112 凸缘113 流道114 前端115 凸缘116 流道12 颈部121环凹槽13 贯孔2喷嘴装置3气体填充装置31承载板32定位销4晶圆盒8喷嘴装置9喷嘴本体9I 气孔92夹角区域D 直径T 间隔W横向宽度AA ‘剖面线具体实施方式为充分了解本技术的目的、特征及功效，现借由下述具体的实施例，并配合所 附的图式，对本技术做一详细说明，说明如后请参照图3，其为本技术第一较佳具体实施例的立体图。在图式中显示本实用 新型改进的喷嘴结构包含喷嘴本体1，且此喷嘴本体1在较佳的实施方式中采用抗静电硅 胶喷嘴本体。请同时参照图3至图6，其中图4为本技术第一较佳具体实施例的侧视图，图 5为本技术第一较佳具体实施例的上视图，图6为图5中沿AA’线段的剖面视图。在图式中显示喷嘴本体1包括上部11、颈部12及贯孔13，其中，上部11呈漏斗状 并向下朝内逐渐内缩，颈部12接续在上部11并由上部11向下延伸，贯孔13贯穿上部11 与颈部12。在本实施例中，颈部12可凹设环凹槽121，以便组装在喷嘴装置2 (如图7所示) 之用。本技术的贯孔13则可具有约为IOmm的直径D。此外，图式中显示喷嘴本体1的上部11并包含顶面111，此顶面111朝向贯孔13 凸伸有复数个凸缘112，每一凸缘112的间并彼此间隔出连通在贯孔13的流道113。在本实施例中，复数个凸缘112可采用等角度环绕朝向贯孔13凸伸的方式来安 排，且图式中显示有八个凸缘112，相对的此八个凸缘112并彼此间隔出八个流道113。此外，每一个凸缘112分别包含一横向宽度W，且此横向宽度W可约为2mm。另夕卜， 每一个凸缘112分别包含一前端114，且两相邻的凸缘112的前端114相距一间隔T，此间 隔T可约为1_(当然亦可为其它尺寸)。请参照图7，其为本技术第一较佳具体实施例的组装示意图之一，且在图式中 显示组装有上述喷嘴本体1的喷嘴装置2。请参照图8，其为本技术第一较佳具体实施例的组装示意图之二，且在图式中 显示有一气体填充装置3，此气体填充装置3包含一承载板31，并在承载板31上组装有四 个如图7所示的喷嘴装置2及三个定位销32。其中，喷嘴装置2及定位销32的数量可依实 际需要来设置。请同时参照图8及图9，其中图9为本技术第一较佳具体实施例的组装示意图 之三，且在图式中显示有晶圆盒4，此晶圆盒4放置在承载板31上并利用定位销32进行定 位，而四个如图7所示的喷嘴装置2即可对应在晶圆盒4底板的充气口(图未示)，如此即 可利用喷嘴装置2对晶圆盒4进行例如氮气的充气作业。请再参照图3至图6，在填充气体时，如图4及图6箭号所示的气体流向，因喷嘴本 体1具有漏斗状的结构设计，故可通过此达到大幅减少微粒堆积的目的。再者，喷嘴本体1因具有凸缘112及其间隔出的流道113的结构设计，故可通过此 达到分散气流的目的。换言之，在填充气体的总流量不变的情况下，可通过上述凸缘112及 其间隔出的流道113降低气体灌入晶圆盒4 (如图9所示)的流速，如此可避免因流速过快 而将晶圆盒4内原本沉积(若有的话)的微粒扬起。请参照图10，其为本技术第二较佳具体实施例的上视图，且在本实施例中，其 主要结构皆与上述第一较佳实具体施例相同，唯一差别在于复数个凸缘115的数量为三个 并彼此间隔出三个流道116，而如此结构设计同样可达成上述第一较佳具体实施例所述的各种功效。综上所述，本技术上部11的漏斗状结构及该等凸缘112、115的前端114间形 成的该等流道113、116可大幅减少微粒堆积于内。再通过这些凸缘112、115的排列方式、 数量的安排及流道间隔的控制更可依实际需求给予不同的设计，例如本技术所述的各 种实施态样。本技术在上文中已以较佳实施例公开，然熟知本项技术者应理解的是，该实 施例仅用在描绘本技术，而不应解读为限制本技术的范围。应注意的是，所有与该 实施例等效的变化与置换，均应设为涵盖在本技术的范畴内。因此，本技术的保护 范围当以本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种改进的喷嘴结构，其特征在于，包含喷嘴本体，该喷嘴本体包括上部、颈部及贯孔，该上部呈漏斗状并向下朝内逐渐内缩，该颈部接续于该上部并由该上部向下延伸，该贯孔贯穿该上部与该颈部，该上部并包含顶面，该顶面朝向该贯孔凸伸有复数个凸缘，每一凸缘之间并彼此间隔出一流道，这些流道连通于该贯孔。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：吴俊龙，
申请(专利权)人：华景电通股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：71[中国|台湾]