消光性聚合物薄膜结构制造技术

本实用新型专利技术涉及一种消光性聚合物薄膜结构，其包括聚合物薄膜以及厚度为１至３微米的消光层，所述消光层包括胶粘剂及分散于该胶粘剂中的选自二氧化硅、二氧化钛或其混合物的消光粉。本实用新型专利技术的消光性聚合物薄膜结构可以在保持聚合物薄膜原有性能的情况下，通过涂布一定厚度的消光性胶水而使得该聚合物薄膜具有良好的消光效果。（*该技术在2019年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种聚合物薄膜结构，特别是一种可作为电路板的保护膜且具有消光层的聚合物薄膜结构。
技术介绍
聚酰亚胺薄膜(Polyimide Film)是在高性能薄膜材料中具有较高的热稳定性、电 气性及柔软性的商业化产品，因此成为该领域中不可替代的最主要的基本材料。聚酰亚胺 薄膜的高可靠性更是其不可替代的原因之一。目前市场上大部分的聚酰亚胺薄膜为亮光性 聚酰亚胺薄膜，例如，为了使聚酰亚胺保护膜具有遮蔽电路布局的功能，在如图1A所示的 聚酰亚胺薄膜101之上形成黑色粘着层102。然而，这种结构虽然达到了遮蔽的目的，但是 聚酰亚胺薄膜表面的光泽度仍然过亮，无法满足特定光学应用的需求。 为了应市场对消光性聚酰亚胺保护膜的需求，另一种现有结构如图1B所示，该结 构使用添加碳粉的黑色聚酰亚胺薄膜101a，并在该黑色聚酰亚胺薄膜101a上形成粘着层 102a。以这种方式制造的聚酰亚胺保护膜虽然具有较好的消光效果，但是黑色聚酰亚胺薄 膜101a的成本过高，实际量产时不符合需求，而且含有添加物的聚酰亚胺保护膜也存在抗 拉强度、尺寸安定性等性质变差的忧虑。 因此，如何在不影响聚合物薄膜的性能的情况下制造低成本且消光性良好的消光 性聚合物薄膜是目前仍待解决的课题。
技术实现思路
鉴于上述现有技术的缺点，本专利技术的目的是提供一种消光性聚合物薄膜结构，以在不影响聚合物薄膜的性能的情况下，同时具有制造低成本且消光性良好的优点和特性。 为达到上述目的及其它目的，本技术提供一种消光性聚合物薄膜结构，其包括聚合物薄膜以及在该聚合物薄膜上形成的厚度为1至3微米的消光层，所述消光层包括胶粘剂及分散于该胶粘剂中的选自二氧化硅、二氧化钛或其混合物的消光粉。 在一个具体实施方案中，所述消光层的外侧表面具有粗糙化纹路，且优选地，该纹路为锯齿状或波浪状。 在另一具体实施方案中，本技术的消光性聚合物薄膜结构进一步包括在该聚 合物薄膜上形成的粘着层，从而使得该聚合物薄膜夹在消光层及粘着层之间，且所述粘着 层的厚度介于10至35微米。 在具有粘着层的具体实施方案中，本技术的消光性聚合物薄膜结构进一步包括在该粘着层上形成的离形膜，从而使得该粘着层夹在聚合物薄膜及离形膜之间。 本技术的消光性聚合物薄膜结构可以在保持聚合物薄膜的高性能的情况下，通过涂布一定厚度的消光性胶水，并在固化该消光性胶水之后使该聚合物薄膜具有光散射性质，进而达到良好的消光效果。附图说明图1A显示现有聚酰亚胺保护膜结构。图IB显示现有消光性聚酰亚胺保护膜结构。图2A至2C显示本技术的消光性聚合物薄膜结构。图3为本技术的消光层涂布设备示意图。主要元件符号说明1Ql、101a聚酰亚胺薄膜102、102a、2Q2 粘着层200、200'、,200"消光性聚合物薄膜结构201、314聚合物薄膜203消光层204离形膜205纹路300涂布设备311容槽312含浸滚轮313刮涂装置具体实施方式以下通过特定的具体实施方案说明本技术的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭示的内容轻易地了解本技术的优点及功效。本技术也可以其它不同的方式实施，即，在不背离本技术所揭示的范围内进行不同的修改与改变。 如图2A所示，其显示本技术的消光性聚合物薄膜结构200，该结构包括聚合物薄膜201以及厚度为1至3微米的消光层203，所述消光层203在该聚合物薄膜201上形成，且该消光层包括胶粘剂及分散于该胶粘剂中的选自二氧化硅、二氧化钛或其混合物的消光粉。在一个例子中优选二氧化钛消光粉。 在本技术的消光性聚合物薄膜结构中，并不特别限定所使用的聚合物薄膜 201材料，通常，该聚合物薄膜201选自聚酰亚胺、聚对苯二甲酸乙二醇酯或聚对萘二甲酸 乙二酯，且该聚合物薄膜201的厚度介于12至25微米。 再参照图2B，其显示本技术的另一消光性聚合物薄膜结构200'，其中，聚合 物薄膜201在与消光层203接触的侧表面上具有粗糙化纹路205，具体而言，该纹路为锯齿 状或波浪状。再参照图2C，其显示本技术的另一消光性聚合物薄膜结构，为了使聚合物 薄膜作为电路板的保护膜，本技术还提供一种消光性聚合物薄膜结构200"，该结构包 括聚合物薄膜201、厚度为1至3微米的消光层203、在该聚合物薄膜201上形成的粘着层 202，以及在该粘着层202上形成的离形膜204。在该具体实施方案中，所述粘着层用以粘合 于电路板上，例如电路板上的线路层，而所述离形膜则提供方便撕取并保护粘着层的粘性。 在本技术中，可选用各种适合的材料作为离形膜，例如但不限于纸质的离形膜。 在一个具体实施方案中，所述粘着层202的厚度介于10至35微米，常用的粘着层 202的厚度为10微米、15微米、25微米以及35微米。 此外，所述消光层203的组成包括胶粘剂及分散于该胶粘剂中的选自二氧化硅、 二氧化钛或其混合物的消光粉。通常在制备时使用液态硅橡胶或铁氟龙(TEFLON)胶水作 为胶粘剂，在该胶粘剂固化之后形成消光层，由于本技术的消光层在聚合物薄膜201 上形成，不会因分散的消光粉而影响聚合物薄膜特性，且固化后的消光层203可使光线散 射，从而达到整体结构的消光效果；而且，本技术的消光层203的厚度为远小于聚合物 薄膜的3微米以下，优选为l至2微米，因此不会影响聚合物薄膜的平坦性；此外，在制造时 控制消光层203的粘度为200至300cps之间，且例如包括胶粘剂及消光粉的固含量为15 至25重量％之间。 此外，为了制备本技术的消光性聚合物薄膜结构，本技术提供一种示例 性的制备方法。如图3所示的涂布设备300包括容纳胶粘剂及消光粉的容槽311、含浸滚 轮312及刮涂装置313。在制造时利用导轮(未图示)顺着箭号方向输送聚合物薄膜314， 当聚合物薄膜314通过含浸滚轮312时，由于部分浸渍于容槽311中的含浸滚轮312沾附 包含胶粘剂及消光粉的液体，使得该液体被涂布于聚合物薄膜314的表面上。通常，在制造 时控制用于形成消光层203的液体粘度为200至300cps之间，且液体中包括胶粘剂及消光 粉的固含量为15至25重量％之间。接着，当聚合物薄膜通过并接触刮涂装置313时，可通 过刮涂装置313的刮刀或线棒控制该液体所形成的消光层厚度为3微米以下，优选厚度为 1至2微米。此外，所述刮涂装置313的刮刀或线棒可具有不平坦的外形，例如具有粗糙化 纹路，更具体而言，该纹路可为锯齿状或波浪状，由此使得所述消光层的外侧表面具有粗糙 化纹路，如锯齿状或波浪状的外形。 在另一方面，可在所述已涂布包含胶粘剂及消光粉的液体的聚合物薄膜314通过 刮涂装置313之前，预先加热该聚合物薄膜314使得所述液体处于半固化(B-sage)状态， 以利于形成粗糙化纹路，当然，最后在聚合物薄膜314通过刮涂装置313之后再固化所述液 体形成的消光层。 综上所述，本技术的消光性聚合物薄膜结构包括在聚合物薄膜上形成的厚度 为1至3微米的消光层，并利用所述消光层含有分散于其中的选自二氧化硅、二氧化钛或其 混合物的消光粉，使得聚合物薄膜具有消光性外观，且因为改变聚合物薄膜的组成而得以 在保持聚合物薄膜的性能的情况下达到消光本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种消光性聚合物薄膜结构，其特征在于，包括：聚合物薄膜；以及厚度为１至３微米的消光层，该消光层在所述聚合物薄膜上形成，并包括胶粘剂及分散于该胶粘剂中的消光粉。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：林志铭，向首睿，李建辉，周文贤，
申请(专利权)人：昆山雅森电子材料科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：32[中国|江苏]