发光屏和图像显示设备制造技术

本发明专利技术涉及发光屏和图像显示设备。为了防止由于光晕现象导致的图像劣化，该光晕现象是由用于中断反射电子的在发光部件之间设置的肋部件的顶部处的二次反射电子引起的，在用于分隔开所述发光部件的肋部件上在位于发光部件之间的部分处设置用于捕获二次反射电子的开口部分。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及用于图像显示设备的发光屏。
技术介绍
常规上，已知场发射型显示器(FED)作为一种图像显示设备。 FED具有真空容器，所述真空容器是通过经由框架部件接合后板和发 光屏而形成的。另外，多个电子发射器件以矩阵方式布置在后板上。 此外，在发光屏上布置有红色(R)、绿色(G)和蓝色(B)发光部 件；黑色部件；以及阳极电极，所述红色(R)、绿色(G)和蓝色(B) 发光部件分别响应电子发射器件发射的电子而发射可见光，所述黑色 部件中的每一个位于所述发光部件之间，所述阳极电极要对电子进行 加速。在此，由诸如Al等的金属膜构成的金属背一般已知作为阳极电 极。在具有这种构造的FED中，已确i人这样一种现象，即，在从电子 发射器件发射的电子进入发光屏上的金属背和发光部件的情况下，被 发射的电子的一部分被反射。也就是说，由于阳极电极和电子发射器 件之间的电压，由金属背和发光部件反射的电子(此后被称为反射电 子)被朝发光屏侧再次加速，并且被加速的电子再次进入发光部件， 从而发生被称为光晕(halation)的现象。在此，应注意，光晕是这样一种现象，即，由金属背和发光部件 反射的电子进入相邻的另一区域中的发光部件。更具体地说，如果发 生光晕，则由于未被选中的区域中的发光部件发光，因此对比度和颜 色纯度完全劣化，从而图像质量劣化。为此，至今已考虑了针对光晕 的对策。顺便提及，日本专利申请特开第2008-097861号(对应于美国专利公告第2008/084160号)公开了 在发光屏上的发光部件之间设置 肋(rib)，以便通过阻断反射电子而控制光晕的发生。然而，对于日本专利申请特开第2008-097861号中公开的肋，已 要求进一步减少由反射电子导致发生的光晕。关于这一点，本专利技术旨 在提供一种能够减少由反射电子导致发生的光暈的新的发光屏，以及 使用所述新的发光屏的图像显示设备。
技术实现思路
解决上述这种问题的本专利技术的特征在于一种发光屏，所述发光屏 包括基板；位于所述基板上的阳极电极；多个发光部件，适于响应 电子的照射而发光；以及肋部件，位于所述多个发光部件之间，适于 将所述多个发光部件相互分隔开，其中所述肋部件在由所述肋部件相 互分隔开的相邻的发光部件之间具有开口部分。根据本专利技术，能够进一步减少由反射电子导致发生的光晕，从而 能够显示高质量图像。参照附图阅读以下对示例性实施例的描述，本专利技术的其他特征将 变得清晰。附图说明图1A和1B是分别示出根据本专利技术的发光屏的结构的示例的视图。图2A和2B是分别示出根据本专利技术的发光屏的结构的另一示例的 视图。图3是沿图1A中指示的线3-3的截面图。图4是沿图2A中指示的线4-4的截面图。图5是部分切除根据本专利技术的图像显示设备的概念透视图。图6是沿图5中指示的线6-6的截面图。图7是指示肋部件的开口部分的开口率和反射电子量之间的关系 的视图。4图8A、 8B和8C是指示根据本专利技术的发光屏的制造过程的视图。 图9A、 9B和9C是指示根据本专利技术的发光屏的制造过程的视图。 图IOA和IOB是指示根据本专利技术的发光屏的制造过程的视图。 图IIA和IIB是指示根据本专利技术的发光屏的制造过程的视图。具体实施例方式此后，将参照图1A、 1B、 2A、 2B、 3、 4、 5、 6和7来描述本发 明的示例性实施例。图1A是本实施例的发光屏的平面图，图1B是在 沿图1A中指示的线1B-1B切割本实施例的发光屏的情况下的截面图。 图5和6是分别示出本实施例的图像显示设备的整体概况的视图，图 5是部分切除图像显示设备的整体透视图，图6是沿图5中指示的线 6-6的截面图。首先，将描述作为特征部分的发光屏。在本实施例中，如图1A和1B所示，在面基板l上形成用于构 成阳极电极的作为导电部件的金属膜11、用于显示图像的作为多个发 光部件的荧光体层10、以及将各个荧光体层10分隔开的肋部件21。 本实施例中的发光屏由面基板1、用于构成阳极电极的作为导电部件 的金属膜11、作为所述多个发光部件的荧光体层10、以及肋部件21 构成。对于发光屏，如图1A和1B所示，根据图像显示设备的结构， 进一步具有用作黑色部件的黑底(black matrix ) 12的构造是优选的。在图1B中，作为发光部件的荧光体层10由位于基板上的肋部件 21彼此分隔开。肋部件21在作为被所述肋部件彼此分隔开的相邻发 光部件的荧光体层10之间具有开口部分23。在本实施例中，如图1B 所示，在金属膜11或荧光体层10处产生的反射电子之中的不能由肋 部件21遮蔽的电子再次入射到面基板1，以产生新的反射电子(由图 1B中的点线箭头指示的二次反射电子)。然而，二次反射电子可被开 口部分23遮蔽。详细说来，虽然入射到开口部分23的电子产生二次 反射电子，但是因为在开口部分23中电子与肋部件21碰撞这一事实 导致电子能量损失，所以二次反射电子逐渐消失而不从开口部分23 离开到外部。因此，由于可以通过借助肋部件在开口部分遮蔽新的反射电子(二次反射电子)来减小光晕，从而可以显示具有高对比度的 图像。注意，可以根据图像显示设备的规格来适当设定肋部件21的高 度。优选地，将肋部件21的高度设定在荧光体层的宽度(图1A中的 X或Y方向上的长度)的1/2至IO倍的范围内，例如，如果发光区域 的宽度为50pm，则优选地，将肋部件21的高度设定在25fim至500nm 的范围内。在肋部件21之间设置的开口部分的形状不具体局限于矩 形，而是可以是多边形或圆形。此外，优选地，构造为使得肋部件的 宽度在X方向和Y方向上具有相同长度。为了在开口部分23处有效 遮蔽反射电子，优选地，设置在肋部件21之间的开口部分23的开口 深度(图1B中的Z方向上的长度)变为比从作为发光部件的荧光体 层10的表面到肋部件21的顶部22的长度长。根据此构造，在开口部 分处可以更加确实地遮蔽反射电子。在图7中指示了开口部分23投影到面基板1的投影面积相对于通 过计算当荧光体层10、肋部件21和开口部分23被投影到面基板1上 时所形成的投影面积的总和获得的投影面积的比率(下文中称为开口 率)与反射电子量之间的关系。注意，图7指示了肋部件21的高度为 120nm并且焚光体层10的投影面积相对于荧光体层10、肋部件21和 开口部分23的总计投影面积所占的比率等于30%的情况下的数据。 如图7所指示的，当开口率变为等于或大于20%时，二次反射电子的 量显著减少。然而，由于荧光体层所占据的比率影响发光量，而肋部 件所占据的比率影响反射电子的遮蔽效果，因此必须考虑这些部件所 占据的比率。因而，优选地，开口部分23的开口率等于或大于20% 并且等于或小于40%。如图1B所示，在本构造中，在面基板l和开 口部分23之间包括用作黑色部件的黑底的一部分。在这种构造的情况 下，可以防止由于设置开口部分23这一事实而导致的对比度劣化，并 且这种构造是更加优选的。此外，将详细描述用于构成发光屏的各个构成部件。优选地，肋部件21由这样的材料构成，即该材料由诸如含有如氧化铅、氧化锌、氧化铋、氧化硼、氧化铝、氧化硅和氧化钛之类的金 属氧化物的玻璃材料之类的、电阻几乎等于电介质电阻的无机混合物 组成。诸如喷砂法、感光膏法、蚀刻法等本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种发光屏，所述发光屏包括：　基板；　位于所述基板上的阳极电极；　多个发光部件，适于响应电子的照射而发光；以及　肋部件，位于所述多个发光部件之间，适于将所述多个发光部件相互分隔开，　其中，所述肋部件在由所述肋部 件相互分隔开的相邻的发光部件之间具有开口部分。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：丰口银二郎，大西智也，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]