显示面板及其制造方法、光电装置及其制造方法制造方法及图纸

技术编号:3764318 阅读:248 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本申请公开了一种显示面板及其制造方法、光电装置及其制造方法。其中,一种显示面板,其包括一第一基板、一第二基板、多条信号线、多个子画素以及至少一厚度调整层。第二基板配置于第一基板上方,且第二基板上具有一透明电极层。多条信号线配置于第一基板上。多个子画素排列于第一基板与第二基板之间。子画素与信号线电性连接,且部份子画素具有至少一穿透区及至少一反射区。穿透区具有一穿透电极,且反射区具有一反射电极。厚度调整层配置于反射电极的上方,且位于部份子画素中的反射区中。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是有关于一种,且特别是有关于一种具有半穿透半反射式(transflective)画素结构的。
技术介绍
一般薄膜晶体管液晶显示器可分为穿透式、反射式,以及半穿透半反射式三大类,其分类的依据在于光源的利用以及数组基板(array)的设计。一般而言,穿透式的薄膜晶体管液晶显示器(transmissive TFT-LCD)主要是以背光源(backlight)作为光源,其薄膜晶体管数组基板上的画素电极为透明电极,以利于背光源所发出的光线穿透。反射式薄膜晶体管液晶显示器(reflective TFT-LCD)主要是以前光源(front-light)或是外界光源作为光源,其薄膜晶体管数组基板上的画素电极为金属或其它具有良好反射特性材质的反射电极,适于将前光源或是外界光源反射。另外,半穿透半反射式薄膜晶体管液晶显示器则可视为穿透式薄膜晶体管液晶显示器与反射式薄膜晶体管液晶显示器的整合架构,其可以同时利用背光源以及前光源或外界光源以进行显示。在现有的半穿透半反射式多域垂直配向液晶显示面板中,其彩色滤光基板上仅会设置有多个配向凸起物而无其它膜层或组件,且这些配向凸起物会分布于薄膜晶体管数组基板上的反射电极以及穿透电极上方。另外,通常于同一子画素内,反射电极与穿透电极之间会有主狭缝(main slit)的设计,意即,反射电极与穿透电极之间会存在间隔(gap),使得反射电极与穿透电极相互分隔开来,其目的是使穿透电极与反射电极边缘的液晶分子往配向凸起物倾倒。必需说明的是,于同一子画素内的穿透电极的全部边缘与相邻的反射电极的全部边缘完全不会有彼此相连接的处,因此在穿透电极与相邻的反射电极两者之间会存在间隔(gap)。也就是说,于同一子画素内的穿透电极与反射电极形状甜f^;夂5T诚1\ R的嵌好.日窃诱由秘Jsp射由秘邻法的整小i、力錄知后射由极与穿透电极邻接的整个边缘之间存在间隔(gap)。由于主狭缝是设置于反射电极与穿透电极之间,其能够改变电力线的分布,因而能使液晶分子往配向凸起物方向倾倒,以达到广视角的目的。此外,于同一子画素内的反射电极与穿透电极之间也会有连接电极,且连接电极仅会遮蔽或位于很少部份的主狭缝,约小于10%,以使反射电极与穿透电极彼此电性连接,此连接电极可与反射电极或穿透电极相同的电极材料。此时,于同一子画素内的反射电极与相邻的穿透电极之间仍存在间隔。另外,两相邻不同的子画素中,其中一子画素的穿透电极与另一子画素的反射电极之间存在一空隙或间隔,而让上述电极分隔开来。但是,上述半穿透半反射式多域垂直配向液晶显示面板中于反射电极与穿透电极之间的主狭缝以及对应配置于穿透电极上方的配向凸起物的设计虽然可改变其附近的液晶层中的电场,使得液晶分子未如预期的配向方向倾倒。但是,主狭缝以及对应配置于穿透电极上方的配向凸起物的存在同时也会造成液晶显示面板开口率(aperture ratio)的损失。
技术实现思路
本专利技术提供一种显示面板,以解决传统半穿透半反射式多域垂直配向液晶显示面板中因主狭缝以及穿透电极上的配向凸起物的存在会造成液晶显示面板开口率(aperture ratio)的损失的问题。本专利技术更提供一种显示面板的制造方法,其可制作出上述的显示面板。本专利技术更提供一种光电装置,其具有上述的显示面板。本专利技术更提供一种上述的光电装置的制造方法。本专利技术提出一种显示面板,其包括一第一基板、 一第二基板、多条信号线、多个子画素、至少一厚度调整层以及一液晶层。第二基板配置于第一基板上方,且第二基板上具有一透明电极层。多条信号线配置于第一基板上。多个子画素排列于第一基板与第二基板之间。上述子画素与信号线电性连接,且部份子画素具有至少一穿透区及至少一反射区。穿透区具有一穿透电极,且反射区具有一反射电极,其中位于穿透电极与反射电极连接处的穿透电极边缘与反射电极边缘是完全覆盖的,以构成一画素电极。厚度调整层配置在反射电极之上方,且位于部份子画素中的反射区中。液晶层位于第一基板与第二基板之间。在本专利技术的一实施例中,上述的显示面板更包括一彩色滤光数组设置于第一基板及第二基板其中一者之上。本专利技术提出一种显示面板的制造方法。首先,提供一第一基板以及一第二基板。第二基板配置于第一基板上方,且第二基板上具有一透明电极层。接着,配置多条信号线于第一基板上,并提供多个子画素排列于第一基板与第二基板之间。上述子画素与信号线电性连接,且部份子画素具有至少一穿透区及至少一反射区。穿透区具有一穿透电极,且反射区具有一反射电极,其中位于穿透电极与反射电极连接处的穿透电极边缘与反射电极边缘是完全覆盖的,以构成一画素电极。配置至少一厚度调整层于在反射电极之上方,且位于部份子画素中的反射区中。之后,设置一液晶层于第一基板与第二基板之间。本专利技术提出一种光电装置的制造方法,包含如上述所述的显示面板的制造方法。本专利技术提出一种光电装置,包含如上述所述的显示面板。基于上述,由于本专利技术的显示面板采用的子画素中,穿透电极与反射电极连接处的穿透电极边缘与反射电极边缘是完全覆盖的,也就是该处不存在有主狭缝的设计,因此本专利技术相较于现有显示面板而言具有较高的开口率。另外,本专利技术的厚度调整层是位于反射电极之上方或位于反射电极之上方且延伸至邻接反射电极的部份穿透电极边缘上,厚度调整层同时具有配向图案的作用,因而本专利技术不需在第二基板上再设置配向凸起物,因此可提高显示面板的开口率。为让本专利技术之上述特征和优点能更明显易懂,下文特举实施例,并配合所附图式,作详细说明如下。附图说明图1为本专利技术的一实施例的显示面板的剖面示意图。图2为本专利技术的一实施例的显示面板中的画素数组基板之上视示意图。 图3为显示面板的液晶层中液晶分子的配向示意图。 图4为本专利技术的另一实施例的显示面板的剖面示意图。图5为本专利技术的另一实施例的显示面板的剖面示意图。图6为本专利技术的另一实施例的显示面板中的画素数组基板之上视示意图。图7为显示面板的液晶层中液晶分子的配向示意图。 图8~图11分别为显示面板中使用表一至表四所列的厚度调整层厚度与 反射区的液晶层厚度之后所测得的显示面板穿透率与驱动电压的曲线图。 图12为本专利技术的一实施例的光电装置的示意图。主要组件符号说明100、 210:基板170:主动组件 180:保护层 180P:凸起图案 190:画素电极 190a:反射电极 190b:穿透电极 190P:反射凸块200、 200b、 200c、 300:显示面板 220、 220b、 220c:子画素211:彩色滤光层 212:平坦层 230:透明电极层240、 240b:厚度调整层250:信号线 260:液晶层 270:画素数组基板 280:彩色滤光基板 400:光电装置 410:电子组件 COM:共享电极线 Dl:厚度 Dr:间距 DL:资料线 H:接触开口 LC:液晶分子R:反射区T、 Tl、 T2:穿透区S:配向狭缝SI:第一配向狭缝 S2:第二配向狭缝具体实施方式图1为本专利技术一实施例的由画素数组基板及其对应的彩色滤光基板构成的显示面板的剖面示意图。图2为图1的画素数组基板中的一个子画素单元之 上视示意图。请同时参照图1及图2,本实施例的显示面板200主要由一画素 数组基板270、 一位于画素数组基板270的对向的彩色本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种显示面板,包含: 一第一基板; 一第二基板,配置于该第一基板上方,且该第二基板上具有一透明电极层; 多条信号线,配置于该第一基板上; 多个子画素,排列于该第一基板与该第二基板之间,所述子画素与所述信号线电性连接, 且部份所述子画素具有至少一穿透区及至少一反射区,该穿透区具有一穿透电极,该反射区具有一反射电极,其中位于该穿透电极与反射电极连接处的该穿透电极边缘与该反射电极边缘是完全覆盖的,以构成一画素电极; 至少一厚度调整层,配置于反射电极之上方 ,且位于部份所述子画素中的该反射区中;以及 一液晶层,位于该第一基板与该第二基板之间。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:郭玉范姜士权胡至仁
申请(专利权)人:友达光电股份有限公司
类型:发明
国别省市:71[中国|台湾]

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