电磁波屏蔽材料以及其制造方法技术

本发明专利技术的目的在于提供电磁波屏蔽效果高、透明性和透视性优异的电磁波屏蔽材料，以及该电磁波屏蔽材料的简便且便宜的制造方法。其涉及电磁波屏蔽材料的制造方法，以及用该制造方法制造的电磁波屏蔽材料。所述电磁波屏蔽材料的制造方法的特征在于，在具备含有选自于氧化物陶瓷、非氧化物陶瓷以及金属中的至少１种作为主成分的透明多孔层的透明性树脂基材的该透明多孔层面上，将含有粒子状氧化银、叔脂肪酸银以及溶剂的导电性糊以几何学图案进行丝网印刷之后，将该印刷的透明性树脂基材加热处理，在该透明多孔层面上形成几何学图案的导电部。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及用于将从CRT、PDP等电器设备发生的电磁波遮蔽的。
技术介绍
一直以来，在基材上形成具有导电性或磁性的图案，制造各种利用其电的性质、磁的性质等的物品。其中，为了遮蔽从CRT、PDP等显示部的前面侧泄漏的电磁波，电磁波屏蔽板被装备在显示屏的前面，作为前面板而被广泛使用。作为前面板使用的电磁波屏蔽板，除了遮蔽电磁波的功能以外，还要求不降低显示屏的显示画面的透视性。作为具备透视性和电磁波屏蔽性两方面的电磁波屏蔽材料，有如下报告例例如用导电性粉末和粘合剂，通过在透明树脂基材表面上进行丝网印刷而形成的具有导电部的电磁波屏蔽材料(专利文献1和2)。但是，通常利用丝网印刷，在以格子状图案形成屏蔽层的情况下，因与印刷板的纱网眼的干涉而容易发生云纹、细线的断线或线变粗等的印刷不良，不容易进行精密的印刷。因此，容易发生电磁波屏蔽性能低下或者透视性低下的问题。专利文献1特开平11-26984号公报专利文献2特开2001-196784号公报
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供电磁波屏蔽效果高、透明性和透视性优异的电磁波屏蔽材料，以及该电磁波屏蔽材料的简便且便宜的制造方法。本专利技术者为了解决上述问题进行了专心致志的研究，结果发现在具备含有选自氧化物陶瓷、非氧化物陶瓷以及金属中的至少1种作为主成分的透明多孔层的透明性树脂基材的该透明多孔层面上，以几何学图案将特定的导电性糊进行丝网印刷之后，通过在比较低的温度下进行煅烧，在该透明多孔层面上，可以形成几乎没有细线的断线以及线变粗的几何学图案的导电部，可以制造出具有优异的电磁波屏蔽性、高开口率(透视性)以及透明性的电磁波屏蔽材料。在该认识的基础上，经过进一步反复研讨完成了本专利技术。即，本专利技术提供如下的。(1)一种电磁波屏蔽材料的制造方法，其特征在于，在具备含有选自于氧化物陶瓷、非氧化物陶瓷以及金属中的至少1种作为主成分的透明多孔层的透明性树脂基材的该透明多孔层面上，将含有粒子状氧化银、叔脂肪酸银以及溶剂的导电性糊以几何学图案进行丝网印刷之后，将该印刷的透明性树脂基材加热处理，在该透明多孔层面上形成几何学图案的导电部。(2)根据(1)所记载的制造方法，其特征在于，前述透明性树脂基材在与透明多孔层相反的面上具有硬涂层。(3)根据(1)或(2)所记载的制造方法，其特征在于，前述导电性糊含有平均粒子径为2μm或更低的粒子状氧化银、总碳原子数为5～30的叔脂肪酸的银盐、和将选自于芳香族烃、乙二醇的醚酯类、丙二醇的醚酯类以及萜品醇中的至少1种作为主成分的溶剂。(4)根据(1)～(3)中任意一项所记载的制造方法，其特征在于，前述透明多孔层的厚度为0.05～20μm左右。(5)根据(1)～(4)中任意一项所记载的制造方法，其特征在于，前述透明多孔层含有将选自于氧化硅、氧化钛以及氧化铝中的至少1种作为主成分的微粒子的集合体，并且在该微粒子之间具有细孔。(6)根据(5)所记载的制造方法，其特征在于，前述微粒子的平均粒子径为10～100nm左右，前述细孔径为10～100nm左右。(7)根据(1)所记载的制造方法，其特征在于，前述透明多孔层是通过选自于凹版涂层、胶版涂层、逗号涂层(comma coating)、口模涂层(die coating)、狭缝涂层、喷雾涂层、镀涂法、溶胶-凝胶法、LB膜法、CVD、蒸镀、溅射、离子镀中的1种方法而形成的。(8)根据(1)～(7)的任意一项所记载的电磁波屏蔽材料的制造方法，其特征在于，前述加热处理的温度为150～200℃左右。(9)根据(1)～(8)的任意一项所记载的制造方法，其特征在于，前述透明性树脂基材的树脂是选自于聚酯树脂、聚碳酸酯树脂、聚(甲基)丙烯酸酯树脂、硅酮树脂、环状聚烯烃树脂、聚芳酯树脂以及聚醚砜树脂中的至少1种。(10)根据(1)～(9)的任意一项所记载的制造方法，其特征在于，前述透明性树脂基材是片状、膜状或者平板状。(11)一种电磁波屏蔽材料，其特征在于，其是通过(1)～(10)的任意一项所记载的制造方法制造的。(12)根据(11)所记载的电磁波屏蔽材料，其特征在于，导电部的几何学图案的线宽为10～30μm左右，开口率为80～95％左右。(13)一种膜状电磁波屏蔽材料，其是在透明性树脂基材上具有几何学图案的导电部的电磁波屏蔽材料，其特征在于，全光线透射率为72～91％，浊度值为0.5～6％，表面电阻值为5Ω/□或更小，导电部的几何学图案线宽为10～30μm左右，开口率为80～95％左右。(14)一种等离子体显示屏用的电磁波屏蔽过滤器，其特征在于，含有(11)～(13)中任意一项所记载的电磁波屏蔽材料。(15)在透明多孔层面上形成几何学图案的导电部的方法，其特征在于，在具备含有选自于氧化物陶瓷、非氧化物陶瓷以及金属中的至少1种作为主成分的透明多孔层的透明性树脂基材的该透明多孔层面上，以几何学图案将含有粒子状氧化银、叔脂肪酸银以及溶剂的导电性糊进行丝网印刷之后，进行加热处理。以下，对本专利技术进行详细描述。本专利技术的电磁波屏蔽材料的制造方法，其特征在于，在具备含有选自于氧化物陶瓷、非氧化物陶瓷以及金属中的至少1种作为主成分的透明多孔层的透明性树脂基材的该透明多孔层面上，以几何学图案将含有粒子状氧化银、叔脂肪酸银以及溶剂的导电性糊进行丝网印刷之后，进一步将印刷后的基材进行加热处理(煅烧)，在该透明多孔层面上形成几何学图案的导电部。透明性树脂基材作为在本专利技术使用的透明性树脂基材的基材树脂，是耐热性高、且透明的，只要能在该基材上形成该透明多孔层的物质，就没有特别的限定。具体而言，可以例示出聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)等的聚酯树脂、聚碳酸酯树脂、聚(甲基)丙烯酸酯树脂、硅酮树脂、环状聚烯烃树脂、聚芳酯树脂、聚醚砜树脂等。其中，从透明性、成本、耐久性、耐热性等的观点综合判断，优选采用聚酯树脂，特别优选采用PET或PEN。在此，在透明性树脂基材上的透明性，只要是能够用于PDP、CRT等的显示部的用途程度的透明性，就没有特别的限定。通常，根据JISK7105测定的全光线透射率为85～90％左右，以及根据JIS K7105测定的浊度值为0.1～3％左右。透明性树脂基材的形态，能够用于PDP、CRT等的显示部的形态，即，采用膜状、片状、平板状等。该形态可以通过公知的方法用上述的基材树脂制造。在本专利技术的透明性树脂基材上，具有含有选自于氧化物陶瓷、非氧化物陶瓷以及金属中的至少1种作为主成分的透明多孔层。在此，作为氧化物陶瓷可以例示出氧化钛、氧化铝、氧化镁、氧化铍耐火材料、氧化锆、氧化硅等的单纯氧化物，氧化硅、镁橄榄石、滑石、硅灰石、锆石、莫来石、堇青石、锂辉石等的硅酸盐、钛酸铝、尖晶石、磷灰石、钛酸钡、PZT、PLZT、铁酸盐、铌酸锂等的复合氧化物。作为非氧化物陶瓷可以例示出氮化硅、硅铝氧氮耐热陶瓷(Sialon)、氮化铝、氮化硼、氮化钛等的氮化物、碳化硅、碳化硼、碳化钛、碳化钨等的碳化物、无定形碳、石墨、金刚石、案结晶蓝宝石等的碳。此外，可以例示出硼化物.硫化物.硅化物。作为金属，可以例示出金、银、铁、铜、镍等。可以使用它们中的至少1种作为原料，更优选的是氧化硅、氧化钛、氧化铝，其他的成分或配合没有特别的限定。在透明性树脂基材上形本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电磁波屏蔽材料的制造方法，其特征在于，在具备含有选自于氧化物陶瓷、非氧化物陶瓷以及金属中的至少１种作为主成分的透明多孔层的透明性树脂基材的该透明多孔层面上，将含有粒子状氧化银、叔脂肪酸银以及溶剂的导电性糊以几何学图案进行丝网印刷之后，将该印刷的透明性树脂基材加热处理，在该透明多孔层面上形成几何学图案的导电部。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：冈田淳，清原章夫，田中秀树，本多俊之，伊藤雅史，加藤准一，外嶋升，中尾泰久，
申请(专利权)人：郡是株式会社，藤仓化成株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]