低色散延迟线制造技术

一种低色散延迟线，属于微带延迟电路领域，更确切地说，涉及微带延迟线的改进。本实用新型专利技术提供的低色散延迟线，包括介质基片和微带线，它还包括一层介质片，该介质片覆盖在所述的微带线上，并使所述微带线完全处于介质基片与该介质片之中。从而能够方便地调整微带延迟线中的色散情况，可以最大程度地减少由于色散带来的延迟起伏，以解决微波宽带电路中的调节延迟问题。（*该技术在2009年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本技术属于微带延迟电路领域，更确切地说，涉及微带延迟线的改进。目前常用的延迟线中有一种微带延迟线，包括介质基片和微带线，其中的微带线处于介质基片和空气的交界面内。电磁波沿微带线传播，而电磁波在微带介质基片和空气中的传输速度不一样，这就使得沿微带线传播的电磁波为准TEM(transverse electric and magnetic，即横电磁场)波。从而导致各频率电磁波在通过微带延迟线后存在色散现象，这种色散在微波频段，尤其是在宽带的微带延迟线中，引起的延迟起伏对电路性能的影响是十分有害的。本技术的目的就是解决上述问题，提供一种能够调整微带延迟线中色散程度的低色散延迟线，以解决微波宽带电路中的精确调节延迟问题。为实现上述目的，本技术提供的低色散延迟线，包括介质基片和微带线，其特征在于它还包括一层介质片，该介质片覆盖在所述的微带线上，并使所述微带线完全处于介质基片与该介质片之中。通常选取与介质基片的介电常数相同的介质片。本技术提供的低色散延迟线，由于其中的微带线处于介质基片和介质片之中，电磁波在微带介质基片和介质片中的传输速度趋于一致，这就使得沿微带线传播的电磁波为TEM波。从而克服了由于色散带来的延迟起伏。以下结合附图和实施例，进一步说明本技术的技术方案。附图说明图1是现有的微带延迟线产品的横断面图；图2是本技术提供的低色散微带延迟线的横断面图。如图1所示，现有的微带延迟线产品通常包括介质基片11、微带线12以及铜箔13，其中的铜箔13用于接地。由于微带线处于介质基片和空气的交界面内，而电磁波在介质基片和空气中的传输速度不一样，这就使得沿微带线传播的电磁波为准TEM(transverse electric and magnetic，即横电磁场)波。即电磁波在电路中的奇模和偶模传输速度的不一致。导致各频率电磁波在通过微带延迟线后存在色散现象，这种色散在微波频段，尤其是在宽带的微带延迟线中，导致的延迟起伏对电路性能的影响是十分有害的。如图2所示，为改善这一状况，本技术提供的低色散延迟线，从物理结构入手，覆盖不同介电常数的介质片23于微带线12上，并使微带线12完全处于介质基片11与介质片23之中，此时，相当于用介质片23代替了原来的空气，而任何一种介质片的介电常数都比空气的介电常数小，因此用介质片代替原来的空气有利于调整微带延迟线中的色散情况。尤其当介质片23的介电常数与介质基片11的介电常数相同时，能够使微带电路中电磁波奇模和偶模的传输速度接近一致，也就是说这时电磁波以更接近TEM波的形式进行传播，色散更小。从而可以最大程度地减少由于色散带来的延迟起伏。其中的微带线通常是金属，如铜或镀银的铜。通常介质基片和介质片采用同种材料，常用的有聚四氟乙烯或复合介质等。权利要求1.一种低色散延迟线，包括介质基片(11)和微带线(12)，其特征在于它还包括一层介质片(23)，该介质片(23)覆盖在所述的微带线(12)上，并使微带线(12)完全处于介质基片(11)与介质片(23)之中。2.如权利要求1所述的低色散延迟线，其特征在于所述的介质片(23)，其介电常数与介质基片(11)的介电常数相同。专利摘要一种低色散延迟线,属于微带延迟电路领域,更确切地说,涉及微带延迟线的改进。本技术提供的低色散延迟线,包括介质基片和微带线,它还包括一层介质片,该介质片覆盖在所述的微带线上,并使所述微带线完全处于介质基片与该介质片之中。从而能够方便地调整微带延迟线中的色散情况,可以最大程度地减少由于色散带来的延迟起伏,以解决微波宽带电路中的调节延迟问题。文档编号H01P3/08GK2391311SQ9923970公开日2000年8月9日 申请日期1999年9月22日 优先权日1999年9月22日专利技术者刘小利 申请人:深圳市中兴通讯股份有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种低色散延迟线，包括介质基片（１１）和微带线（１２），其特征在于：它还包括一层介质片（２３），该介质片（２３）覆盖在所述的微带线（１２）上，并使微带线（１２）完全处于介质基片（１１）与介质片（２３）之中。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘小利，
申请(专利权)人：深圳市中兴通讯股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：94[中国|深圳]