【技术实现步骤摘要】
本技术涉及硅片生产
,特别是指一种硅片生产中 的载片器。
技术介绍
在半导体(即硅片)生产工艺过程中,通常采用半导体薄膜沉积工艺进行半导体的镀膜,例如可采用PECVD( Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition,等离子增强化学气相沉积)的沉积工艺 进行氮化硅的真空镀膜。下面以太阳能电池用硅片生产工艺进行简 介在太阳能电池用硅片生产过程中,在进行镀膜时,可将未镀膜的 硅片放入平板式的载片框架中,载片器的框架包含有若干个小工位, 每个小工位的四周有挂钩,将硅片定位在工位上。然后,将载片框 放置在PECVD真空镀膜设备腔体内,采用PECVD工艺进行镀膜。 镀膜结束后,取出载片框,将硅片从载片框上卸取下来。目前,组成载片器的框架多为石墨材料制成,比较笨重、易损。 且碳框结构的框架导轨在PECVD真空镀膜设备运行中易断裂,导致 硅片破碎,甚至是镀膜设备无法正常运行。并且,目前将硅片放置在载片器的载片框上时,载片框上的挂钩 与硅片接触面积较大,对所承载的硅片来说产生了遮挡的弊处,使 得所接触的地方镀膜不均匀,影响硅片镀膜质量。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种硅片生产中的载片器,以提高 所承载的硅片的镀膜质量。 本技术提供的一种硅片生产中使用的载片器,在载片器的 两侧有导轨,在导轨上设置紧贴导轨的、高出载片器的防断头部件。其中,导轨上设置有竖起的卡子,防断头部件远离导轨处有凹 进去的部分,所述防断头部件紧贴导轨时其凹处与卡子相吻合。 其中,载片器还包括用于支撑硅片的挂钩。其中,所述挂钩用于支撑硅片的末端为线状、 一点、 ...
【技术保护点】
一种硅片生产中的载片器,在载片器的两侧有导轨,其特征在于,在导轨上设置紧贴导轨的高出载片器的防断头部件。
【技术特征摘要】
1.一种硅片生产中的载片器,在载片器的两侧有导轨,其特征在于,在导轨上设置紧贴导轨的高出载片器的防断头部件。2. 根据权利要求1所述的载片器,其特征在于,导轨上设置 有竖起的卡子,防断头部件远离导轨处有凹进去的部分,所述防断 头部件紧贴导轨时其凹处与卡子相吻合。3. 根据权利要求1所述的载片器,其特征在于,载片器还包 括用于支撑硅片...
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