导电、耐等离子体的构件制造技术

技术编号:3178761 阅读:205 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种适于暴露在卤素基气体等离子体气氛中的导电、等离子体耐受性构件,该构件包括基材,所述基材在有待暴露于等离子体中的至少部分区域上形成有热喷涂涂层,该热喷涂涂层由金属钇或金属钇与氧化钇和/或氟化钇混合物构成从而具有导电性。由于该构件具有导电性,并且对卤素基腐蚀性气体或其等离子体具有改良的耐腐蚀性,因此在半导体制造设备或平板显示器制造设备中可以抑制因等离子体刻蚀导致的颗粒污染。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种导电、等离子体耐受性构件,其适于暴露在卤素基气体等离子体气氛中,该构件包括基材,所述基材在其有待暴露于等离子体中的至少部分区域上形成有热喷涂涂层,该热喷涂涂层由金属钇或金属钇与氧化钇和/或氟化钇的混合物构成从而赋予导电性。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员:前田孝雄牧野勇一中野瑞植原一郎
申请(专利权)人:信越化学工业株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1
相关领域技术
  • 暂无相关专利