均压屏蔽罩具有多用途的真空灭弧室制造技术

技术编号:3140881 阅读:319 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
均压屏蔽罩具有多用途的真空灭弧室,包括外壳、端盖、均压屏蔽罩,其特征在于所述均压屏蔽罩与端盖和外壳的封接端具有带圆弧过渡的封接平面,封接平面将外壳与端盖封接,圆弧过渡处具有与端盖定位的凹槽,均压屏蔽罩上还设置有与外壳定位的弹性卡片。在真空灭弧室装配过程中靠屏蔽罩上弹性的卡片与瓷壳内壁卡住定位,靠凹槽与端盖定位,保证了真空灭弧室的垂直度在规定的范围内,去掉了已有技术装配过程中的工装模具。本实用新型专利技术通过将均压屏蔽罩设计为一定的结构形状,具有均压屏蔽、将端盖与外壳封接、自定位的多用途,从而节约原材料,降低成本,提高经济效益,产品技术性能稳定。(*该技术在2015年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及真空灭弧室。
技术介绍
真空灭弧室(又称真空开关管)中设置各种各样的屏蔽罩,如触头周围的主屏蔽罩,保护波纹管的波纹管屏蔽罩,为了使真空灭弧室内部的电场分布均匀,设置起均压作用的均压屏蔽罩。均压屏蔽罩设置在动、静管芯上,固定在动、静盖板(端盖)上,主要起均压屏蔽罩作用,使真空灭弧室内部的电场分布均匀。端盖与外壳通过封接环封接。传统的设计均压屏蔽罩和封接环分别是两个零件,而且端盖一般为铁镍钴瓷封合金(可伐材料)和无氧铜材料,它们的使用成本都非常高。为保证真空灭弧室的垂直度,在真空灭弧室装配过程中,一般用工装模具固定的方法来保证。用工装模具固定的方法,工作强度大,工作效率底,需要大量的工装,工装模具随真空灭弧室进炉焊接易污染真空炉设备,同时吸收大量的热量消耗能源。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是提供一种均压屏蔽罩具有多用途的真空灭弧室,通过将均压屏蔽罩设计为一定的结构形状,降低真空灭弧室的成本,产品技术性能稳定。本技术均压屏蔽罩具有多用途的真空灭弧室,包括外壳、端盖、均压屏蔽罩,其特征在于所述均压屏蔽罩与端盖和外壳的封接端具有带圆弧过渡的封接平面,封接平面将外壳与端盖封接。通常均压屏蔽罩的两端呈圆弧过渡,本技术将其中与端盖和外壳的封接端设计有封接平面,封接平面代替了原有的封接环与外壳和端盖封接。不但起到原有均压屏蔽的作用,还起到了封接环的作用。本技术还可以采用如下一种优选的技术方案 均压屏蔽罩与端盖和外壳的封接端圆弧过渡处设计有与端盖定位的凹槽;均压屏蔽罩上设置与外壳定位的弹性卡片。在真空灭弧室装配过程中靠屏蔽罩上弹性的卡片与瓷壳内壁卡住定位,靠凹槽与端盖定位,保证了真空灭弧室的垂直度在规定的范围内。去掉了已有技术装配过程中的工装模具,减轻劳动强度,提高工作效率,降低能耗。本技术的优点通过将均压屏蔽罩设计为一定的结构形状,具有均压屏蔽、将端盖与外壳封接、自定位的多用途,从而节约原材料,降低成本,提高经济效益,产品技术性能稳定。附图说明图1为本技术的结构示意图;图2为图1A处放大结构示意图;图3为均压屏蔽罩结构示意图。图中1外壳 2静管芯 3动管芯 4封接平面 5端盖 6均压屏蔽罩 7弹性卡片 8凹槽具体实施方式如图3,均压屏蔽罩6的两端呈圆弧形过渡。均压屏蔽罩与端盖和外壳的封接端具有带圆弧过渡的封接平面4,圆弧过渡处具有凹槽8,在均压屏蔽罩上间隔设置有4~6个宽4~6mm的弹性卡片7。弹性卡片与均压屏蔽罩同材质,可采用冲压方式与封接屏蔽罩一体化加工制成。如图1,图2,真空灭弧室,包括外壳1、动管芯3、静管芯2及设置在动管芯和静管芯上的均压屏蔽罩6,并分别固定在端盖5上。在真空灭弧室装配过程中,均压屏蔽罩6的封接平面4与外壳1、端盖5封接,同时靠屏蔽罩上弹性卡片7与陶瓷外壳1内壁卡住定位,靠凹槽8与端盖5定位,这样真空灭弧室在装配时具有自定位功能,不需要另外的工装模具。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种均压屏蔽罩具有多用途的真空灭弧室,包括外壳(1)、端盖(5)、均压屏蔽罩(6),其特征在于所述均压屏蔽罩(6)与端盖(5)和外壳(1)的封接端具有带圆弧过渡的封接平面(4),封接平面(4)将外壳(1)与端盖(5)封接。

【技术特征摘要】
1.一种均压屏蔽罩具有多用途的真空灭弧室,包括外壳(1)、端盖(5)、均压屏蔽罩(6),其特征在于所述均压屏蔽罩(6)与端盖(5)和外壳(1)的封接端具有带圆弧过渡的封接平面(4),封接平面(4)将外壳(1)与端盖(5)封接。2.根...

【专利技术属性】
技术研发人员:张玉洁董炳强
申请(专利权)人:淄博晨元电器有限公司
类型:实用新型
国别省市:37[中国|山东]

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