圆形光学存储盘的制造方法技术

在制造圆形光学存储盘（１０）的方法中，当在覆盖层和间隔层（１５）的旋转涂覆过程中，光盘（１０）的基底（１１）周围有延伸体（２１）。延伸体（２１）可由一件或件组成。外周边（２３）具有圆形或多边形状。延伸体与光盘基底（１１）的周边（１３）周向密切接触。延伸体的表面（２２）大体与光盘的基底（１１）的表面（１２）平齐以便在旋转涂覆过程中阻止旋转涂覆流体的流动。常在基底（１１）的周边（１３）形成的抬高的边缘（１６）现被传送至延伸体（２１）的外周边（２３）。涂覆操作后，去除延伸体（２１）。通过选择涂层（１５）不好地粘附的表面，有助于再用延伸体（２０）。所制造的光学存储盘没有或有很小的抬高的边缘（１６），该方法不会引起额外的重折率。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种圆形光学存储盘的制造方法，其具有一带有一第一表面和一外围的基底，其中该第一表面设置有通过施加一液体、旋转该基底并将该液体固化形成的涂层。本专利技术还涉及由上述方法制造的圆形光学存储盘。该方法如从日本专利JP-11086356A是已知的。上述涂覆步骤是以“旋转涂覆”已知。在旋转涂覆过程中，许多含有溶剂的液体分配成一基底，然后旋转该基底。随后将基底的旋转速度增加至一较高速度，取决于期望的层厚，一般地为几百至成千上万转每分。离心力导致径向液流，使得大部分液体旋转离开基底。流体行为的自然规律导致在基底的外围出现流体的较厚层形式如抬高的边缘，其上防止使过量流体流动。流体以滴状离开基底，而不是连续流动。该抬高的边缘是流体内表面张力和其在基底的外围的接触角的结果。于是，抬高的边缘厚度从基底的外围向内扰动几个毫米。一般当使用圆形基底时，其内发生扰动的距离是几个毛细管长度值 其中σ是流体的表面张力，p是其容积质量，g是重力加速度。当使用蒸发溶剂时，由于溶剂的蒸发流体快速地开始固化，留下圆形对称的呈某种径向厚度状的固体涂层。通常一热固化步骤随着该处理步骤用于进一步固化。当使用非蒸发溶剂或慢蒸发溶剂时，流体材料通常是紫外线可固化的，并且直接在旋转涂覆步骤及基底仍在其旋转涂覆位置硬化后固化。在JP-11086356A描述的方法中，使用超尺寸的基底，在旋转涂覆和流体固化后，将基底切成期望的直径，然后除去抬高的边缘。该方法的缺点是，需用特殊工具来修剪基底，污染光盘表面颗粒、灰尘或薄片可通过修剪操作形成。并且，这些工具易于遭受磨损，需要频繁更换。另一个缺点是，修剪操作可在剪切边缘近的基底附近引起非松弛性应变，该剪切边缘在基底的几毫米如五毫米的外围区域可产生光学重折率，当通过基底读或写光盘时，其会带来问题。然而另一个缺点是在光盘制造中使用生产成本较高的非标超大基底。本专利技术的目的是提供开头段所述类型的方法，由该方法可抵消盘上的抬高的边缘并避免修剪基底。本专利技术的该目的是这样实现的，当将流体旋加到第一表面时，基底呈分立的延伸体，该延伸体具有大体周向地与基底的外周接触，还具有大体与基底的第一表面平齐的表面，至少流体的局部固化后，延伸体和基底分开。延伸体形成一带有光盘基底的大体连续的表面。延伸体的表面最好没有延伸超出基底的第一表面。实践中，偏离期望涂层厚度的小于十分之一是可以接受的。在该情形中，延伸体不会或几乎不会阻碍涂层流体流离基底。可将延伸体的表面定位于基底的第一表面稍下方，如在一约期望涂层厚度三分之一的距离。但最好避免任何偏离。这样，由于涂层流体光滑地穿过基底-延伸体边界，就免除了抬高的边缘形式。抬高的边缘从光盘基底外周转送至延伸体的外部外周。延伸体与光盘的基底的外部外围大体周向地接触，从而避免延伸体和基底间的缝隙，这是非常重要的。否则表面张力会在缝隙位置引起层厚偏离；甚至抬高的边缘。没有缝隙也防止流体穿过上述缝隙的毛细流动。实践中，尽管避免缝隙是重要的，非常小的不会引起涂层流体的大量毛细流动的缝隙会存在并可接受。位于其表面之下的延伸体的形状可以自由地选择，只要其表面大体与光盘基底的第一表面平齐以及避免光盘基底和延伸体间的缝隙。当流体固化后，除去延伸体，这或者引起涂层在光盘的基底的外周脱落或使其从延伸体释放。延伸体的表面粘合特性决定两种可能性之一的发生。当涂层完全从延伸体释放，但仍与光盘的基底上的涂层形成一整体，有必要将重叠部分去掉。然而，这只需要一个非常简单的剪切工具，由于相对薄的涂层的厚度。在本专利技术的方法的实施例中，延伸体具有一圆形的外部外围。由于是圆形，该延伸体相对容易装配。在本专利技术的方法的另一实施例中，延伸全具有一多边形的外部外围。在该实施中，极大地降低了抬高的边缘扰动距离，并进一步改进光盘的基底外围附近的抬高的边缘的形成抵消作用。对该改进的解释是涂层流体的改进的排放，由于延伸体的外围的拐角点的出现。使过量流体量、抬高的边缘的潜在高度和宽度降低。在本专利技术方法的实施例的修改中，延伸体具有规则多边形形状，如六边形或方形，其具有流体对称排泄的优点。另一优点是，容易实现平衡盘/延伸体结合，其在上述结合旋转过程中是重要的。另一个优点是，六边形和方形延伸体可从板材上剪切而不会有大量的剪切损失。在本专利技术方法的实施例中，延伸体与光盘基底包括相同的材料。此种情况下，固化的流体较好地粘合到延伸体的表面，使得延伸体一般在后续盘的制造中不能再用，除非如延伸体比先前定位低。然而，延伸体的表面包括固化的流体较差地粘附的材料。其优点是，当盘与延伸体分开时，固化的流体可从延伸体释放，使得延伸体可再容易地使用。在另一实施例中，延伸地包括至少两个部分，其表面大体与基底的第一表面平齐。优点是，绕着延伸体部分的光盘基底的定位可容易地自动实现，这在批量生产中是有利的。在该实施例中，使用带有固化的流体较差地粘附的表面的部分是有利的。如当将延伸体的部分沿向下径向地向外的方向相对光盘基底除去时，固化的流体容易变得与延伸体的部分的表面脱离，使其为下一光盘的制造准备好。以这种方式可以避免固化的流体残余留在部分的表面的后面。将流体通过紫外光固化是有利的。希望得到厚的固化层时，如50-150毫米，该方法具有在使用含有非或慢性蒸发溶剂的流体时相对固化快的优点。使用根据本专利技术的方法，可用在周边区域大体没有光重折率的基底制造圆形光盘。这可由这样的事实解释，不像本专利技术的上述引证的公知方法，修剪涂覆的基底不要求去除主要包括抬高的边缘的固化的流体部分。涂层可是一覆盖层或一间隔层并在光盘基底上具有减小的厚度可变性，从而在读或写光束穿过所述覆盖层或间隔层时提高根部记录层的光读写性能。例如，100微米覆盖层用于新的60毫米半径的数字录像记录(DVR)盘。该盘是通过此覆盖层读写的，因此必须质量好。根据当前标准讨论，覆盖层必须是100+/-3微米厚至58.5毫米的半径，在以上半径从58.5毫米至60毫米，厚度变化不得超过50微米。在多层光记录盘中采用间隔层，其中由这种间隔层分开几个记录层。大多时候，这些间隔层具有约几十毫米的厚度，在厚度上变化不应超过约5％。 附图说明本专利技术方法的实施例，连同说明书说明本专利技术方法的原理。其中图1是沿图2A的I-I线所取的剖面图，其中旋转涂层缝隙夹持由延伸体围绕的光盘基底并由一涂层覆盖；图2是图1的组件的顶视图；图2B是图2A的更改，其中延伸体的外周边是多边形；图2C是图2A的进一步更改，其中延伸体的外周边是多边形，延伸体包括三部分；图3示出三种厚度的涂层，其中两个是由本专利技术的方法制成。参看图1和图2A，圆形光盘基底11具有中央孔14和圆形周边13。中央孔14允许基底11安装于旋转涂层缝隙5并允许制出的光盘10置于光盘播放机或录音机中心。在基底11上，已有数据读或记录层堆叠和最新光记录媒介使用的轨道结构。根据本专利技术，带有表面22的分立延伸体21中有基底11。向第一表面12和表面22提供涂层15。如，这可通过喷嘴将流体置于中央缝隙外侧实现，而基底/延伸体结合11，21以约30rpm的低速旋转，并将勺形喷嘴逐渐向外侧移动。以这种方法可用涂层15将第一表面12覆盖。延伸体21大体与基底11的周边13周向地接触。延伸体的表面22大体与光盘基底11的表本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制造具有一基底（１１）的圆形光学存储盘（１０）的方法，该基底带有第一表面（１２）和周边（１３），其中该第一表面（１２）通过施加流体，旋转该基底并将此流体固化而设置有涂层（１５），其特征在于，当将该流体施加到此第一表面（１２）时， 在分立的延伸体（２１，３１，４１）中有上述基底（１１），其具有与该基底（１１）的上述周边（１３）大体周向接触，和与该基底（１１）的上述第一表面（１２）大体平齐的表面（２２），在至少上述流体的局部固化后，上述延伸体（２１，３１，４１）和上述基底（１１）分离。

【技术特征摘要】
EP 2000-2-25 00200654.21.一种制造具有一基底(11)的圆形光学存储盘(10)的方法，该基底带有第一表面(12)和周边(13)，其中该第一表面(12)通过施加流体，旋转该基底并将此流体固化而设置有涂层(15)，其特征在于，当将该流体施加到此第一表面(12)时，在分立的延伸体(21，31，41)中有上述基底(11)，其具有与该基底(11)的上述周边(13)大体周向接触，和与该基底(11)的上述第一表面(12)大体平齐的表面(22)，在至少上述流体的局部固化后，上述延伸体(21，31，41)和上述基底(11)分离。2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，上述延伸体(21)具有一圆形的外周边(23)。3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，上述延伸体(31)具有一多边形的外周边(3...

【专利技术属性】
技术研发人员：MMJ德克雷，
申请(专利权)人：皇家菲利浦电子有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]