试写方法技术

技术编号:3048862 阅读:181 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及试写方法及信息记录装置。在本发明专利技术中,提供用于通过向记录介质注入能量形成和未记录部分不同的标记来记录信息的试写方法,以及在信息记录装置中能够正确而且在短时间内求高速记录条件下的最佳记录功率的试写方法。在2T系策略中,分别试写偶数长标记和奇数长标记求各自的最佳记录功率。因为可以提高试写精度,所以可以得到良好的记录性能。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于通过给记录介质注入能量形成与未记录部分不同的 标记来记录信息的试写方法及信息记录装置。技术背景为了在光盘上高精度记录信息要进行试写。所谓试写,是指为形成更高质 量的记录标记,根据当时的环境温度和在驱动器上搭载的激光的特性等求最佳 记录参数的的动作。DVD—RW、 DVD + RW、 BD—RE等的光盘,在记录膜 上使用称为所谓的共晶系的成分的材料。在现在正在产品化的记录装置中,通 常,在这些光盘上进行试写的场合,首先读出预先书写在光盘上的记录条件, 其后进行激光功率的调整。这里所谓的记录条件,是例如用作为大激光功率的 记录功率级(Pw)和作为中间功率的消隐功率级(Pe)、偏置功率级(Pb)表 示的激光功率设定值,或构成多脉沖波形的开始脉冲和后续的多个中间脉冲以 及结束脉冲的各脉冲宽度。在实际试写时,以这些条件为基础,采用如下方法固定在光盘上预先写 入的Pw和Pe的比,把激光功率作为参数,求记录最佳条件。这种方法称为 Optimum Power Control ( OPC )。在BD 1倍速或者DVD—RW 2.4倍速等比 较低速的记录中,通过进行只变化这样的Pw/Pe固定的激光功率的试写,可以 得到良好的记录质量。这些光盘中的高速记录重放技术的研究开发正在发展。例如,在Optical Data Storage 2003, Proceedings of SPIE Vol. 5069 ( 2003 ) , p130 (非专利文献1 ) 中描述了相当于BD6倍速记录速度的216Mbps的记录技术。伴随记录速度的 高速化,适应高速化的记录波形、所谓的2T系策略的研究也发展起来。所谓 2T系策略,是指使相邻的一对偶数长标记和奇数长标记的记录脉冲数相同的记录波形。具体说,如图2所示,例如在最短标记长是2T标记的场合,以2T 标记和3T标记发生一个矩形脉冲,在4T和5T标记中,发生开始脉冲和结束 脉沖两个脉冲。6T标记和7T标记发生开始脉冲、 一个中间脉沖和结束脉冲共 计3个脉冲。作为该2T系策略的例子,在特开平9—134525号公报(对应USP5, 723, 062 专利文献l)中,记载了在以开始脉冲和后续的若干中间脉冲以及结束脉冲组 成的多脉沖记录方式中,在记录对于记录通道时钟周期的偶数长和奇数长的任 何一方的标记长的场合,使开始脉沖和结束脉冲的脉冲宽度大体与记录通道时 钟周期相同。另外,在特开平11 — 175976号公报(对应USP6, 256, 277专利文献2 )中, 提出了组合记录波形以使多脉冲中的最短脉冲宽度比检测窗口宽度的1/2倍长 的方法。由此,因为可以充分确保记录介质的冷却时间,或者降低激光驱动电 流的频率成分,所以即使在高转速时也可以以足够的精度形成标记。再有,在特开2003—30833号公报(专利文献3 )中,说明了不仅与特开 平11 — 175976号公报一样地使中间脉冲系列的周期比记录通道时钟周期长, 而且依从先行的空白和后续的空白使开始脉冲和结束脉冲的边沿位置变化进 行记录的方法。根据本方法,因为可以极力抑制以高密度、高传输速率进行记 录时成为问题的轨道方向的热干涉引起的边沿移动,所以可以实现高精度的记 录控制。另外,在特开2001—331936号(对应US2001/053115A1,专利文献4) 中,记载了以偶数符号系列和奇数符号系列移位基准时钟,另外,关于偶数用 和奇数用的记录脉冲波形,分别用偶数用和奇数用改变开始脉冲和结束脉冲的 占空比生成所述波形。此外,在高传输速率记录时的2T系策略的记录标记形状控制效果,例如 在Optical Data Storage 2000, Proceedings of SPIE Vol, 4090 ( 2000 ) , p135 (非 专利文献2)中做了详细说明。专利文献l:特开平9—134525号专利文献2:特开平11一175976号专利文献3:特开2003—30833号专利文献4:特开2001—331936号非专利文献1: Optical Data Storage 2003, Proceedings of SPIE Vol. 5069 (2003 ) ,pl30非专利文献2: Optical Data Storage 2000, Proceedings of SPIE Vol. 4090 (2000) ,pl35在上述现有技术的试写方式、所谓的OPC方式中,使Pw/Pe固定执行激 光功率的最优化,其中求最优质量的记录条件。但是,根据本专利技术人们的研究 结果,要实现新的BD4倍速、或者DVD±RW8倍速以上的记录速度的话, 可以明白在取Pw/Pe固定的激光功率作参数的OPC方式中要得到十分良好的 标记质量很困难。其理由如下。在BD1倍速或者DVD土RW2.4倍速这样的低 速记录的场合,因为从照射上述开始脉冲到照射下一脉沖(中间脉冲或者结束 脉冲)的时间足够,所以在下次脉冲照射时,记录膜被充分冷却。但是,在高 速记录时,因为在开始脉冲照射后到下一脉冲的照射的时间变短,所以记录膜 的冷却速度相对不充分,所以存在在开始脉冲中形成的前边沿部分未充分冷却 的问题。在前边沿部分未充分冷却的状态下照射下一脉冲的话,会在前边沿部 分引起结晶化,发生边沿摇摆或者边沿移位。这等于标记质量降低,发生由于 高速化使记录性能恶化的问题。另外,伴随记录高速化,也不能无视在市售驱动器上搭载的激光特性的个 体分散。例如BD4倍速中的记录通道时钟周期T约成为3.8ns,必须以Ins以 下来控制激光。但是,因为现在的激光的上升和下降的时间为1 2ns的程度, 所以lns的波形控制接近物理界限,激光的上升、下降的个体差对记录标记的 形状有大的影响。并且,在因为光点直径在驱动器间分散等引起发光波形在驱 动器间不同的情况下,在低速记录中可由介质吸收装置的个体差的问题,在高 速记录中成为了表面化的问题。
技术实现思路
因此,本专利技术如下构成。(1)对于检测窗口宽度的自然数n倍长的标记,按照用大于等于2的整 常数除n的余数生成分类记录符号序列中的标记长的记录模式,分别进行记录 后重放,根据调制度和记录功率的关系求调制度成为0的记录功率P0,把用某常数p乘P0的值设定为各记录模式的记录功率。由此,因为对于按照余数分类的每个记录模式能够调整记录功率,所以比 把多个记录模式的记录功率全部设定为相同时更能提高记录性能,可以扩宽记 录裕度。亦即,在2T系策略的场合,成为下面这样。对于用与基准时钟周期的偶 数倍对应的长度的记录标记构成的偶数长记录模式、和用奇数倍对应的长度的 记录标记构成的奇数长记录模式,分别变化记录功率进行记录重放,根据其重 放结果,设定偶数长的最佳记录功率和奇数长的最佳记录功率。换言之,在把 一个记录标记的时间长度作为nT ( T是基准时钟周期,n是大于等于2的自然 数)、使用由L个脉冲组成的记录用激光光束形成试写用的记录波形的场合, 记录模式,对于(1 )成为nT = 2LT的标记,亦即与上述基准时钟周期的偶数 倍对应的长度的记录标记形成的偶数长记录模式,(2)成为nT = (2L+1 ) T 的标记,亦即与奇数倍对应的长度的记录标记形成的奇数长记录本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种试写方法,用于设定在光学信息记录介质上记录信息的记录条件,包括: 生成根据用大于等于2的整常数除自然数n获得的余数而被分类的记录模式,所述自然数n与窗口宽度一样是记录符号序列中的标记长度的因子; 选择记录模式中的任意的记录模式A; 设定记录功率Pw(A),所述记录功率Pw(A)是通过预定处理的所述写模式A的记录功率; 对记录模式A以记录功率Pw(A)执行试写并通过在包含Pw(A)的预定范围内改变记录功率对其他记录模式执行试写。

【技术特征摘要】
JP 2005-2-10 2005-0337711.一种试写方法,用于设定在光学信息记录介质上记录信息的记录条件,包括生成根据用大于等于2的整常数除自然数n获得的余数而被分类的记录模式,所述自然数n与窗口宽度一样是记录符号序列中的标记长度的因子;选择记录模式中的任意的记录模式A;设定记录功率Pw(A),所述记录功率Pw(A)是通过预定处理的所述写模式A的记录功率;对记录模式A以记录功率Pw(A)执行试写并通过在包含Pw(A)的预定范围内改变记录功率对其他记录模式执行试写。2. 根据权利要求1所述的试写方法,其中所述包含Pw(A)的预定范围不小于Pw(A)乘以a并且不大于Pw(A)乘 以b,其中a不小于0.8并且不大于1.0, b不小于l.O并且不大于1.2。3. 根据权利要求1所述的试写方法,所述预定处理由以下步骤组成 通过改变记录功率来记录和重放记录模式A的步骤; 基于调制度和记录功率的关系获得调制度为0时的记录功率PO(A)的步骤;以及对于所述记录模式A,将P0(A)乘以常数p的值设置为记录功率Pw(A)的 步骤。4. 根据权利要求1所述的试写方法,进一步包括 对记录功率是P(A)时的所述记录模式A计算调制度; 对记录功率是P(A)时的其他记录模式计算调制度;比较记录功率是P(A)时的记录模式A的调制度和...

【专利技术属性】
技术研发人员:牛山纯子峰邑浩行
申请(专利权)人:株式会社日立制作所
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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