小型记忆卡构造制造技术

技术编号:2940293 阅读:261 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种小型记忆卡构造,其装设于一电子装置内,其特征在于包括有:    一基板,其设有一容置区及位于该容置区两侧的第一端及第二端,该第一端设有复数个金手指,该第二端设有一拉槽,该基板插设于该电子装置内,该复数个金手指电连接该电子装置;    及至少一个记忆体晶片封装体,其设置于该基板的容置区上,并与该复数个金手指电连接。(*该技术在2013年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术为一种小型记忆卡构造,特别是指一种便于拿取的小型记忆卡,使消费者使用上更为便利。
技术介绍
图1为习用小型记忆卡的上视图,其包括有一基板10及至少一个记忆体晶片封装体12,基板10设有一容置区14及位于容置区14两侧的第一端16及第二端18,第一端设复数个金手指20及一缺角22,用以判别金手指20的方向,基板10插设于一电子装置内(图未显示),使复数个金手指20电连接该电子装置;一个记忆体晶片封装体12设置于基板10的容置区14上,并与复数个金手指20电连接。惟,上述习知小型记忆卡在使用时,是以拇指及食指夹住基板10的第二端18,将基板10的第一端16插入该电子装置内及自电子装置内拔出该记忆卡,因此,其在使用操作上较为不便。有监于此,本专利技术人乃本于精益求精、创新突破的精神,戮力于小型记忆卡的研发,而创作出本技术小型记忆卡构造,使其操作使用上更为便利。
技术实现思路
本技术的主要目的,在于提供一种小型记忆卡构造,其具有便于操作的功效,以达到使用者便于使用的目的。为达上述的目的,本技术的特征在于包括有一基板及至少一个记忆体晶片封装体,该基板设有一容置区及位于该容置区两侧的第一端及第二端,该第一端设有复数个金手指,该第二端设有一拉槽,该基板插设于一电子装置内,使该复数个金手指电连接该电子装置;及一个记忆体晶片封装体设置于该基板的容置区上,并与该复数个金手指电连接。如是,使用者在操作使用本技术的小型记忆卡时,可以手指握住该基板的第二端的拉槽,以便于小型记忆卡的拿取,在使用操作上较为便利。附图说明图1为习知小型记忆卡构造的上视图。图2为本技术小型记忆卡构造的上视图。图3为本技术小型记忆卡构造的拉槽的剖视图。基板30记忆体晶片封装体 32容置区 34第一端36第二端 38金手指40缺角42拉槽 4具体实施方式请参阅图2,为本技术小型记忆卡构造的上视图,其包括有一基板30及至少一个记忆体晶片封装体32,其中请配合参阅图3,为本技术基板的拉槽的剖视图,基板30设有一容置区34及位于容置区34两侧的第一端36及第二端38,第一端36设有复数个金手指40及一缺角42,缺角42用以判定基板30的复数个金手指40的方向位置,第二端38设有一拉槽44,本实施例中拉槽44为呈拇指形的弧形状,基板30插设于一电子装置(图位显示)内,使复数个金手指40电连接该电子装置。记忆体晶片封装体32设置于基板30的容置区34上,并与复数个金手指40电连接。如是,使用者在操作使用本技术的小型记忆卡时,可以手指握住基板30的第二端38的拉槽44,以便于小型记忆卡的拿取,在使用操作上较为便利。在较佳实施例的详细说明中所提出的具体实施例仅为了易于说明本技术的
技术实现思路
,并非将本技术狭义地限制于实施例,凡依本技术的精神及申请专利范围的情况所作种种变化实施均属本技术的范围。权利要求1.一种小型记忆卡构造,其装设于一电子装置内,其特征在于包括有一基板,其设有一容置区及位于该容置区两侧的第一端及第二端,该第一端设有复数个金手指,该第二端设有一拉槽,该基板插设于该电子装置内,该复数个金手指电连接该电子装置;及至少一个记忆体晶片封装体,其设置于该基板的容置区上,并与该复数个金手指电连接。2.如权利要求1所述的小型记忆卡构造,其特征在于该基板的第一端形成有一缺角。3.如权利要求1所述的小型记忆卡构造,其特征在于该基板的第二端的拉槽形成一弧形状。4.如权利要求3所述的小型记忆卡构造,其特征在于该基板的弧形状拉槽为拇指形状。专利摘要本技术小型记忆卡构造,其包括有一基板及至少一个记忆体晶片封装体,该基板设有一容置区及位于该容置区两侧的第一端及第二端,该第一端设有复数个金手指,该第二端设有一拉槽,该基板插设于一电子装置内,使该复数个金手指电连接该电子装置;及一个记忆体晶片封装体设置于该基板的容置区上,并与该复数个金手指电连接。如是,使用者在操作使用本技术的小型记忆卡时,可以手指握住该基板的第二端的拉槽,以便于小型记忆卡的拿取,在使用操作上较为便利。文档编号G06K19/07GK2665824SQ200320100349公开日2004年12月22日 申请日期2003年10月14日 优先权日2003年10月14日专利技术者刘裕文, 彭镇滨, 杜修文, 彭俊升, 彭镱良 申请人:胜开科技股份有限公司本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:刘裕文彭镇滨杜修文彭俊升彭镱良
申请(专利权)人:胜开科技股份有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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