在其中实现一种需要控制一个腔室内气体环境的作业的设施制造技术

本发明专利技术涉及一种装置的优化，在这个装置中进行一种需要控制一个室内的气体环境的作业，作业在存在一种能够放出排放物的气体混合物的情况下进行，优化通过在室外有一个防止空气进入室内的入口装置（５）和一个防止气体排放物排出的出口装置（８）以及一个抽吸装置（４）得到，抽吸装置（４）包括流量调节装置（４２），以便保持室内外的压差近似为零。本发明专利技术在工业上用于一种行进基质的表面处理。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

In which a facility for controlling the operation of a chamber gas environment is implemented

Optimization of the invention relates to a device, a gas environment need to control an indoor operation in this device, operation was performed in the presence of a gas mixture can emit emissions under the condition of optimization through in a device to prevent the entrance of outdoor air into the room (5) and a to prevent gas emissions exit of the device (8) and a suction device (4), a suction device (4) comprises a flow control device (42), in order to maintain the indoor pressure difference is approximately zero. The invention is used in industry for the surface treatment of a moving substrate.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种设施，在这种设施中实现一种需要控制一个腔室内气体环境的作业，特别是还涉及一种处理一个行进的基质表面，特别是一个聚合物薄膜的设施，更确切地说是为了使用一种方法，根据这种方法，使基质在一种除空气以外的气体混合物中经受除电荷。
技术介绍
特别是人们知道，可以通过在薄膜表面沉积少量氧化硅来改进薄膜，特别是聚烯烃薄膜的性质(表面能量、附着特性……)。为此，根据这些已知的方法，把聚合物材料的基质(薄膜)在一个大于10kPa的压力的介电屏障下经受除电荷，同时或者在此之后，把这样处理过的基质暴露在一种由一种活性气体混合物构成的气体中，例如含有一种可以导致形成氧化硅沉积的活性气体混合物，如一种硅烷(常常是一种卤化或不卤化的硅烃或一种烷氧基硅烷(alkoxysilane))。一般说来，在一个气体混合物中的除电荷处理一般在一个腔室内连续进行，基质行进的速度从每分钟十几米到几百米，腔室除了电极外还包括一个气体混合物注入装置和一些气体排放物抽吸装置。除电荷在位于基质的一个表面一侧的腔室电极与位于相反表面一侧的反电极之间产生。为了说明行进的聚合物表面处理技术的状态，可以参照文件EP-622474。更确切地说，要处理的基质贴靠在一个覆盖一种电介质材料的金属滚筒的圆周上，电介质材料作为接地的反电极，要处理的基质沿一个几十度的圆弧贴靠金属滚筒，例如沿滚筒圆周的一半。一个形成腔室的罩子覆盖这个圆弧长度的一部分，大约为中心部分，并且延伸到距这个圆弧足够的距离上，以便能够容纳处理所需的不同零件；滚筒的轴向长度略微大于基质的宽度，腔室在同一方向的长度一般比基质的宽度稍大。另外，在工业上，处理常常24小时连续进行，并且罩子下面的装置应该在开放系统下运行。尽管有抽吸装置和活性气体混合物的注入装置，还是不能完全阻止带到薄膜带表面的薄层空气进入到罩子下。因此处理是在一种由注入的活性气体混合物和空气组成的气体混合物中进行，而空气的比例不好控制。所用的气体混合物一般是由作为载体的氮和比例大约为几百ppm的活性气体组成的二元或三元混合物。为优化方法而进行的工作清楚地表明，混合物中每种活性气体的含量是一种需要尽可能严格控制的主要参数。另外，某些活性气体，如硅烷具有与空气强烈作用产生副产品，特别是固体和气体副产品的特性。因此需要具有一种能够很好地控制处理的气体环境的处理装置，尽可能减少进入的空气量。人们知道(例如见上面提到的欧洲专利)使用这种方法的装置，这些装置包括把活性气体混合物注入到除电荷的心脏位置的注入器和在腔室的入口和出口处的抽吸缝。注入流量和抽吸流量都经过调节，使进入的空气量最小。但是，与注入混合物中的活性气体含量相比，达到罩子下面的空气最小含量仍然较高。因此，当所需的处理水平要求气体混合物含有少量的氧化气体时，在气体混合物中加入一定量控制不好的空气(因此为氧、氧化气体)会导致处理质量不好控制。因此这种装置对活性气体混合物成分的控制可能是不足的。
技术实现思路
本专利技术的目的是克服这些缺点，更特别的是提出一种改进的上述类型的设施(在这种装置中实现一种需要控制腔室内的气体环境的作业)，并且在处理行进的基质表面的特殊情况下提出一种能够对进入和排出的气体进行控制和管理的设施，使得—阻止被带到基质表面的空气进入到腔室内；—将活性气体混合物注入到腔室内，并以优化方式用于处理本身；—收集可能的气体排放物，以便在把它们排放到空气中以前进行处理； 因此，本专利技术首先涉及一种设施，在这种设施中实现控制腔室内的气体环境所必需的作业，作业在存在一种可能释放排放物的气体混合物的情况下进行，其特征在于该设施包括—紧靠腔室的入口和出口装置，以便分别阻止空气进入腔室以及气体排放物从腔室排出；—包括一个通到腔室的管道的抽吸装置；—所述抽吸装置抽吸气体的流量调节装置，以便使腔室内与环境大气之间保持近似为零的压差。根据本专利技术，“近似为零”表示压差(正的或负的)不超过几十Pa，甚至100Pa。但是根据本专利技术，最好处于不超过50Pa，甚至低于50Pa的不同压差中。符合本专利技术的设施可以另外具有下列特征中的一个或几个—入口装置包括注入一种惰性气体在腔室的上游形成一个气体刀的装置、产生一个过压把惰性气体推离腔室，形成防止空气进入腔室的活塞的装置，以及引导空气离开腔室的装置；—出口装置包括注入一种惰性气体在腔室的下游形成一个气体刀的装置；产生一个过压把惰性气体推向槽形成阻止排放物被带向槽外的活塞的装置，和把可能从腔室出去的排放物引向腔室的装置；一所述注入惰性气体形成一个气体刀的装置包括一个在平面壁上的注气缝，注气缝通到入口装置和有关的出口装置内；—所述产生一个过压推动气体形成活塞的装置包括一些向入口装置和有关出口装置内开放的凹槽，这些凹槽形成一个迷宫；—所述引导装置包括一个通道，该通道通过一个隔板与注气装置分开，并且向入口装置或有关出口装置的内部空间开放。—所述引导装置包括一个在一个板子的表面开凿的通道，这个板子通过一个形成注入惰性气体缝隙的空间与另一个零件分开。—通道的长度与高度之间的比至少等于3，并最好至少等于6。—该设施另外包括在腔室外的侧向装置，这些侧向装置至少包括产生一个使气体离开腔室的过压的装置，形成阻止空气进入腔室内的活塞，必要时还包括注入惰性气体的装置，在腔室的侧面形成气体刀，以及把空气从腔室引开的装置。—该设施包括一个在出口装置下游的第二个抽吸装置。—该设施包括一个可以协调设施的全部和部分零件的运行的自动控制装置。—自动控制装置能够根据在腔室内的不同点进行的氧含量测量和/或根据腔室内与环境大气之间的压差测量优化注入气体的流量(涉及惰性气体或作业本身使用的气体混合物)，氧含量的测量可以评价空气的进入。—在腔室内进行的作业是在存在所述可能释放排放物的气体混合物的情况下通过除电荷对行进的基质表面进行处理的作业。—在腔室内进行的作业是一种在存在一种惰性气体混合物的情况下通过紫外线(“UV Curing”)或电子束(“Electron Beam”)进行一种网格涂层(例如一种油墨或油漆)的作业。根据本专利技术，“气体刀”的概念应该延伸为覆盖气体注入的各种几何形状，因此不一定是非常狭窄的和特别高速的注入(如有时在某些文献中在“刀”的表达后看到的)。考察本专利技术的实际应用之一就可以更好地了解本专利技术的所有特征和优点，这个实际应用是在存在可能释放排放物的气体混合物的情况下通过除电荷对行进的基质表面进行处理的设施。实际上，本专利技术还涉及一种在存在可能放出排放物的气体混合物的情况下通过除电荷对行进的基质表面进行处理的设施，该设施包括一个基质支座，基质贴靠在该支座的一个区域上，还包括一些在形成反电极的支座附近的电极，该设施的特征在于还包括—一个邻近支座并至少在基质宽度上的腔室，腔室至少沿所述区域的一部分，并且电极位于腔室中；—一些紧靠腔室的入口和出口装置，以便分别阻止空气进入腔室内以及气体排放物从腔室排出；—一个包括一个通向腔室的管道的抽吸装置；—所述抽吸装置抽吸气体的流量调节装置，以便使腔室内与环境大气之间保持近似为零的压差。由于这种设计，腔室与外界足够隔绝，同时又保持开放系统的运行，使该设施能够处理一种高速行进的基质。另外，本专利技术所述的表面处理设施还具有以下特征中的一个或几个—该设施本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种在其中实现一种需要控制一个腔室（３）内的气体环境的作业的设施，所述作业是在存在一种可清理排放物的气体混合物的情况下进行，所述设施的特征在于包括：－一些紧靠所述腔室的入口和出口装置（５、８），用于分别防止空气进入所述腔室内和气体排 放物从所述腔室排出；－一个包括一个通到腔室内的管道的抽吸装置（４）；－所述抽吸装置（４）抽吸气体的流量调节装置（４２），用于使所述腔室内与环境大气之间的压差保持近似为零。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：帕纳约蒂斯科科利奥，弗朗索瓦克雷，沃尔夫冈德林，弗兰克弗尔斯特，让路易热洛，贝恩德马腾斯，斯特凡娜梅朗，埃卡德普林茨，让伊夫托内利耶，阿兰维莱姆特，
申请(专利权)人：液体空气乔治洛德方法利用和研究的具有监督和管理委员会的有限公，索福塔尔电子埃里克布卢门菲尔德两合公司，
类型：发明
国别省市：FR[法国]