供应恒浓度臭氧化水的方法技术

本发明专利技术提供一种装置，该装置可保持臭氧化水的浓度且免受所用臭氧化水量波动的影响。还提供一种用以供应恒浓度臭氧化水的方法，该方法包括采用臭氧化水制造装置及于该装置以外的地点使用该臭氧化水的系统，于该臭氧化水制造装置及臭氧化水使用地点之间配置循环管线，在该循环管线内循环臭氧化水，以使臭氧化水制造装置出口处流速恒定，监控该出口附近的臭氧浓度，依据监控结果调节供给臭氧化水制造装置的臭氧量及／或臭氧气体浓度，进一步监控臭氧化水使用地点的臭氧化水量，并依据该监控结果控制待制造的臭氧化水量。即使在使用地点暂时中断使用臭氧化水时，该臭氧化水仍可使用不必丢弃。可制造及供应恒浓度的臭氧化水并对臭氧进行有效利用。

Method for supplying constant concentration ozone water

The present invention provides a device that maintains the concentration of ozonated water and is free of fluctuations in the amount of ozonation water used. A method for supplying constant concentration ozonated water is provided, the method includes system using ozone water producing device and the device outside the location using the ozone water, the ozone water producing device and ozone water use location allocation between circulation line, circulating ozonated water in the circulating pipeline and to make the ozonated water producing device at the outlet of the flow rate is constant, the ozone concentration monitoring near the exit, according to monitoring results of adjusting the amount of ozone ozone water supply device manufacturing and / or ozone concentration, ozone water further monitoring ozone water in place of use, and on the basis of the control of the amount of the ozonated water to be produced the results of monitoring. The ozone water can be used without discarding the ozone water even when the temporary use of ozone water is interrupted at the place of use. Ozone can be produced and supplied at constant concentrations and used efficiently for ozone.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术的内容是在用臭氧化水进行清洁和表面处理时，即使使用地点所用臭氧化水数量有所变化时，仍能供应臭氧化水而保持臭氧浓度恒定不变的方法。具体而言，当臭氧化水用于制造半导体方法中的操作时(例如自基片上剥除抗蚀剂以处理基片或移除抗蚀剂后清洁基片并进行表面处理、清洁及消毒普通树脂和金属的操作)，本专利技术是依照使用地点所用臭氧化水数量的起伏波动来制造和供应臭氧化水，更具体一点讲，本专利技术涉及一种供应臭氧化水的方法，该臭氧化水是在处理半导体基片和液晶基片时用以移除抗蚀剂碎屑和有机污迹，移除不洁金属和外来物质及移除来自制造半导体和液晶体所用的、且由石英板所制成的掩膜材料中的有机和无机灰尘及外来物质。举例而言，在作树脂及金属的臭氧处理时，本专利技术的方法可用于通过表面氧化作用进行的处理、清洁，及对树脂进行消毒，自金属表面移除有机物质及通过氧化作用处理金属。
技术介绍
由于臭氧化水强烈的氧化力及臭氧对环境的自行分解特性所施加的负荷低，臭氧化水在各种不同领域的用途不断增加。利用臭氧化水的处理工作可通过不同的方法实施，例如将臭氧化水制造装置所供应的臭氧化水直接送入容有待处理物品的处理塔或使该臭氧化水直接流过待处理物品上。尤其，在利用臭氧化水强烈氧化力的处理工作中，温度、处理时间、臭氧化水的浓度、臭氧化水的流速、及处理方法成为获得稳定处理品质的重要因素。虽然借助于处理装置内的控制可使温度和处理时间达到预定条件，但臭氧化水的浓度及臭氧化水的流速则视臭氧化水制造装置的产能而定。水内的臭氧显示出高度自行分解特性。尤其，当臭氧化水的高浓度超过10ppm时，该处理装置将显著降低该浓度，若利用臭氧化水处理半导体及树脂，为稳定制得超过一定水准的产品，臭氧化水的浓度必须维持恒定不变。因此，即使偶而在使用地点使用臭氧化水，为维持臭氧化水的浓度恒定不变，即使在不使用臭氧化水的时段期间也不中断臭氧化水而使该臭氧化水流经使用地点而进入废弃物槽内。最近，因臭氧化水的利用有增加的趋势，在不同使用地点分别配置若干臭氧化水制造装置的传统实施场所，已经尝试将具有大型臭氧化水制造装置的系统配置在中央位置，并将所制臭氧化水送至离开制造装置不同距离的不同使用地点的可行性。在此情况下，试图简单地输送臭氧化水或将其任意地循环将造成臭氧及进给水超量使用及臭氧化水制造设备的超容量设计。当所用臭氧化水的浓度增加时，这些不良影响将随之恶化。专利文献1曾揭示一种方法，该方法旨在借形成一线路系统并依照臭氧分解速率估计输送经过一段距离期间臭氧的分解数量来维持长距离内的浓度，而无需使用臭氧浓度计。专利文献2曾揭示一臭氧化水供应装置(类似于循环系统内，该装置将在该距离上的浓度降低纳入考虑之列)且曾述及在使用地点使用经稀释的高浓度臭氧化水。(专利文献1)日本专利特开平7-277705号公报(第2页及图1)。(专利文献2)日本专利特许第3321557号公报(第1至3页)。因这些现有技术所涵盖的臭氧化水浓度范围最多不超过约20ppm而且因所用水的纯度似乎不能达到半导体现用超纯水纯度的标准，所以可推断臭氧的减少量并不太大，即使偶尔使用臭氧化水，无需特别严格控制即可达到某种程度的仿效功能。若随着时间流逝臭氧化水浓度的降低很小，为回收臭氧化水，臭氧化水的循环是一个有效措施。若降低速率如同臭氧在超纯水中一样大，循环回流内臭氧的减少则受使用地点所用臭氧化水数量起伏波动的影响极大。所以，仅靠循环作用，很难了解所用臭氧化水的数量及回流中的臭氧浓度，而且也很难实现浓度恒定不变的臭氧化水的恒定供应。若在使用地点所用臭氧化水的数量恒定不变，利用专利文献1或2所教示的方法，可控制臭氧浓度以使其在远处仍可保持恒定不变。再者，即使偶尔使用，与所用臭氧化水数量的最大值比较，通过设定臭氧化水循环流速在一足够大的值也可将回流内臭氧浓度抑制至一很小的数量。在制造一工厂装置时，考虑到需要降低成本，值得称赞的是，将臭氧化水循环流速设定在一适当值以适合最大使用量。若使用地点的使用是间歇的，回流内臭氧浓度将趋向于随使用数量成比例地大幅起伏波动。在一普通工厂装置内形成一循环管线时，通常是安装回流储槽，接收其中所供应的水，及随后供应水至目标工厂装置，以便提高操作稳定性。此处为控制所供应的水，普遍采用将储槽内液面加以固定的方法。若现在的系统拟采用该方法，待供应至臭氧化水制造装置的臭氧气体需要同时制造及供应与使用地点所用臭氧化水数量相同的臭氧气体(即待消耗的臭氧数量)。臭氧气体发生装置的成本占臭氧化水制造装置制造成本的一大部分。为作为整体经济地制造该系统，值得称赞的做法是降低臭氧发生装置的成本至充分可能的程度并以小规模完成该装置。供应恒浓度臭氧化水要考虑到许多上述的因素。这些因素可归因于这样的事实臭氧化水以极高速率分解及臭氧气体发生装置的费用占整个系统大部分花费。因此，人们普遍认为需要开发一种能有效供应臭氧化水以满足各种需要的方法。
技术实现思路
本专利技术的诸专利技术人开发出一种借填充塔系统制造高浓度臭氧化水的装置，其中，如日本专利特开2000-167366号公报中所揭示的那样，于填充塔的上部备有一水进口及一废气出口，于该填充塔的下部备有一臭氧气体入口及一臭氧化水排放口，及于该塔的中部备有两个或更多个用一气体回流防止板分隔的填充床体，以建立水与臭氧气体的逆流接触。通过该装置制得高浓度臭氧化水，并且本专利技术人继续辛勤研究有关臭氧在该水中的性状及该臭氧化水的可用性。他们发现该臭氧化水中的臭氧以高速分解，当将臭氧化水静置时，臭氧浓度极易降低，而且为供应恒浓度臭氧化水，需避免停顿该装置，即使臭氧化水的使用中断，该装置的操作仍然断续进行。他们进一步发现在臭氧化水无用时段期间所制臭氧化水在简单储存时浓度会降低而且对所需臭氧化水浓度不能轻易地加以利用。在处理臭氧化水时为获得稳定效果，该装置必须保持一高臭氧化水浓度而且避免受所用臭氧化水数量起伏波动的影响。该装置的成本必须降至可能最低。就此种情况而言，本专利技术旨在解决以上所列举的问题。本专利技术提供一种，其特征为利用一通过含臭氧的气体与水的接触以制造臭氧化水的装置及一于该装置以外的地点使用该装置所制臭氧化水的系统，于臭氧化水制造装置及使用臭氧化水处附近之间配置一臭氧化水循环管线，使该循环管线内部适当循环臭氧化水，以便臭氧化水制造装置出口处的流速可恒定地固定，监控该出口附近臭氧化水的臭氧浓度，依据监控结果调节供给臭氧化水制造装置的臭氧量及/或臭氧气体浓度，进一步监控使用臭氧化水处所用的臭氧化水量，并依据该监控结果控制待制造的臭氧化水量。再者，本专利技术提供一种，其特征为经加以修改后包括一方法，该方法是采用一通过含臭氧的气体与水的接触以制造臭氧化水的装置及一于该装置以外的地点使用该装置所制臭氧化水的系统，于该臭氧化水制造装置内或该臭氧化水制造装置与使用臭氧化水处之间配置一储槽，于臭氧化水制造装置、储槽、及使用臭氧化水处附近之间配置一臭氧化水循环管线，使该循环管线内部适当循环臭氧化水，以便臭氧化水制造装置出口处的流速可恒定地固定，监控该出口附近臭氧化水的臭氧浓度，依据监控结果调节供给到臭氧化水制造装置的臭氧量及/或臭氧气体浓度，缓和由所用臭氧化水量的变化对臭氧化水制造装置所施负荷的变化。上述方法可在臭氧化水回流管线内借监控使本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种供应恒浓度臭氧化水的方法，其特征为：利用一通过使含臭氧的气体与水接触来制造臭氧化水的装置及一于该装置以外之处使用该装置所制臭氧化水的系统，于臭氧化水制造装置及使用臭氧化水处所附近之间配置一臭氧化水循环管线，使该循环管线内部适当循环臭氧化水，以使臭氧化水制造装置出口处的流速恒定，监控该出口附近臭氧化水的臭氧浓度，依据监控结果调节供给臭氧化水制造装置的臭氧量和／或臭氧气体浓度，进一步监控使用臭氧化水处所使用的臭氧化水量，并依据该监控结果控制待制造的臭氧化水量。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：榛原照男，上村贤一，安达太起夫，下井洋一，
申请(专利权)人：硅电子股份公司，
类型：发明
国别省市：DE[德国]