单基光敏成像体系制造技术

技术编号:2741495 阅读:196 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术提供了一种自含式光敏材料,包括:载体;在载体上的成像层,所述成像层包含显影剂材料和多个包封有光敏组合物和色料前体的光敏微囊;和在成像层上的保护涂层,所述保护涂层包括水溶性或水分散性树脂的固化膜,其中,通过以成像方式将成像层暴露于光化辐射并使微囊破裂,色料前体从微囊中释放并与显影剂材料反应形成彩色图像。(*该技术在2021年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及美国专利4399209和4440846中所述种类的光敏成像体系的改进,其中光敏成像体系包括保护涂层。采用微囊包封辐射敏感组合物的成像体系是普通转让的美国专利4399209、4416966、4440846、4766050、5783353、6030740、6037094和6080520的主题。这些成像体系的特征在于将包括在内相中包含光可硬化组合物的微囊层的成像片材以成像方式暴露于光化辐射。在最典型的实施方案中,光可硬化组合物是一种包括多烯属不饱和化合物和光引发剂的光可聚合组合物且成色剂被光可聚合组合物包封。光化辐射曝光能够硬化微囊的内相。曝光之后,成像片材通过在显影剂的存在下经受均匀破裂力而显影。其中显影剂材料涂覆在单独基材上作为单独显影剂或复制片材的图像转移体系公开于普通转让的美国专利4399209。其中包封的成色剂和显影剂材料存在于一层或两个相互作用层中的自含式成像体系公开于普通转让的美国专利4440846。具有不透明载体的自含式成像体系公开于普通转让的美国专利6080520。双面成像材料公开于普通转让的美国专利6030740。普通转让的美国专利5783353公开了一种自含式成像体系,其中成像层密封在两个载体之间以形成一个整体单元。该密封形式的优点在于它能够降低氧透过并提高介质的稳定性尽管该密封形式能提高介质稳定性,但成像层和载体之间使用的某些粘合剂可造成成像层的脱色。按照本专利技术,提供了一种自含式光敏材料,包括光敏微囊和显影剂在载体上的成像层和在成像层上的保护涂层。包含水溶性或水分散性树脂的保护涂层可赋予成像介质以耐刮性和耐水性。该保护涂层也可包括交联剂。在本专利技术的另一实施方案,自含式光敏材料包括载体、在载体上的成像层、和在成像层上的保护涂层,其中成像层包括一层光敏微囊、和在与微囊相同或不同层中的显影剂。在本专利技术的一个更特殊的实施方案中,该保护涂层包含丙烯酸系胶乳和多醛交联剂。在本专利技术的另一实施方案中,不溶粘料存在于至少一成像层和保护涂层中。用于本专利技术的不溶粘料在各种储存条件下提高光敏材料的稳定性。尤其是,不溶粘料能够提高成像介质的湿度稳定性。附图说明图1是本专利技术成像体系的横截面视图。图2是在曝光和微囊破裂之后的图1的横截面视图。美国专利4399209、4440846、5783353、6030740、6037094和6080520在此作为参考并入本专利技术,但不要与本文的教导矛盾。本专利技术的改进成像体系可具体为一种自含式复制片材,其中光敏微囊和显影剂材料共沉积在一层或两相互作用层中,例如描述于美国专利5783353。本专利技术的成像体系还具体为一种双面自含式体系,其中微囊和显影剂处于刚才在不透明载体的双面时描述的一层或单独层中。每一种体系可以按照如上所述的方法通过照相控制显色材料与显影剂之间的接触来进行操作。在自含式成像体系中,在胶囊破裂之后,显色材料和显影剂能够在未曝光区域中反应形成一种可见图像可见图像在曝光和胶囊破裂之后随着显色材料从微囊中渗出而逐步显影。在最典型的实施方案中,胶囊破裂通过使用压力辊或辊球将压力施加到成像片材上来进行。为了记录图像成像材料可用LED印刷头或LCD设备进行扫描并通过将压力施用到该单元上而显影。该介质可使用一种描述于美国专利5550627的装有LED/显影剂头的印刷机而成像。按照本专利技术,光敏材料包括在成像层上的保护涂层。该涂层作为溶液或分散体直接施用到成像层上,然后干燥或固化形成保护涂层。该保护涂层具有许多与公开于美国专利5783353的密封自含式成像介质中的第二载体相同的作用。尤其是,保护涂层赋予成像介质以耐水性和耐刮性。另外,避免在密封于双面上的成像介质中将粘合剂用于第二载体能够提高成像的湿度稳定性。本专利技术一个实施方案的保护涂层通常包含水溶性或水分散性树脂和交联剂。在本专利技术的一个特殊实施方案中,保护涂层包含丙烯酸系胶乳和多醛交联剂如乙二醛。按照本专利技术的另一实施方案,不溶粘料处于至少一成像和保护涂层中。该不溶粘料进一步提高了成像介质的湿度稳定性。尽管不愿受限,但申请人相信,不溶粘料通过与用于成像层和保护涂层中的粘结剂体系中的活性基团反应而提高湿度稳定性。可用于本专利技术保护涂层的树脂包括具有成膜性能的那些。优选地,该树脂是一种水溶性树脂或分散在水中的胶乳。如果干燥或固化成膜,该树脂应该是基本上透明的并在宽温度范围内保持透明而不会浑浊或发黄。该树脂膜还应该赋予保护涂层以耐刮性、耐水性、光泽和耐久性。可用于本专利技术的水溶性树脂的例子包括天然聚合物(如,藻酸化合物、纤维素衍生物、酪蛋白、明胶、等)、聚乙烯基化合物(如,聚乙烯醇、由甲硅烷醇改性的聚乙烯醇、由羧酸改性的聚乙烯醇、等)、聚丙烯酰胺、聚丙烯酸、乙烯基吡咯烷酮-马来酸共聚物、等。水分散性树脂的例子包括丙烯酸系胶乳(如,丙烯酸酯、改性丙烯酸酯、丙烯酸酯共聚物、改性丙烯酸酯共聚物)和其它的聚合物胶乳(如,苯乙烯-丁二烯共聚物、苯乙烯-马来酸酐共聚物、丁二烯-甲基丙烯酸酯共聚物、乙酸乙烯酯-氯乙烯-乙烯共聚物、偏二氯乙烯-丙烯腈共聚物、等)。在一个实施方案中,用于保护涂层的粘结剂是一种丙烯酸系胶乳。丙烯酸系胶乳的例子包括(但不限于)丙烯酸酯、改性丙烯酸酯、丙烯酸酯共聚物、和改性丙烯酸酯共聚物。特别优选的丙烯酸系胶乳是得自Nippon Shokubai的SA-532。该粘结剂的用量通常是基于保护涂层总固体含量的约50-90%重量,优选约60-80%重量。交联剂可根据所用聚合物的种类加入保护涂层组合物中,以保证保护涂层具有所需的性能,即,耐水性、耐刮性和光泽。优选用于保护涂层的交联剂的例子包括(但不限于)多价醛化合物如乙二醛、戊二醛、和保留自由醛基的那些化合物的衍生物。乙二醛是优选的多醛。其它可用于本专利技术的交联剂包括二异氰酸酯化合物、环氧化合物、二亚乙基亚胺化合物、二乙烯基化合物(如,二乙烯基苯)、多元醇的甲基丙烯酸(或丙烯酸)酯(如,TMPTA)、烯丙基缩水甘油醚、多元醇的二环氧化物、甲基丙烯酸酐、N-羟甲基丙烯酰胺、有机过氧化物、二胺化合物、二-2-恶唑啉化合物、具有-2恶唑啉基团的聚合物和具有碳二亚胺基团的化合物。交联剂的存在量通常为基于保护涂层总固体含量的约2-20%,优选约4-10%。保护涂层还可包括其它的附加组分如表面活性剂、UV吸收化合物、光稳定剂、颜料、消光剂、填料等。包括润湿剂之类的表面活性剂能够使涂料水溶液在光敏层的表面上均匀铺展并得到光滑的涂层。一般来说,润湿剂在涂料溶液中的量应该为涂料溶液的约1-10%重量,更优选约4-8%。润湿剂的例子包括二烷基磺基琥珀酸钠盐和阴离子氟烷基型表面活性剂。这些表面活性剂可分别购自Kao公司(PELEX OTP)和Dainippon Ink Chemicals,Inc(Megafac F140NK)。颜料可加入保护涂层中以提高处理性能和防止粘连。颜料并不特别限定,且颜料的例子可包括无机颜料如碳酸钙、氧化锌、二氧化钛、二氧化硅、氢氧化铝、硫酸钡、硫酸锌、滑石、高岭土、粘土和胶态硅石、和有机颜料如苯乙烯微球、尼龙粉末、聚乙烯粉末、脲醛树脂填料和原淀粉颗粒。胶态硅石是优选的颜料且可以商品名SNOWTEX购自Nissan Chemicals。保护涂层还可包括能够本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种自含式光敏材料,包括:载体;在载体上的成像层,所述成像层包含显影剂材料和多个包封有光敏组合物和色料前体的光敏微囊;和在成像层上的保护涂层,所述保护涂层包括水溶性或水分散性树脂的固化膜,其中,通过以成像方式将成像层暴露于光 化辐射并使微囊破裂,色料前体从微囊中释放并与显影剂材料反应形成彩色图像。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员:内堀孝博樋口徹也
申请(专利权)人:塞科拉系统株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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