正下式背光装置制造方法及图纸

通过研究正下式背光装置的设计，提供一种正下式背光装置，其能够在维持高的光束有效利用率的同时抑制发光面的周期性的辉度不匀，从而实现了薄型和高的辉度均匀度高。该正下式背光装置具备：并列配置的多条线状光源、反射板、以及光扩散板，其中，在光扩散板的至少一个主面上具有剖面为锯齿状的棱镜条列，当将该光扩散板的棱镜条列的顶角设为ｙ（度）、将邻接的线状光源中心间的距离设为ａ（ｍｍ）、将线状光源的中心与光扩散板的光源侧的表面的距离设为ｂ（ｍｍ）时，８０×（ｂ／ａ）＋１５＜ｙ＜１８０×（ｂ／ａ）＋７０的关系成立。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
一种正下式背光装置，其按照反射板、线状光源、光扩散板的顺序具备：并列配置的多条线状光源、反射来自线状光源的光的反射板、以及将来自线状光源的直射光和来自反射板的反射光扩散照射的光扩散板，其特征在于，该光扩散板在其至少一个主面上具有剖面 为锯齿状的棱镜条列（１），当将该光扩散板的棱镜条列（１）的顶角设为ｙ（度）、将邻接的线状光源中心间的距离设为ａ（ｍｍ）、将线状光源的中心与光扩散板的光源侧的表面的距离设为ｂ（ｍｍ）时，８０×（ｂ／ａ）＋１５＜ｙ＜１８０×（ｂ／ａ）＋７０的关系成立。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：草野贤次，林昌彦，塚田启介，高桥靖典，
申请(专利权)人：日本瑞翁株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]