确定基底的特性制造技术

描述了一种方法，其中获得从基底反射的激光图案的反射。可以从基底获得漫射光的反射。可以从反射的激光图案确定与基底相关的第一参数。可以从反射的漫射光确定与基底相关的第二参数，并且可以从第一和第二参数确定基底的特性。还公开了一种打印装置和机器可读介质。

Determining the characteristics of the basement

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】确定基底的特性
技术介绍
打印装置，诸如工业打印中使用的打印装置，以连续循环处理大型打印作业并以堆叠输出经打印的介质。这样的打印循环的连续性与堆叠的输出相结合意味着通常不可能手动检查单独的经打印的件的打印质量。附图说明现在将参考附图通过非限制性示例的方式来描述各示例，其中：图1是根据示例的用于打印的装置的示例的简化示意图；图2是确定基底的特性的方法的示例的流程图；图3是确定基底的特性的方法的另外的示例的流程图；图4是确定基底的特性的方法的另外的示例的流程图；图5是确定基底的特性的方法的另外的示例的流程图。图6是确定基底的特性的方法的另外的示例的流程图；图7是确定基底的特性的方法的另外的示例的流程图；图8是确定基底的特性的方法的另外的示例的流程图；图9是确定基底的特性的方法的另外的示例的流程图；和图10是根据示例的机器可读介质和处理器的简化示意图。具体实施方式根据一些示例，如图1中示意性示出打印装置2。打印装置2可包括激光源4、漫射光源6、图像捕获设备8和处理电路10。激光源4可以将激光引导到可打印介质上。漫射光源6可以将漫射光引导到可打印介质上。图像捕获设备8可操作成：i)检测从可打印介质反射的激光，和ii)检测从可打印介质反射的漫射光。这样，激光源4和漫射光源6分别将激光和漫射光引导到可打印介质上，并且图像捕获设备8用于检测从可打印介质的表面反射的激光和/或漫射光。处理电路10可以从反射的激光确定与可打印介质相关的第一参数。处理电路10可以从反射的漫射光确定与可打印介质相关的第二参数。处理电路10可以使用第一和第二参数来确定可打印介质的特性。以这种方式，可以使用从反射的激光得到的参数和从反射的漫射光得到的参数来确定可打印介质的特性。结果，例如，如果装置仅使用从激光反射得到的参数或者仅使用从漫射光源得到的参数，那么，图1中的装置能够比可能的方式更精确地计算可打印介质的特性。在一些示例中，打印装置2是喷墨打印机、静电打印机、液体静电打印机(LEP)、平版打印机、柔版打印机、凹版打印机或胶版打印机。在一些示例中，打印装置2是三维打印机，例如，打印装置2可以包括以逐层的方式在构建材料床上生成三维物体的打印机。然而，这些打印装置仅仅是示例，并且打印装置也可以具有这里未列出的不同类型。可打印介质(本文中也称为“可打印基底”或“基底”)的示例包括但不限于纸、纸板、透明体和织物(例如基于纺织品的介质)。在一些示例中，漫射光源6可以发射具有特定频谱的光。在一些示例中，可以预定义特定频谱。可以任意选择特定频谱，只要该频谱可以与测量频谱进行比较即可。可以将特定频谱与如由图像捕获设备8检测到的反射的漫射光的频谱进行比较，以确定可打印介质的性质。所述性质可以包括与可打印介质的颜色相关的特性，和/或由可打印介质吸收和/或反射的在一频率范围内的光量。在一些示例中，频谱在漫射光源的寿命内是稳定的。因此，可以在漫射光源的寿命内做出可靠的比较。在一些示例中，漫射光源是CIED50光源。CIE光源是根据国际照明委员会标准化的标准照明体。D50光源发出具有相关色温为5003K的光。在一些示例中，图像捕获设备8可以是诸如RGB相机的相机(即接收光作为三个单独分量-红色、绿色和蓝色的相机)。在一些示例中，图像捕获设备8产生反射的激光和/或漫射光的图像数据。在一些示例中，图像捕获设备8可以产生像素化数据文件，其描述图像中的每个点(例如像素)处相对检测强度。图像可以是标准化格式的，例如.jpg或.png格式的。在一些示例中，处理电路10可以控制激光源4和漫射光源6，使得在第一时段期间，由激光源4将激光引导到基底上，而在第二时段期间，由漫射光源6将漫射光引导到基底上。因此，可以使激光源4和漫射光源6交替，以便单独地获得反射的激光图案和反射的漫射光。第一时段可以与第二时段不同。在一些示例中，可以对图像捕获设备8的光学器件做出调整，以便优化反射光(激光或漫射)的检测，以确保检测到的反射适于用于计算第一和第二参数。例如，图像捕获设备可以聚焦在可打印介质的不同部分(例如，可打印介质的表面、边缘或打印区域)上以用于不同的测量，和/或可以根据用于不同测量的分辨率来调整图像捕获设备的聚焦。在一些示例中，不同的焦距分别用于检测反射的激光和反射的漫射光。在一些示例中，图像捕获设备8可以被设置成第一焦距以对反射的激光进行成像，并且被设置成第二焦距以对反射的漫射光进行成像。第一和第二焦距可以不同。在其中激光源4和漫射光源6交替地将激光和漫射光分别引导到可打印介质上的示例中，图像捕获设备8可以相应地在第一和第二焦距之间交替，以便对反射的激光和反射的漫射光成像。激光源4可以以一个角度被引导到可打印介质上。例如，激光源4可以相对于可打印介质的表面以约45度的角度照射在可打印介质。在一些示例中，使用0/45的几何度。在一些示例中，图像捕获设备8被定位成使得当激光源4被引导到可打印介质上时，从可打印介质的表面反射的激光进入图像捕获设备8的透镜。图2是确定基底的特性的方法20的示例的流程图。在一些示例中，方法20由诸如图1中所示的打印装置2的装置执行，并且如上文所描述的那样。在其他一些示例中，方法的部分可以远程执行，例如，在远程服务器或在与打印机分离的处理器上执行。在一些示例中，在第一方框21中，方法20包括从基底获得激光图案的反射。第二方框22包括从基底获得漫射光的反射。第三方框23包括使用处理器从反射的激光图案确定与基底相关的第一参数。第四方框24包括使用处理器从反射的漫射光确定与基底相关的第二参数。第五方框25包括使用处理器从第一和第二参数确定基底的特性。在一些示例中，单个处理器或处理设备可用于执行多个方框的处理。在其他示例中，每个方框可以由单独的处理设备执行。如上所指出的，基底的示例包括但不限于纸、纸板、透明体和织物(例如基于纺织品的介质)。激光是准直的，并且因而激光从基底表面的任何散射都可能是由激光从其反射的表面的结构引起的。因此，这可以用于探测基底的表面特征。因此，在一些示例中，第一参数涉及基底的结构性质。例如，第一参数可以涉及与基底相关联的几何性质。换句话说，第一参数可以与基底的表面特征的形状相关。例如，第一参数可以是基底的表面图案、基底的厚度、由于基底表面的轮廓而导致的反射的激光的散射的量度、基底的表面的粗糙度的量度或基底制造方法的表面特征特性的量度。在一些示例中，通过将光引导穿过基底的边缘部分(例如在侧面或端部)并测量边缘轮廓的深度来测量可打印介质的厚度。在一些示例中，漫射光的反射可以用于检测基底的颜色。如上所述，如果漫射光具有特定的频率分布，则特定频率分布可以与从基底反射的光的频率分布进行比较以便确定基底的颜色(和/或如下面将更详细描述的施加到基底表面的打印剂的颜色)。因此，在一些示例中，第二参数可以涉及基底的颜色。图3是确定基底的特性的方法30的另外的示例的流程图。方法30可以包括图2的方法20中的方框。在一些示例中，方法30可以包括在方框31处使用反射的漫射光使用处理器来确定与基底相关联的LAB颜色空间矢量。LAB颜色空间矢量是具有三个维度——表示亮度的“L”以及分别描述光的绿-红分量和蓝-黄分量的a和b——的矢量，如在标准CIELAB76中所定本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种方法，包括：从基底获得激光图案的反射；从基底获得漫射光的反射；使用处理器从反射的激光图案确定与基底相关的第一参数；使用处理器从反射的漫射光确定与基底相关的第二参数；和使用处理器从第一和第二参数确定基底的特性。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种方法，包括：从基底获得激光图案的反射；从基底获得漫射光的反射；使用处理器从反射的激光图案确定与基底相关的第一参数；使用处理器从反射的漫射光确定与基底相关的第二参数；和使用处理器从第一和第二参数确定基底的特性。2.根据权利要求1所述的方法，其中第一参数涉及基底的结构性质。3.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一参数包括以下之一：基底厚度；由于在基底的表面的轮廓而引起的反射的激光的散射的量度；基底表面的粗糙度的量度；和制造基底的方法的表面特征特性的量度。4.根据权利要求1所述的方法，其中第二参数涉及基底的颜色。5.根据权利要求1所述的方法，包括：使用处理器确定与基底相关联的LAB颜色空间矢量；和使用处理器从LAB颜色空间矢量确定基底的特性。6.根据权利要求1所述的方法，其中基底的特性包括基底类型。7.根据权利要求6所述的方法，包括：在质量控制过程中使用所确定的基底类型，所述使用包括：确定基底类型是否与打印作业简档中的基底类型匹配；和响应于确定基底类型与打印作业简档中的基底类型不匹配而执行动作。8.根据权利要求1所述的方法，包括：使用处理器，使用从机器学习过程生成的模型来确定基底的特性。9.根据权利要求8所述的方法，其中第一和第二参数是对机器学习过程的输入。10.根据权利要求1所述的方法，包括：从反射的激光图案检测基底中的歪斜、折痕...

【专利技术属性】
技术研发人员：P·莫罗维奇，J·莫罗维奇，H·戈麦斯米娜诺，M·卡萨尔达利加阿尔比苏，J·J·科尔西克卢纳，
申请(专利权)人：惠普发展公司，有限责任合伙企业，
类型：发明
国别省市：美国,US