【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】涂覆的窗玻璃本专利技术涉及涂覆的窗玻璃、所述窗玻璃的制造方法和所述窗玻璃的用途。涂覆的窗玻璃用于许多领域中,例如用于建筑、汽车和技术应用中。这种窗玻璃可以表现出低发射率和/或阳光控制的有利特性,这能够改善通过窗玻璃的热损失和/或增益的调节。在一些情况下,诸如对于商业制冷应用(例如冷冻柜盖、冰淇淋柜台前部和熟食柜台前部),可能需要对窗玻璃进行热弯曲和/或钢化以获得所需产品。然而,在某些条件下,这些弯曲和/或钢化过程可能导致涂层的叠层内的后续粘合失效。US2015146286(A1)描述了一种低辐射涂层,其利用介电阻挡层来调节在热处理时氧到含有透明导电氧化物(TCO)的下层功能层的扩散。据说,通过避免功能层的过高氧含量(其导致明显损伤,如功能层中的裂缝),涂层的叠层表现出改善的可弯曲性。然而,希望提供一种低辐射(low-e)涂覆的窗玻璃,其在热弯曲和/或钢化操作时表现出涂层的叠层内粘合失效的发生率降低。根据本专利技术的第一方面,提供了一种涂覆的窗玻璃,其依次包含至少以下层:透明玻璃基材,基于金属氧化物的层和/或基于准金属氧化物的层,和另外层,其中所述基于金属氧化物的层或所述基于准金属氧化物的层与所述透明玻璃基材相邻,其中与所述透明玻璃基材相邻的所述层包含当按照ISO25178-2:2012测试时,其涂覆之前的表面算术平均高度值Sa为至少4.0nm的表面,并且其中当按照ASTMD1003-13测试时,涂覆的窗玻璃表现出至少0.47%的平均雾度值。令人惊奇地,已经发现在与已知的涂覆的窗玻璃相比时,根据第一方面的涂覆的窗玻璃在热弯曲和/或钢化操作时表现出涂层内的粘合失 ...
【技术保护点】
1.一种涂覆的窗玻璃,其依次包含至少以下层:透明玻璃基材,基于金属氧化物的层和/或基于准金属氧化物的层,和另外层,其中所述基于金属氧化物的层或所述基于准金属氧化物的层与所述透明玻璃基材相邻,其中与所述透明玻璃基材相邻的所述层包含当按照ISO 25178‑2:2012测试时,其涂覆之前的表面算术平均高度值Sa为至少4.0nm的表面,并且其中当按照ASTM D1003‑13测试时,涂覆的窗玻璃表现出至少0.47%的平均雾度值。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2017.02.09 GB 1702168.41.一种涂覆的窗玻璃,其依次包含至少以下层:透明玻璃基材,基于金属氧化物的层和/或基于准金属氧化物的层,和另外层,其中所述基于金属氧化物的层或所述基于准金属氧化物的层与所述透明玻璃基材相邻,其中与所述透明玻璃基材相邻的所述层包含当按照ISO25178-2:2012测试时,其涂覆之前的表面算术平均高度值Sa为至少4.0nm的表面,并且其中当按照ASTMD1003-13测试时,涂覆的窗玻璃表现出至少0.47%的平均雾度值。2.根据权利要求1所述的涂覆的窗玻璃,其中所述基于金属氧化物的层是基于SnO2、TiO2或氧化铝,优选SnO2的层,并且其中所述基于准金属氧化物的层是基于SiO2或氮氧化硅,优选SiO2的层。3.根据权利要求1或2所述的涂覆的窗玻璃,其中存在所述基于金属氧化物的层和所述基于准金属氧化物的层两者,并且其中透明玻璃基材与基于金属氧化物的层相邻,基于准金属氧化物的层与所述另外层相邻。4.根据前述权利要求中任一项所述的涂覆的窗玻璃,其中与所述透明玻璃基材相邻的所述层的至少一部分的厚度为至少35nm,优选至少36nm,更优选至少40nm,最优选至少45nm。5.根据前述权利要求中任一项所述的涂覆的窗玻璃,其中所述另外层是基于透明导电氧化物(TCO)的层,其中所述TCO是掺杂氟的氧化锡(SnO2:F),掺杂铝、镓或硼的氧化锌(ZnO:Al、ZnO:Ga、ZnO:B),掺杂锡的氧化铟(ITO),锡酸镉,ITO:ZnO,ITO:Ti,In2O3,In2O3-ZnO(IZO),In2O3:Ti,In2O3:Mo,In2O3:Ga,In2O3:W,In2O3:Zr,In2O3:Nb,In2-2xMxSnxO3,ZnO:F,Zn0.9Mg0.1O:Ga,和(Zn,Mg)O:P,ITO:Fe,SnO2:Co,In2O3:Ni,In2O3:(Sn、Ni),ZnO:Mn和ZnO:Co,优选掺杂氟的氧化锡(SnO2:F)中的一种或多种,其中In2-2xMxSnxO3中的M为Zn或Cu。6.根据前述权利要求中任一项所述的涂覆的窗玻璃,其中与所述透明玻璃基材相邻的所述层包含在涂覆之前,其表面算术平均高度值Sa为至少4.5nm,更优选至少5.0nm,甚至更优选至少5.5nm,甚至更优选至少6.0nm,最优选至少6.5nm的表面。7.根据前述权利要求中任一项所述的涂覆的窗玻璃,其中所述涂覆的窗玻璃包含最外层,其中所述最外层包含其表面算术平均高度值Sa为至少12.5nm,优选至少13.5nm,更优选至少14.5nm,甚至更优选至少15.5nm,最优选至少16.0nm,但优选至多45nm,更优选至多30nm,甚至更优选至多25nm,...
【专利技术属性】
技术研发人员:M·A·法恩沃思,G·R·尼考尔,P·A·斯金纳,P·D·沃伦,A·J·艾伯特,
申请(专利权)人:皮尔金顿集团有限公司,
类型:发明
国别省市:英国,GB
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