适用于使用在光电装置中的层系统以及用于以连续卷绕式工艺制造层系统的方法制造方法及图纸

技术编号:21958643 阅读:27 留言:0更新日期:2019-08-24 21:58
在此描述一种适用于使用在光电装置中的层系统(100)。该层系统包含柔性基板(101)、设置在柔性基板(101)上的平面化层(110)和设置在平面化层(110)上的透明导电氧化物层(120),其中平面化层(110)构造成包覆柔性基板(101)上的多个缺陷,且其中平面化层构造成共价结合到柔性基板的表面。

Layer systems for use in optoelectronic devices and methods for manufacturing layer systems with continuous winding processes

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】适用于使用在光电装置中的层系统以及用于以连续卷绕式工艺制造层系统的方法
本公开内容的实施方式涉及适用于使用在光电装置中的层系统以及用于以连续卷绕式(roll-to-roll)工艺制造这类层系统的方法。本公开内容的实施方式特别涉及包含沉积在柔性基板上的层堆叠物的层系统。更具体地说,本公开内容的实施方式涉及由连续卷绕式真空沉积工艺所制造的层系统。
技术介绍
在封装产业、半导体产业和其他产业中,对于柔性基板如塑料膜或箔的处理是有着高度需求的。处理可由以所希望的材料如金属(特别是铝)、半导体和介电材料涂布柔性基板、蚀刻和为了所希望的应用在基板上进行的其他处理行为所组成。执行这项任务的系统典型地包含处理鼓,例如圆柱形的辊,处理鼓耦接到用于传送基板的处理系统,且基板的至少一部分在处理鼓上被处理。因此,卷绕式(R2R)涂布系统能够提供高产量的系统。一种工艺,如物理气相沉积(physicalvapordeposition,PVD)工艺、化学气相沉积(chemicalvapordeposition,CVD)工艺和等离子体增强气相沉积(plasmaenhancedchemicalvapordeposition,PECVD)工艺,典型地能够用于沉积能够被涂布到柔性基板上的金属薄层。特别是,卷绕式沉积系统在显示器产业和光伏(photovoltaic,PV)产业正经历需求的强烈增加。由经涂布的柔性基板制成的产品的实例为触控面板或有机发光二极管(OLED)显示器,相较于液晶显示器(LCD),由于触控面板或有机发光二极管(OLED)显示器更快的反应时间、更大的视角、更高的对比度、更轻的重量、更低的功率和对于柔性基板的适应性,近来在显示器应用中得到显著的关注。所以多年来,光电装置如显示装置或触控面板已逐渐发展成多层的系统,其中不同的层具有不同的功能。然而,传统的多层系统的质量仍有待改良,例如是在结构稳定性和产品耐久度的方面。鉴于前述情况,存在提供克服至少部分现有技术中的问题的适用于使用在光电装置中的层系统以及用于制造这类层系统的方法的需求。
技术实现思路
鉴于上述情况,提供根据独立权利要求的层系统以及制造层系统的方法。本公开内容另外的方面、优点及特征从权利要求、说明书和附图而明朗。根据本公开内容的一方面,提供一种适用于使用在光电装置中的层系统。该层系统包含柔性基板、设置在柔性基板上的平面化层和设置在平面化层上的透明导电氧化物层。平面化层构造成包覆柔性基板上的多个缺陷。另外,平面化层构造成共价结合到柔性基板的表面。根据本公开内容的另一方面,提供一种适用于使用在光电装置中的层系统。该层系统包含柔性基板、设置在柔性基板上的平面化层和设置在平面化层上的透明导电氧化物层。平面化层构造成包覆柔性基板上的多个缺陷。另外,平面化层构造成共价结合到柔性基板的表面,并促进透明导电氧化物层与平面化层的粘附。平面化层特别是具有100nm≤TPL≤800nm的厚度TPL,并由碳氧化硅SiOxCy组成。另外,透明导电氧化物层具有5nm≤TTCO≤10nm的厚度TTCO,并由氧化硅SiOx或氧化铌NbOx组成。根据本公开内容的又一方面,提供一种光电装置,该光电装置具有根据在此所述的任何实施方式的层系统。根据本公开内容的又一方面,提供一种用于以连续卷绕式工艺制造层系统的方法。该方法包含在不破真空的情况下,提供柔性基板到至少一个第一处理区和至少一个第二处理区。另外,该方法包含在该至少一个第一处理区中,在柔性基板上沉积平面化层,使得柔性基板上的多个缺陷由平面化层包覆。此外,该方法包含在该至少一个第二处理区中,在平面化层上沉积透明导电氧化物层。沉积平面化层特别是包含在柔性基板和平面化层之间形成共价键。实施方式也涉及用于执行所公开的方法的设备,并包含用于执行各个所述的方法方面的设备部分。这些方法方面可以通过硬件部件、以适当软件编程的计算机、借助二者的任意组合或以任何其他方式执行。此外,根据本公开内容的实施方式也涉及用于操作所述设备的方法。用于操作所述设备的方法包含用于执行设备的每个功能的方法方面。附图说明为了能够理解本公开内容上述特征的细节,可以参考实施方式,得到对于简单概括于上的公开内容更详细的描述。附图涉及本公开内容的实施方式,并描述如下:图1示出根据在此所述的实施方式的层系统的示意图;图2和3示出根据在此所述的实施方式的层系统其中一部分的细节图,用以图解平面化层的功能;图4A到4C示出根据又一在此所述的实施方式的层系统的示意图;图5示出根据在此所述的实施方式的制造层系统的处理系统的示意图;图6示出具有根据在此所述的实施方式的层系统的光电装置的示意图;并且图7示出图解根据在此所述的实施方式的用于以连续卷绕式工艺制造层系统的方法的流程图。具体实施方式现在将对于各种实施方式进行详细说明,这些实施方式的一个或更多个实例分别绘示于图中。各个实例以解释的方式来提供,而非意味作为限制。例如,作为一个实施方式的一部分而被绘示或描述的特征,能够被使用于或结合任一其他实施方式,以产生再一实施方式。本公开内容意欲包含这类修改和变化。在以下对于附图的描述中,相同的参考标记指示相同或类似的部件。一般来说,只会对于个别实施方式的不同之处进行描述。除非另有明确指明,否则对于一个实施方式中的部分或方面的描述也能够应用到另一实施方式的对应部分或方面。在更详细地描述本公开内容的各种实施方式之前,先解释关于在此使用的一些术语和表达的某些情况。在本公开内容中,“层系统”应该被理解为层堆叠物。在此所述的层系统特别是能够被理解为具有不同材料组成物的至少二层的层堆叠物。在此所述的层系统特别是能够为透明的。在此使用的用词“透明”特别是能够包含具有以相对低的散射传输光的能力的结构,使得例如从中传输通过的光能够实质上以清楚的方式被看见。在本公开内容中,“柔性基板”可表征为该基板是可弯曲的。例如,柔性基板可为箔。特别是应该理解,在此所述的柔性基板,能够于在此所述的连续卷绕式工艺中加以处理,例如于在此所述的卷绕式处理系统中加以处理。在此所述的柔性基板特别是适合用于在柔性基板上制造涂层或电子装置。在此所述的柔性基板特别是能够为透明的,例如柔性基板可由透明聚合物材料制成。更具体地说,在此所述的柔性基板,可包含像以下材料这样的材料:聚对苯二甲酸乙二酯(polyethyleneterephthalate,PET)、聚碳酸酯(polycarbonate,PC)、聚乙烯(polyethylene,PE)、聚酰亚胺(polyimide,PI)、聚氨酯(polyurethane,PU)、聚(甲基丙烯酸甲酯)(poly(methacrylicacidmethylester))、三乙酰纤维素(triacetylcellulose)、三乙酸纤维素(cellulosetriacetate,TaC)、环烯烃聚合物(cycloolefinpolymer)、聚(萘二甲酸乙二酯)(poly(ethylenenaphthalate))、一或更多种金属、纸、其组合以及像以下材料这样的已被涂布的基板:硬涂布PET(HC-PET)或硬涂布TAC(HC-TAC)和类似物。在本公开内容中,“平面化层”应该被理解为构造成包覆该平面化层沉积于上的基板或层的缺本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种适用于使用在光电装置中的层系统(100),包括:柔性基板(101),平面化层(110),设置在所述柔性基板(101)上,以及透明导电氧化物层(120),设置在所述平面化层(110)上,其中所述平面化层(110)构造成包覆所述柔性基板(101)上的多个缺陷,且其中所述平面化层构造成共价结合到所述柔性基板的表面。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种适用于使用在光电装置中的层系统(100),包括:柔性基板(101),平面化层(110),设置在所述柔性基板(101)上,以及透明导电氧化物层(120),设置在所述平面化层(110)上,其中所述平面化层(110)构造成包覆所述柔性基板(101)上的多个缺陷,且其中所述平面化层构造成共价结合到所述柔性基板的表面。2.如权利要求1所述的层系统(100),其中所述平面化层(110)具有100nm≤TPL≤800nm的厚度TPL。3.如权利要求1或2所述的层系统(100),其中所述平面化层(110)的厚度TPL根据以下方程式加以选择:TPL=(1-(TTCO/hd))×100其中TTCO为所述透明导电氧化物层的厚度,且其中hd为所述基板上缺陷的高度。4.如权利要求1至3任一项所述的层系统(100),其中所述透明导电氧化物层(120)的厚度TTCO为5nm≤TTCO≤100nm。5.如权利要求1至4中任一项所述的层系统(100),其中所述平面化层(110)进一步构造成促进所述透明导电氧化物层(120)与所述平面化层(110)的粘附。6.如权利要求1至5中任一项所述的层系统(100),其中所述平面化层(110)包含碳氧化硅SiOxCy,尤其是其中所述平面化层(110)由碳氧化硅SiOxCy组成。7.如权利要求1至6中任一项所述的层系统(100),其中所述透明导电氧化物层(120)包含选自于由氧化硅SiOx、氧化铌NbOx和氧化铟锡ITO所组成的群组的至少一种材料。8.如权利要求1至7中任一项所述的层系统(100),进一步包括层堆叠物(130),所述层堆叠物(130)设置在所述平面化层(110)上,其中所述层堆叠物(130)包括NbOx的第一层(131)、SiOx的第二层(132)和ITO的第三层(133)。9.如权利要求8所述的层系统(100),其中所述第一层(131)具有5nm≤T1≤10nm的厚度T1,其中所述第二层(132)具有40nm≤T2≤80nm的厚度T2,且其中所述第三层(133)具有20nm≤T3≤60nm的厚度T3。10.如权利要求1至9中任一项所述的层系统(100),其中所述柔性基板(101)包括选自...

【专利技术属性】
技术研发人员:尼尔·莫里森乔斯·曼纽尔·迭格斯坎波海克·兰特格雷夫斯蒂芬·海因托比亚斯·斯托利
申请(专利权)人:应用材料公司
类型:发明
国别省市:美国,US

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