一种透明遮罩及其制作方法、一种车载显示设备技术

本申请公开了一种本申请所提供的透明遮罩的制作方法，通过在PMMA基材上通过磁控溅射技术设置二氧化硅过渡层，所述二氧化硅过渡层的沉积速率的范围为0.1纳米每秒至0.25纳米每秒，包括端点值；在所述二氧化硅过渡层表面垂直于所述二氧化硅过渡层延伸方向通过磁控溅射技术层叠设置多个减反单元层，得到所述透明遮罩；其中，每个所述减反单元层包括一层二氧化硅减反层及一层二氧化钛减反层，所述二氧化钛减反层位于靠近所述PMMA基材的一侧。本申请缩减了膜层的镀制周期，降低了镀制能耗；并使所述透明遮罩在进行后续处理时不会因为应力释放导致膜层微结构发生改变进面导致光学性能下降。本申请还同时提供了一种具有上述有益效果的透明遮罩及车载显示设备。

A transparent mask and its fabrication method, and an on-board display device

【技术实现步骤摘要】
一种透明遮罩及其制作方法、一种车载显示设备
本申请涉及汽车制造领域，特别是涉及一种透明遮罩及其制作方法、一种车载显示设备。
技术介绍
随着社会的发展，汽车已经进入了家家户户，我国的私人汽车数量与日俱增，道路上的车辆也越来越密集，但这也造成了更多的环境污染与安全隐患。汽车轻量化可在意外事故中降低汽车对人体的损伤，方便急救人员对车祸现场进行处理及对事故人员进行救援，同时，如果汽车进一步轻量化，还能减小能耗，也就减小了污染物的排放，而低密度有机物材料PMMA具备有玻璃相近的光学特性，在汽车智能显示上已展开应用。为了通相关高温高湿测试，有效控制雾度值的变化量，PMMA的减反射膜的镀制采用蒸发镀膜。但蒸发镀膜生产效率较低、能耗极高，因此，找到一种能快速低能耗地在PMMA表面设置减反射膜的方法，是本领域技术人员亟待解决的问题。申请内容本申请的目的是提供一种透明遮罩及其制作方法、一种车载显示设备，以解决现有技术中采用蒸发镀膜在PMMA基材表面设置减反射膜效率低、能耗高的问题。为解决上述技术问题，本申请提供一种透明遮罩的制作方法，包括：在PMMA基材上通过磁控溅射技术设置二氧化硅过渡层，所述二氧化硅过渡层的沉积速率的范围为0.1纳米每秒至0.25纳米每秒，包括端点值；在所述二氧化硅过渡层表面垂直于所述二氧化硅过渡层延伸方向通过磁控溅射技术层叠设置多个减反单元层，得到所述透明遮罩；其中，每个所述减反单元层包括一层二氧化硅减反层及一层二氧化钛减反层，所述二氧化钛减反层位于靠近所述PMMA基材的一侧。可选地，在所述透明遮罩的制作方法中，所述二氧化钛减反层的沉积速率的范围为0.1纳米每秒至0.2纳米每秒，包括端点值。可选地，在所述透明遮罩的制作方法中，所述二氧化硅减反层的沉积速率的范围为0.4纳米每秒至0.6纳米每秒，包括端点值。可选地，在所述透明遮罩的制作方法中，在PMMA基材上通过磁控溅射技术设置二氧化硅过渡层之前，还包括：对所述PMMA基材进行表面清洗、干燥。本申请还提供了一种透明遮罩，所述透明遮罩为通过上述任一种所述的透明遮罩的制作方法得到的透明遮罩。可选地，在所述透明遮罩中，所述二氧化硅过渡层的厚度范围为10纳米至20纳米，包括端点值。可选地，在所述透明遮罩中，所述二氧化硅减反层的厚度范围为15纳米至100纳米，包括端点值。可选地，在所述透明遮罩中，所述二氧化钛减反层的厚度范围为12纳米至40纳米，包括端点值。本申请还提供了一种车载显示设备，所述车载显示设备包括上述任一种所述的透明遮罩。本申请所提供的透明遮罩的制作方法，通过在PMMA基材上通过磁控溅射技术设置二氧化硅过渡层，所述二氧化硅过渡层的沉积速率的范围为0.1纳米每秒至0.25纳米每秒，包括端点值；在所述二氧化硅过渡层表面垂直于所述二氧化硅过渡层延伸方向通过磁控溅射技术层叠设置多个减反单元层，得到所述透明遮罩；其中，每个所述减反单元层包括一层二氧化硅减反层及一层二氧化钛减反层，所述二氧化钛减反层位于靠近所述PMMA基材的一侧。在现有技术中，汽车的显示设备通常采用玻璃遮罩，但这些结构通常不承担增加车体结构强度的作用，仅需满足光学要求，因此本申请中，用重量更低的同样透明的亚克力材料(PMMA)对现有技术中的玻璃进行了替代，减轻了成品的重量，同时本申请规定的所述基材通过磁控溅射法对膜层进行沉积，相比其他镀膜方式大大缩减了膜层的镀制周期，降低了镀制能耗，同时，在规定的所述二氧化硅过渡层的沉积速率内，可大大减少所述二氧化硅过渡层的缺陷密度，降低所述二氧化硅过渡层的内应力，使所述透明遮罩在进行后续的高温高湿环境测试时不会因为应力释放导致膜层微结构发生改变进面导致光学性能的下降，在防眩光的同时增加所述透明遮罩的透光率，以满足车载设备的要求。本申请还同时提供了一种具有上述有益效果的透明遮罩及车载显示设备。附图说明为了更清楚的说明本申请实施例或现有技术的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单的介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本具体实施方式提供的透明遮罩的制作方法的一种具体实施方式的流程示意图；图2为本具体实施方式提供的透明遮罩的制作方法的另一种具体实施方式的流程示意图；图3为本具体实施方式提供的透明遮罩的一种具体实施方式的结构示意图。具体实施方式需要预先说明的是，本申请中的PMMA基材，指的是聚甲基丙烯酸甲酯基材，又名亚克力基材。为了使本
的人员更好地理解本申请方案，下面结合附图和具体实施方式对本申请作进一步的详细说明。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。本申请的核心是提供一种透明遮罩的制作方法，其一种具体实施方式的流程示意图如图1所示，称其为具体实施方式一，包括：步骤S101：在PMMA基材上通过磁控溅射技术设置二氧化硅过渡层，所述二氧化硅过渡层的沉积速率的范围为0.1纳米每秒至0.25纳米每秒，包括端点值。步骤S102：在所述二氧化硅过渡层表面垂直于所述二氧化硅过渡层延伸方向通过磁控溅射技术层叠设置多个减反单元层，得到所述透明遮罩；其中，每个所述减反单元层包括一层二氧化硅减反层及一层二氧化钛减反层，所述二氧化钛减反层位于靠近所述PMMA基材的一侧。特别地，所述二氧化钛减反层的沉积速率的范围为0.1纳米每秒至0.2纳米每秒，包括端点值，如0.10纳米每秒、0.16纳米每秒或0.20纳米每秒中任一个；更进一步地，所述二氧化硅减反层的沉积速率的范围为0.4纳米每秒至0.6纳米每秒，包括端点值，如0.40纳米每秒、0.50纳米每秒或0.60纳米每秒中任一个。上述数据为经过理论计算和实际检验得到的结果，在上述参数范围内，制得的所述反射单元层的所述二氧化钛减反层及二氧化硅减反层内部缺陷密度大大降低，内应力下降，避免后期测试时内应力释放影响所述透明遮罩的光学性能。需要特别注意的是，沉积所述二氧化硅过渡层及二氧化硅减反层的磁控溅射的靶材可以选择硅靶或二氧化硅靶；沉积所述二氧化钛减反层的磁控溅射的靶材可以选择钛靶或二氧化钛靶。更进一步地，所述PMMA基材为经过防眩光处理的PMMA基材。本申请所提供的透明遮罩的制作方法，通过在PMMA基材上通过磁控溅射技术设置二氧化硅过渡层，所述二氧化硅过渡层的沉积速率的范围为0.1纳米每秒至0.25纳米每秒，包括端点值；在所述二氧化硅过渡层表面垂直于所述二氧化硅过渡层延伸方向通过磁控溅射技术层叠设置多个减反单元层，得到所述透明遮罩；其中，每个所述减反单元层包括一层二氧化硅减反层及一层二氧化钛减反层，所述二氧化钛减反层位于靠近所述PMMA基材的一侧。在现有技术中，汽车的显示设备通常采用玻璃遮罩，但这些结构通常不承担增加车体结构强度的作用，仅需满足光学要求，因此本申请中，用重量更低的同样透明的亚克力材料(PMMA)对现有技术中的玻璃进行了替代，减轻了成品的重量，同时本申请规定的所述基材通过磁控溅射法对膜层进行沉积，相比其他镀膜方式大大缩减了膜层的镀制本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种透明遮罩的制作方法，其特征在于，包括：在PMMA基材上通过磁控溅射技术设置二氧化硅过渡层，所述二氧化硅过渡层的沉积速率的范围为0.1纳米每秒至0.25纳米每秒，包括端点值；在所述二氧化硅过渡层表面垂直于所述二氧化硅过渡层延伸方向通过磁控溅射技术层叠设置多个减反单元层，得到所述透明遮罩；其中，每个所述减反单元层包括一层二氧化硅减反层及一层二氧化钛减反层，所述二氧化钛减反层位于靠近所述PMMA基材的一侧。

【技术特征摘要】
1.一种透明遮罩的制作方法，其特征在于，包括：在PMMA基材上通过磁控溅射技术设置二氧化硅过渡层，所述二氧化硅过渡层的沉积速率的范围为0.1纳米每秒至0.25纳米每秒，包括端点值；在所述二氧化硅过渡层表面垂直于所述二氧化硅过渡层延伸方向通过磁控溅射技术层叠设置多个减反单元层，得到所述透明遮罩；其中，每个所述减反单元层包括一层二氧化硅减反层及一层二氧化钛减反层，所述二氧化钛减反层位于靠近所述PMMA基材的一侧。2.如权利要求1所述的透明遮罩的制作方法，其特征在于，所述二氧化钛减反层的沉积速率的范围为0.1纳米每秒至0.2纳米每秒，包括端点值。3.如权利要求2所述的透明遮罩的制作方法，其特征在于，所述二氧化硅减反层的沉积速率的范围为0.4纳米每秒至0.6纳米每秒，包括端点...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘正兵，段成兵，周伟杰，
申请(专利权)人：信利光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44