【技术实现步骤摘要】
扇出型半导体封装件本申请要求于2018年2月9日在韩国知识产权局提交的第10-2018-0016157号韩国专利申请的优先权的权益,该韩国专利申请的公开内容通过引用全部包含于此。
本公开涉及一种半导体封装件,更具体地,涉及一种电连接结构可延伸到其中设置有半导体芯片的区域的外部的扇出型半导体封装件。
技术介绍
近来,与半导体芯片相关的技术发展的显著趋势是减小了半导体芯片的尺寸。因此,在封装
中,随着对小尺寸半导体芯片等的需求的快速增加,需要在包括多个引脚的同时实现具有紧凑尺寸的半导体封装件。提出满足上述技术需求的半导体封装技术的一种类型是扇出型半导体封装件。这样的扇出型封装件具有紧凑的尺寸,并且可通过使连接端子重新分布到设置有半导体芯片的区域的外部来实现多个引脚。
技术实现思路
本公开的一方面可提供一种可通过减少布线路径实现优异的电特性并且可减少成本的扇出型半导体封装件。根据本公开的一方面,可提供一种扇出型半导体封装件,在所述扇出型半导体封装件中,引入了具有凹部以及设置在所述凹部的底表面上的止挡层的框架,在所述凹部中设置半导体芯片,并且在不使用昂贵的铜柱的情况下,在所述半导体芯片的有效表面上预先形成树脂层,以通过镀覆等形成重新分布层确保布线路径。根据本公开的一方面,一种扇出型半导体封装件可包括:框架,包括多个绝缘层、设置在所述多个绝缘层上的多个布线层以及穿过所述多个绝缘层并使所述多个布线层彼此电连接的多个连接过孔层,并且所述框架具有凹部以及设置在所述凹部的底表面上的止挡层;半导体芯片,包括主体和钝化层,所述主体具有设置有连接焊盘的有效表面以及与所述有效表面 ...
【技术保护点】
1.一种扇出型半导体封装件,所述扇出型半导体封装件包括:框架,包括多个绝缘层、设置在所述多个绝缘层上的多个布线层以及穿过所述多个绝缘层并使所述多个布线层彼此电连接的多个连接过孔层,并且所述框架具有凹部以及设置在所述凹部的底表面上的止挡层;半导体芯片,包括主体和钝化层,所述主体具有设置有连接焊盘的有效表面以及与所述有效表面相对的无效表面,所述钝化层设置在所述有效表面上并且具有使所述连接焊盘的至少部分暴露的开口,所述半导体芯片设置在所述凹部中使得所述无效表面连接到所述止挡层;树脂层,设置在所述半导体芯片的所述有效表面上;包封剂,覆盖所述半导体芯片和所述树脂层中的每个的侧表面的至少部分并且填充所述凹部的至少部分;第一重新分布层,设置在所述树脂层和所述包封剂上;第一重新分布过孔,穿过所述树脂层以填充所述树脂层中的使所述连接焊盘的至少部分暴露的通路孔,并使所述连接焊盘和所述第一重新分布层彼此电连接;以及连接构件,设置在所述树脂层和所述包封剂上,并且包括电连接到所述第一重新分布层的一个或更多个第二重新分布层,其中,所述连接焊盘电连接到所述多个布线层。
【技术特征摘要】
2018.02.09 KR 10-2018-00161571.一种扇出型半导体封装件,所述扇出型半导体封装件包括:框架,包括多个绝缘层、设置在所述多个绝缘层上的多个布线层以及穿过所述多个绝缘层并使所述多个布线层彼此电连接的多个连接过孔层,并且所述框架具有凹部以及设置在所述凹部的底表面上的止挡层;半导体芯片,包括主体和钝化层,所述主体具有设置有连接焊盘的有效表面以及与所述有效表面相对的无效表面,所述钝化层设置在所述有效表面上并且具有使所述连接焊盘的至少部分暴露的开口,所述半导体芯片设置在所述凹部中使得所述无效表面连接到所述止挡层;树脂层,设置在所述半导体芯片的所述有效表面上;包封剂,覆盖所述半导体芯片和所述树脂层中的每个的侧表面的至少部分并且填充所述凹部的至少部分;第一重新分布层,设置在所述树脂层和所述包封剂上;第一重新分布过孔,穿过所述树脂层以填充所述树脂层中的使所述连接焊盘的至少部分暴露的通路孔,并使所述连接焊盘和所述第一重新分布层彼此电连接;以及连接构件,设置在所述树脂层和所述包封剂上,并且包括电连接到所述第一重新分布层的一个或更多个第二重新分布层,其中,所述连接焊盘电连接到所述多个布线层。2.根据权利要求1所述的扇出型半导体封装件,其中,所述树脂层的上表面和所述包封剂的上表面彼此共面。3.根据权利要求2所述的扇出型半导体封装件,其中,所述多个布线层中的最上面的布线层的上表面与所述树脂层的所述上表面和所述包封剂的所述上表面共面,并且所述第一重新分布层的至少部分与所述多个布线层中的所述最上面的布线层的至少部分物理接触。4.根据权利要求2所述的扇出型半导体封装件,其中,所述多个连接过孔层中的最上面的连接过孔层的上表面与所述树脂层的所述上表面和所述包封剂的所述上表面共面,并且所述第一重新分布层的至少部分与所述多个连接过孔层中的所述最上面的连接过孔层的至少部分物理接触。5.根据权利要求1所述的扇出型半导体封装件,其中,所述树脂层包括光可成像介电质。6.根据权利要求1所述的扇出型半导体封装件,其中,所述多个绝缘层包括芯绝缘层、设置在所述芯绝缘层的下表面上的一个或更多个第一积聚绝缘层以及设置在所述芯绝缘层的上表面上的一个或更多个第二积聚绝缘层,并且所述芯绝缘层具有比所述第一积...
【专利技术属性】
技术研发人员:黑柳秋久,明俊佑,金恩实,金暎阿,
申请(专利权)人:三星电子株式会社,
类型:发明
国别省市:韩国,KR
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