按键结构制造技术

本发明专利技术公开一种按键结构，其包含底板、键帽、升降机构、活动件、连动支架及磁吸件。升降机构连接底板及键帽。活动件相对于底板滑动设置。连动支架具有枢转部、磁吸部及驱动部。磁吸件设置于底板上且能与磁吸部间产生磁吸力。当活动件位于第一位置时，枢转部可旋转地设置于活动件的突台上，磁吸力经由连动支架以驱使键帽远离底板移动。又，当活动件自第一位置移动至第二位置时，突台远离枢转部下方位置，使得枢转部脱离突台并朝下移动且键帽朝向底板移动。本发明专利技术的按键结构，键帽即使未受到按压外力，仍能下沉以便于收纳。又，键帽回复力非由弹性结构产生，故不会有先前技术中弹性构件可能永久变形而影响弹性的问题。

Key Structure

【技术实现步骤摘要】
按键结构
本专利技术涉及一种磁吸式按键结构，尤其指一种键帽可下沉收纳的磁吸式按键结构。
技术介绍
传统笔记本电脑键盘不具备下沉收纳设计，故不论计算机屏幕是开启或阖上，其键帽都保持在相同高度(未被按压的位置)，故传统键盘具有固定的高度。对于笔记本电脑而言，当使用者不需使用笔记本电脑时，用户会将屏幕合上，由于传统的按键无法下沉收纳，因此屏幕有可能与按键产生碰撞而受损。又，无法下沉收纳的按键较占据空间，造成笔记本电脑薄型化的限制。此外，若按键结构采用通过弹性构件(例如硅胶圆突)以提供键帽回复力的设计时，当键帽被强制下沉以便于收纳时，弹性构件原则上会长时间处于被压缩的状态，可能引起永久变形而影响弹性，不利于弹性构件的使用寿命。
技术实现思路
鉴于先前技术中的问题，本专利技术的目的在于提供一种按键结构，其利用磁吸力作为键帽回复力，并通过移开用于支撑产生磁吸力的支架的突台，以使键帽能下沉以便于收纳。为了达到上述目的，本专利技术提出一种按键结构，包含底板、键帽、升降机构、活动件、连动支架以及磁吸件。键帽设置于该底板之上；升降机构连接至该底板及该键帽之间，该键帽能通过该升降机构以相对于该底板沿着垂直方向移动；活动件相对于该底板沿着水平方向可移动地设置，该活动件包含活动板体与突台，该突台自该活动板体表面向上突出；连动支架具有枢转部、磁吸部及驱动部，该磁吸部及该驱动部位于该枢转部的两侧，该连动支架以该枢转部可旋转地设置于该突台上，该驱动部抵靠该升降机构及该键帽其中之一；磁吸件设置于该底板上，该磁吸部与该磁吸件间产生磁吸力；其中，当该活动件位于第一位置时，该磁吸件位于该磁吸部的下方，且该磁吸力经由该连动支架以驱使该键帽远离该底板；当该活动件自该第一位置水平移动至第二位置时，该突台远离该枢转部的下方位置，该枢转部脱离该突台并朝下移动，以使该键帽朝向该底板移动。于一实施例中，该突台具有顶面及导引斜面，该枢转部具有圆弧表面，当该活动件自该第二位置水平移动至该第一位置时，该导引斜面引导该圆弧表面自该活动板体表面向上滑动回到该顶面上。于一实施例中，该底板包含限位结构，当该活动件位于该第一位置时，该枢转部卡入该限位结构，当该活动件位于该第二位置时，该枢转部脱离该限位结构。于一实施例中，当该活动件位于该第一位置且该键帽未被按压时，该磁吸部线接触该磁吸件；或者，该磁吸部与该磁吸件分隔设置。于一实施例中，该连动支架底面具有让位槽，当该活动件位于该第二位置时，该突台进入该让位槽，以降低该枢转部与该突台叠合后的高度。于一实施例中，该按键结构进一步包含开关，该开关设置于该活动件上，其中当该活动件位于该第一位置时，该开关位于该连动支架下方，且当该活动件位于该第二位置时，该开关远离该连动支架沿该垂直方向向下的投影区域。于一实施例中，该连动支架具有触发部，当该活动件位于该第一位置且该键帽被按压时，该触发部触发该开关。于一实施例中，该升降机构包含相互枢接的第一支架及第二支架，该键帽能通过该第一支架及该第二支架以相对于该底板垂直移动，该第一支架以第一上端部与该键帽连接且该第一支架以第一下端部与该底板连接，该第二支架以第二上端部与该键帽连接且该第二支架以第二下端部与该底板连接。于一实施例中，该第一支架包含滑槽，该滑槽沿延伸方向延伸，该延伸方向由该第一下端部指向该第一上端部，该活动件包含滑勾，于该活动件自该第一位置移动至该第二位置的过程中，该滑勾于该滑槽内滑动并对该滑槽施力以使该第一支架朝向该底板旋转，进而降低该第一上端部高度。于一实施例中，该滑槽具有槽底面，该槽底面沿朝向该底板偏离该延伸方向的方向延伸，于该活动件自该第一位置移动至该第二位置的过程中，该滑勾朝向该第一下端部滑动于该槽底面上。于一实施例中，该第一支架及该第二支架相对于旋转轴向枢接，该驱动部抵靠邻近该第二支架的该第二上端部处，该滑槽及该驱动部于该垂直方向的投影位于该旋转轴向的同一侧；或者，该驱动部抵靠该键帽，该滑槽及该驱动部于该垂直方向的投影位于该旋转轴向的相对两侧。于一实施例中，该滑槽及该驱动部于该垂直方向的投影位于该旋转轴向的相对两侧时，该滑槽具有槽底面，该槽底面沿朝向该键帽偏离该延伸方向的方向延伸，于该活动件自该第一位置移动至该第二位置的过程中，该滑勾朝向该第一上端部滑动于该槽底面上。于一实施例中，该第一支架为外环，该第二支架为内环，该内环枢接于该外环内侧，该连动支架位于该内环内侧。于一实施例中，该连动支架包含塑料件及结合至该塑料件的顺磁性板件，该塑料件形成该驱动部及该枢转部，该顺磁性板件形成该磁吸部。于一实施例中，于该活动件自该第一位置移动至该第二位置的过程中，该磁吸力增加以使该连动支架朝向该底板旋转。于一实施例中，该按键结构进一步包含开关，该开关设置于该活动件上，其中该活动件设置于该底板之下。相较于先前技术，根据本专利技术的按键结构，键帽即使未受到按压外力，仍能下沉以便于收纳。又，键帽回复力(即磁吸力)非由弹性结构产生，故不会有先前技术中弹性构件可能永久变形而影响弹性的问题。以下结合附图和具体实施例对本专利技术进行详细描述，但不作为对本专利技术的限定。附图说明图1为根据一实施例的一按键结构的示意图。图2为图1中按键结构的部分爆炸图。图3为图1中按键结构的另一部分爆炸图。图4为图1中按键结构的爆炸图。图5为图4于另一视角的示意图。图6为图3中连动支架的爆炸图。图7为图6于另一视角的示意图。图8为图1中按键结构沿线X-X的剖面图。图9为图1中按键结构沿线Y-Y的剖面图，其切面通过底板的限位结构。图10为图8中按键结构于键帽被按压时的剖面图。图11为图8中按键结构处于收纳状态时的剖面图。图12为图8中按键结构根据另一实施例的剖面图。图13为图1中按键结构处于收纳状态时的侧视图，其中键帽以虚线绘示其轮廓。图14为根据另一实施例的一按键结构的部分爆炸图。图15为图14中按键结构的爆炸图。图16为图15于另一视角的示意图。图17为图14中按键结构的剖面图。图18为图17中按键结构处于收纳状态时的剖面图。图19为图14中按键结构处于收纳状态时的侧视图，其中键帽以虚线绘示其轮廓。具体实施方式以下各实施例的说明是参考附加的图式，用以例示本专利技术可用以实施的特定实施例。本专利技术所提到的方向用语，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「侧面」等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本专利技术，而非用以限制本专利技术。在以下实施例中，在不同的图中，相同部分是以相同标号表示。请参阅图1至图10。根据一实施例的按键结构1包含底板10、键帽12、升降机构14、活动件16、连动支架18、磁吸件20及开关电路板22。键帽12设置于底板10之上。升降机构14连接至底板10与键帽12之间，使得键帽12能通过升降机构14以相对于底板10实质沿着垂直方向D1(以双箭头表示于图1、图8至图10中)移动。活动件16相对于底板10实质沿着水平方向D2(以双箭头表示于图1、图8至图10中)可移动地设置。活动件16包含活动板体162与突台164，突台164自活动板体162的表面162a向上突出(或谓朝向键帽12突出)。活动件16可被操作以相对于底板10水平移动，以改变突台164相对于底板10的水平位置；于图1、图2、图8至图1本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种按键结构，其特征在于包含：底板；键帽，设置于该底板之上；升降机构，连接至该底板及该键帽之间，该键帽能通过该升降机构以相对于该底板沿着垂直方向移动；活动件，相对于该底板沿着水平方向可移动地设置，该活动件包含活动板体与突台，该突台自该活动板体表面向上突出；连动支架，具有枢转部、磁吸部及驱动部，该磁吸部及该驱动部位于该枢转部的两侧，该连动支架以该枢转部可旋转地设置于该突台上，该驱动部抵靠该升降机构及该键帽其中之一；以及磁吸件，设置于该底板上，该磁吸部与该磁吸件间产生磁吸力；其中，当该活动件位于第一位置时，该磁吸件位于该磁吸部的下方，且该磁吸力经由该连动支架以驱使该键帽远离该底板；以及当该活动件自该第一位置水平移动至第二位置时，该突台远离该枢转部的下方位置，该枢转部脱离该突台并朝下移动，以使该键帽朝向该底板移动。

【技术特征摘要】
1.一种按键结构，其特征在于包含：底板；键帽，设置于该底板之上；升降机构，连接至该底板及该键帽之间，该键帽能通过该升降机构以相对于该底板沿着垂直方向移动；活动件，相对于该底板沿着水平方向可移动地设置，该活动件包含活动板体与突台，该突台自该活动板体表面向上突出；连动支架，具有枢转部、磁吸部及驱动部，该磁吸部及该驱动部位于该枢转部的两侧，该连动支架以该枢转部可旋转地设置于该突台上，该驱动部抵靠该升降机构及该键帽其中之一；以及磁吸件，设置于该底板上，该磁吸部与该磁吸件间产生磁吸力；其中，当该活动件位于第一位置时，该磁吸件位于该磁吸部的下方，且该磁吸力经由该连动支架以驱使该键帽远离该底板；以及当该活动件自该第一位置水平移动至第二位置时，该突台远离该枢转部的下方位置，该枢转部脱离该突台并朝下移动，以使该键帽朝向该底板移动。2.根据权利要求1所述的按键结构，其特征在于：该突台具有顶面及导引斜面，该枢转部具有圆弧表面，当该活动件自该第二位置水平移动至该第一位置时，该导引斜面引导该圆弧表面自该活动板体表面向上滑动回到该顶面上。3.根据权利要求1所述的按键结构，其特征在于：该底板包含限位结构，当该活动件位于该第一位置时，该枢转部卡入该限位结构，当该活动件位于该第二位置时，该枢转部脱离该限位结构。4.根据权利要求1所述的按键结构，其特征在于：当该活动件位于该第一位置且该键帽未被按压时，该磁吸部线接触该磁吸件；或者，该磁吸部与该磁吸件分隔设置。5.根据权利要求1所述的按键结构，其特征在于：该连动支架底面具有让位槽，当该活动件位于该第二位置时，该突台进入该让位槽，以降低该枢转部与该突台叠合后的高度。6.根据权利要求1所述的按键结构，其特征在于：该按键结构进一步包含开关，该开关设置于该活动件上，其中当该活动件位于该第一位置时，该开关位于该连动支架下方，且当该活动件位于该第二位置时，该开关远离该连动支架沿该垂直方向向下的投影区域。7.根据权利要求6所述的按键结构，其特征在于：该连动支架具有触发部，当该活动件位于该第一位置且该键帽被按压时，该触发部触发该开关。8.根据权利要求1所述的按键结构，其特征在于：该升降机构包...

【专利技术属性】
技术研发人员：谢铭元，赵令溪，叶亮达，
申请(专利权)人：苏州达方电子有限公司，达方电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32